humidified furnaceとは 意味・読み方・使い方

A furnace wall of a reacting furnace 1 for manufacturing polycrystalline silicon is heated by circulating a heat medium through a passage 11 in the wall, humidified gas such as water vapor or humidified nitrogen is supplied into the reacting furnace 1 to hydrolyze polymers adhered to an inner surface of the reacting furnace 1, and then the adhered matter is removed.例文帳に追加

多結晶シリコン製造のための反応炉１の炉壁の流路１１に熱媒体を流通させることにより壁を加熱状態としておき、反応炉１の内部に水蒸気や加湿窒素等の加湿ガスを供給することにより、反応炉１の内面に付着しているポリマーを加水分解した後に、その付着物を除去する。 - 特許庁

The calcination is carried out while introducing humidified air obtained by humidifying air by passing through temperature-adjusted water into a firing furnace.例文帳に追加

前記仮焼は、空気を、温度を調整した水に通して加湿した加湿空気を、焼成炉中に導入しながら行う。 - 特許庁

In a similar way, a pipe wall of an exhaust gas pipe connected to the reacting furnace is heated and such humidified gas is supplied to hydrolyze polymers.例文帳に追加

反応炉に続く排ガス管についても同様に管壁を加熱状態として、加湿ガスを供給することによりポリマーを加水分解する。 - 特許庁

In addition, humidified air containing 10 to 30 vol.% of H_2O is brought into contact with the bloom at a temperature of 1,100 to 1,250°C for a period that does not exceed ten seconds after the bloom is removed from the heating furnace and before it is descaled.例文帳に追加

また前記加熱炉から取り出した後であってデスケーリング前に、１１００〜１２５０℃の温度で１０秒を超えない範囲で、Ｈ_2Ｏを１０〜３０体積％含む加湿空気と鋼片とを接触させる。 - 特許庁

There is provided a method for producing oriented oxide film, wherein a thin film of an oxide precursor containing fluorine is formed on a substrate, the substrate is placed in a heating furnace, and heat treatment is performed while applying a magnetic field under gas atmosphere containing humidified oxygen.例文帳に追加

基板上にフッ素を含む酸化物前駆体の薄膜を形成し、前記基板を加熱炉に設置し、加湿酸素含有ガス雰囲気下において磁場を印加しながら熱処理を施すことを特徴とする配向酸化物膜の製造方法。 - 特許庁