laser produced plasmaとは 意味・読み方・使い方

In this vapor laser apparatus, the material vapor in a vacuum container 1 is excited by the electric discharge plasma P produced in the vacuum container 1 to produce lasers.例文帳に追加

真空容器１内で発生させた放電プラズマＰによって前記真空容器１内の物質蒸気を励起してレーザを発生させる蒸気レーザ装置である。 - 特許庁

The optimal waveform and frequency are determined so as to minimize a condition by detecting the condition that generation intensity of plasma or a plume produced on laser welding becomes equal to a certain threshold level or below.例文帳に追加

レーザ溶接時に発生するプラズマもしくはプルームの発生強度がしきい値以下になる状態を検出して、この状態が最小となるように最適波形と最適周波数を決定する。 - 特許庁

The present invention relates to the SOCOMO for generating a laser-produced plasma (LPP) that emits EUV, and a grazing-incidence collector (GIC) mirror having an input end and an output end and arranged relative to the LPP.例文帳に追加

ＥＵＶを放射するレーザ生成プラズマ（ＬＰＰ）を生成するためのＳＯＣＯＭＯと、入射端および出射端を有し、ＬＰＰに相対配置される斜入射集光器（ＧＩＣ）ミラーとに関する。 - 特許庁

To appropriately determine the timing to replace an extreme ultraviolet (EUV) collector mirror by accurately considering influence of a sputtering amount of the mirror in a laser-produced plasma (LPP) EUV light source device.例文帳に追加

ＬＰＰ式ＥＵＶ光源装置において、ＥＵＶコレクタミラーのスパッタ量を正確に反映させることにより、ミラー交換の時期を適切に判断できるようにする。 - 特許庁

To appropriately determine a timing to replace an extreme ultraviolet (EUV) collector mirror by accurately considering influence of a sputtering amount of the mirror in a laser-produced plasma (LPP) EUV light source device.例文帳に追加

ＬＰＰ式ＥＵＶ光源装置において、ＥＵＶコレクタミラーのスパッタ量を正確に反映させることにより、ミラー交換の時期を適切に判断できるようにする。 - 特許庁

In the laser welding device with which welding is carried out by irradiating a material 15 to be welded with the laser beam 1 and also which has an assist gas nozzle 3 for jetting assist gas 21 for blowing off the plasma 2 produced when the irradiation of the laser beam 1 is carried out, the tip part 11 of the assist gas nozzle 3 is adjustable to an arbitrary angle.例文帳に追加

レーザビーム１を被溶接材１５に照射することにより溶接を行うとともに、レーザビーム１を照射する際に発生するプラズマ２を吹き飛ばすためのアシストガス２１を噴射するアシストガスノズル３を有するレーザ溶接装置において、アシストガスノズル３の先端部１１は任意の角度に調整可能になっている。 - 特許庁

To elongate the useful life of an optical element by preventing debris, discharged from plasma produced by exciting a target in a chamber by laser beam together with EUV (extreme ultra violet) light, from adhering to an optical element provided in the chamber and forming a metal film, in an EUV light source device.例文帳に追加

ＥＵＶ光源装置において、チャンバ内のターゲットをレーザビームで励起することによって生成されるプラズマからＥＵＶ光と共に放出されるデブリが、チャンバ内に設けられた光学素子に付着し金属膜が形成されることを防止して、光学素子の耐用期間を延ばす。 - 特許庁

A conduction hole 4 is formed using a double surface copper-clad plate with the aid of a punch and a mold, and an insulating base member 2 including an exposed end of the conduction hole 4 produced upon half etching after processing of the hole 4 is removed by making use of laser processing, plasma etching, and wet etching.例文帳に追加

両面銅張り板を用いて、パンチ、金型で導通用孔４を形成し、この孔４の加工後にハ−フエッチングを行った際に発生する導通用孔４の端部の露出した絶縁べ−ス材２をレ−ザ−加工、プラズマエッチング、ウエットエッチング手法で除去する。 - 特許庁