ion implantation techniqueとは 意味・読み方・使い方

ION IMPLANTATION PATTERN DETECTING TECHNIQUE例文帳に追加

イオン注入パターン検出方法 - 特許庁

In the introduction of the electromagnetic absorber section 40, a semiconductor micro fabrication technique such as ion implantation or thermal diffusion can be used.例文帳に追加

電磁波吸収体部40の導入において、イオン注入または熱拡散などの半導体微細加工技術を用いることができる。 - 特許庁

The conductive fine particle 102 is formed by introducing silver into the silicon oxide film 101 by an ion implantation technique.例文帳に追加

上記導電性微粒子１０２は、シリコン酸化膜１０１中に銀を負イオン注入法により導入して形成する。 - 特許庁

And then, a p-type diffusion layer 18 is formed using the openings 21 by ion implantation according to a self-aligning technique.例文帳に追加

そして、該開口部２１を用いて、自己整合技術によりＰ型の拡散層１８をイオン注入により形成する。 - 特許庁

A capacitor is formed in a substrate having a doped Perovskite conductive ground layer by embedding an ion layer using a method such as an ion implantation technique.例文帳に追加

キャパシタは、イオン注入のような方法を使用して、イオンの層を埋め込むことにより、ドープされたペロブスカイト導電性グランド層を有する基板内に形成される。 - 特許庁

A thick-film resist formed by a photolithographic technique and a film represented by a silicon oxide film formed by an etching technique with the resist patterns of the thick-film resist as a mask are laminated as a mask for ion implantation in a semiconductor manufacturing process step, by which the ion implantation mask patterns having fine patterns of a high aspect ratio not possible heretofore are obtained.例文帳に追加

半導体製造工程におけるイオン注入用マスクとして、フォトリソグラフィ技術により形成した厚膜レジストと、この厚膜レジストのレジストパターンをマスクとしてエッチング技術により形成した酸化シリコン膜に代表される膜を積層し、従来にない高アスペクト比の微細パターンを有するイオン注入マスクパターンを得るようにした。 - 特許庁

Further, secondly, a thick insulation region is formed by the oxygen ion implantation technique onto a semiconductor substrate below the winding belt-like conductive film that makes up the inductance element.例文帳に追加

更に、第２は、インダクタンス素子を構成する巻き線状の帯状導電膜の下の半導体基板表面に、酸素のイオン注入法により形成される厚い絶縁領域を形成する。 - 特許庁