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helical plasmaとは 意味・読み方・使い方
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「helical plasma」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
HELICAL RESONATOR TYPE PLASMA PROCESSING APPARATUS例文帳に追加
ヘリカル共振器型のプラズマ処理装置 - 特許庁
To provide a helical resonator type plasma processing apparatus.例文帳に追加
ヘリカル共振器型のプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
HELICAL RESONANCE APPARATUS FOR PLASMA GENERATION例文帳に追加
プラズマ生成用の螺旋共振装置 - 特許庁
To provide a substrate processing apparatus that can facilitate connection work of a helical resonance coil, a power supply part, and a grounding part of a helical plasma generation resonator to obtain a stable connection status, and further, can prevent melting, burning, etc. of the power supply and grounding parts caused by abnormal electrical discharge.例文帳に追加
プラズマ生成用螺旋共振器の螺旋状共振コイルと給電部、接地部との接続作業が容易で、安定した接続状態が得られ、又異常放電による前記給電部、前記接地部の溶解、焼損等を防止する基板処理装置を提供する。 - 特許庁
The helical resonance apparatus for generation of plasma is equipped with a resonator (1) consisting of a container (11) composed decommpressible and supplied with gas for plasma, resonance coil (12) and an electrically grounded outer shield (13), and is provided with a high frequency power source (2) for supplying high frequency power.例文帳に追加
プラズマ生成用の螺旋共振装置は、減圧可能に構成され且つプラズマ用ガスが供給される容器(11)と、共振コイル(12)と、電気的に接地された外側シールド(13)とから成る共振器(1)、ならびに、共振コイル(12)に高周波電力を供給する高周波電源(2)を備えている。 - 特許庁
To provide a helical resonance apparatus improved in order to easily correspond to resonance characteristics with changed treatment conditions wherein, the apparatus is for generation of plasma applied to a plasma treatment unit for etching, ashing, CVD or the like on semiconductor substrates and the like.例文帳に追加
半導体基板などにエッチング、アッシング、CVD等の処理を施すプラズマ処理装置に適用されるプラズマ生成用の螺旋共振装置であって、処理条件の変更に対応して簡単に共振特性を適合させ得る様に改良されたプラズマ生成用の螺旋共振装置を提供する。 - 特許庁
In a plasma torch unit T, a helical conductor rod 3 is disposed in a quartz tube 4, and a brass block 5 is disposed around the quartz tube.例文帳に追加
プラズマトーチユニットTにおいて、螺旋形の導体棒3が石英管4の内部に配置され、その周囲に真鍮ブロック5が配置されている。 - 特許庁
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「helical plasma」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 9件
The cavity 40 is filled with an inert gas and sealed, and when high-frequency waves from a high-frequency power supply 45 are applied to a helical antenna 44, the inert gas is electrically discharged within the cavity 40, thereby generating plasma.例文帳に追加
空洞40の中には不活性ガスが封入されており、高周波電源45からの高周波がヘリカルアンテナ44に印加されると、空洞40内で不活性ガスが放電してプラズマが生成される。 - 特許庁
The plasma processing apparatus comprises a process chamber having a substrate holder supporting a procesing substrate, a dielectric tube installed at the upper part of the process chamber so as to be communicated with the interior of the process chamber, a helical coil wound around the dielectric tube, and an RF power source for feeding RF power to the helical coil.例文帳に追加
処理基板を支持する基板ホルダーを有する工程チャンバーと、工程チャンバーの内部と連通されるように工程チャンバーの上部に設置される誘電体管と、誘電体管の周りに巻かれた螺旋コイルと、螺旋コイルにRF電力を供給するためのRF電源と、を備えるプラズマ処理装置である。 - 特許庁
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