manufacturing process sensitivityとは 意味・読み方・使い方

To provide a test pattern with which a circuit pattern can be inspected for defects with high sensitivity in a semiconductor manufacturing process, a method for detecting defect, and a method for managing manufacturing process both of which use the test pattern.例文帳に追加

半導体製造プロセスにおける回路パターンの不良を高感度に検査可能なテストパターンと、これを用いた不良検出方法および製造プロセス管理方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image sensor capable of increasing sensitivity at the side of a pixel array and eliminating complexity on a manufacturing process caused by a process for forming micro lenses used for collecting incident light.例文帳に追加

画素アレイの側部における感度を増大させることができ、入射光を集光するために用いられるマイクロレンズの形成工程に起因する製造工程上の複雑性を解決することができるイメージセンサを提供すること。 - 特許庁

To provide a gas detecting element capable of manufacturing a sensor of simple sensor structure, simple in a manufacturing process, and having a high response speed and high sensitivity, and hydrogen sensor provided with the gas detecting element.例文帳に追加

センサ構造及び製造プロセスが単純で、かつ、応答速度や感度が高いセンサを製造することが可能なガス検出用素子及びこのガス検出用素子を備えた水素センサを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor acceleration sensor and its manufacturing method capable of realizing simplification of a manufacturing process and prevention of yield decline without lowering sensor sensitivity.例文帳に追加

センサ感度が低下することなく、製造工程の簡略化と歩留りの低下の防止とを実現することが可能な半導体加速度センサおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device and its manufacturing method capable of simplifying a manufacturing process and preventing decline of a yield without lowering sensor sensitivity.例文帳に追加

センサ感度が低下することなく、製造工程の簡略化と歩留まりの低下の防止とを実現することが可能な半導体装置及びその製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an MEMS element, using an MOSFET structure, small-sized and having high detection sensitivity, and a manufacturing method of an inexpensive MEMS element by a CMOS manufacturing process.例文帳に追加

ＭＯＳＦＥＴ構造を用いた、小型で、検出感度が高いＭＥＭＳ素子と、ＣＭＯＳ製造プロセスによる安価なＭＥＭＳ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide detecting agent capable of detecting germane and organic silicon compounds such as vinyltrimethylsilane, allylalkoxysilane, etc. discharged from a semiconductor manufacturing process, etc. with high sensitivity without being affected by atmospheric gas, such as hydrogen, etc. and preventing easy decrease of sensitivity due to light, etc. till its use.例文帳に追加

半導体製造工程等から排出されるゲルマン及びビニルトリメチルシラン、アリルトリメチルシラン等の有機ケイ素化合物を、水素等の雰囲気ガスに影響されることなく高感度で検知でき、しかも使用するまでの期間中、光等により容易に感度が低下しない検知剤を提供する。 - 特許庁

To provide a method for evaluating semiconductor substrate with high sensitivity for providing a wafer in which oxygen precipitation nucleus density near the surface of a semiconductor substrate is evaluated with high sensitivity to capture the difference in crystal quality, influences of oxygen precipitation nuclei in an actual device manufacturing process are further simply estimated, and a high manufacturing yield can be realized in the actual device process.例文帳に追加

半導体基板表面近傍の酸素析出核密度を高感度に評価して結晶品質の差を捉え、さらに実際のデバイス製造工程での酸素析出核の影響を簡便に推測し、実デバイス工程に於いて高歩留まりを実現できるウェーハを提供するための高感度な評価方法を提供することを目的としている。 - 特許庁