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manufacturing featureとは 意味・読み方・使い方
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「manufacturing feature」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 98件
METHOD OF FEATURE PREDICTION, METHOD OF MANUFACTURING PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT, AND PROGRAM FOR FEATURE PREDICTION例文帳に追加
形状予測方法、フォトマスクの製造方法、電子部品の製造方法、および形状予測プログラム - 特許庁
STRUCTURE WITH FLUSH CIRCUIT FEATURE AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR例文帳に追加
同一平面回路フィーチャを有する構造およびその製法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING CMC ARTICLE HAVING SMALL COMPLEX FEATURE例文帳に追加
小さくて複雑な特徴部を有するCMC物品の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING TRANSISTOR AND MEMORY CELL WITH ULTRA-SHORT GATE FEATURE例文帳に追加
非常に短いゲート形状を有するトランジスタとメモリセルの製造方法 - 特許庁
ABRASIVE GRAIN WHEEL EQUIPPED WITH WORK VIEWING FEATURE AND METHOD OF MANUFACTURING THE WHEEL例文帳に追加
工作物目視特性を備えた砥粒ホイール及びその製造方法 - 特許庁
This feature can be applied for a picture program manufacturing aiding system.例文帳に追加
本発明は、映像プログラム製作支援システムに適用することができる。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING INTEGRATED CIRCUIT HAVING FEATURE WITH SMALL CRITICAL DIMENSION例文帳に追加
臨界寸法を小さくしたフィーチャを有する集積回路の製造方法 - 特許庁
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「manufacturing feature」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 98件
DEVICE-MANUFACTURING METHOD FOR REDUCING FEATURE DIMENSION CREATED BY LITHOGRAPHY AFTERWARDS例文帳に追加
リソグラフィで作成されるフィーチャ寸法を後で縮小するデバイス製作方法 - 特許庁
To provide a method of feature prediction by which accuracy of feature prediction can be improved regardless of the pattern feature and analysis efficiency can be improved, and to provide a method of manufacturing a photomask, a method of manufacturing electronic components and a program for feature prediction.例文帳に追加
本発明は、パターンの形状にかかわらず形状予測の精度を向上させることができ、かつ解析効率を向上させることができる形状予測方法、フォトマスクの製造方法、電子部品の製造方法、および形状予測プログラムを提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a novel polymer having a special feature of a sugar chain.例文帳に追加
糖鎖の特質を有する新規な重合体の製造方法を提供する。 - 特許庁
STRUCTURE HAVING TEMPLATE PROVIDED WITH NANOSCALE FEATURE AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
ナノスケールフィーチャを備えたテンプレートが形成されている構造体およびその作製方法 - 特許庁
FEATURE OF VINYL BAG FOR RECOVERY OF REFUSE BAG AND DAILY USE AND MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
ゴミ袋回収及び日常使用のためのビニール製袋の特徴と製造方法。 - 特許庁
In the method of manufacturing the micropattern of the semiconductor device, a first mask structure is formed in a first region A of a feature layer 310 and a second mask structure is formed in a second region B of the feature layer.例文帳に追加
フィーチャー層310の第1領域Aには第1マスク構造物を形成し、第2領域Bには第2マスク構造物を形成する。 - 特許庁
For the product claims including feature of manufacturing process, the examiner shall consider whether the feature of manufacturing process results in a certain particular structure and/or composition of the product.発音を聞く 例文帳に追加
製造方法の特徴を含む物の請求項の場合、審査官は、製造方法の特徴がその物についての特定の構造及び組成の両方又はいずれか一方をもたらすか否かを考慮する。 - 特許庁
For the product claims including feature of manufacturing process, the examiner shall consider whether the feature of manufacturing process results in a certain particular structure and/or composition of the product.発音を聞く 例文帳に追加
製造方法の特徴を含む物のクレームの場合、審査官は、製造方法の特徴がその物についての特定の構造及び組成の両方又はいずれか一方をもたらすか否かを考慮する。 - 特許庁
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