mark measurement methodとは 意味・読み方・使い方

MARK AND METHOD FOR OVERLAY MEASUREMENT AND SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING THE MARK例文帳に追加

重ね合わせ測定マーク及びその測定方法と重ね合わせ測定マークを有する半導体装置 - 特許庁

HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MEASURING MISALIGNMENT MEASUREMENT MARK例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスク及び合わせずれ測定マークの測定方法 - 特許庁

FOCUSING SYSTEM, METHOD FOR MEASURING COORDINATE OF SUBSTRATE EDGE, AND METHOD FOR MEASURING DISTANCE OF MARK FOR MEASUREMENT例文帳に追加

合焦点方式、基板エッジの座標測定方法及び測定用マークの距離測定方法 - 特許庁

MARK FOR INTER-LAYER DISPLACEMENT MEASUREMENT, STACKED BODY, LAYER POSITION DETECTION METHOD AND INTER-LAYER DISPLACEMENT DETECTION METHOD例文帳に追加

層間位置ずれ測定用マーク、積層体、層の位置検出方法、及び層間の位置ずれ検出方法 - 特許庁

To provide a method for enabling easy visual measurement of the relative position of a register mark for registering in multicolor printing, the register mark and a forming device of the register mark.例文帳に追加

多色印刷において、見当合わせを行うための見当マークの相対位置を目視で容易に測定できる方法、見当マーク、見当マーク生成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a mark arrangement inspection method capable of reducing errors in arranging marks to be arranged on scribe lines such as an alignment mark and a measurement mark in designing scribe line data.例文帳に追加

スクライブラインデータの設計時に、アライメントマークや計測マークなどのスクライブライン上に配置されるマークの配置ミスを低減することができるマーク配置検査方法を提供する。 - 特許庁

The method for measuring coordinates of the substrate edge using the above focusing system and the method for measuring the distance of the mark for measurement are provided.例文帳に追加

上記合焦点方式を用いた基板エッジの座標測定方法及び測定用マークの距離測定方法。 - 特許庁

To permit the measurement of an alignment mark at a focusing position while preventing the deterioration of a throughput such as the measurement of detecting system optical axis directional position at every alignment mark measurement or the like, in an exposure method and system employing a plurality of substrate supporting means.例文帳に追加

複数の基板支持手段を用いる露光方法および露光装置において、アライメントマーク計測毎に検出系光軸方向位置を計測する等のスループット低下を防ぎつつ、アライメントマークを合焦位置で計測すること。 - 特許庁