mask pattern designとは 意味・読み方・使い方

DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, PHOTOMASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

マスクパターンの設計方法、フォトマスク及び半導体装置 - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING DESIGN PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加

設計パターンの補正方法および露光マスクの製造方法 - 特許庁

To provide a method for correcting a mask pattern for accurately transferring a circuit pattern based on circuit design data, and to provide a mask pattern correction device, a circuit design device and a program for correcting the mask pattern.例文帳に追加

回路設計データに基づいた回路パターンを正確に転写するマスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラムマスクパターンを提供する。 - 特許庁

METHOD FOR SETTING DESIGN MARGIN OF WAFER PATTERN, METHOD FOR SETTING PATTERN ACCURACY AND METHOD FOR SETTING DESIGN MARGIN OF MASK PATTERN例文帳に追加

ウェハパターンの設計マージン設定方法、パターン精度設定方法およびマスクパターンの設計マージン設定方法 - 特許庁

Also, the pattern accuracy of the mask pattern is reverse calculated from the design margin M.例文帳に追加

また、この設計マージンＭからマスクパターンのパターン精度を逆算する。 - 特許庁

METHOD FOR CREATING DESIGN PATTERN DATA, METHOD FOR CREATING MASK PATTERN DATA, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, AND METHOD AND PROGRAM FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

設計パターンデータ作成方法、マスクパターンデータ作成方法、マスク製造方法、半導体装置の方法およびプログラム - 特許庁

METHOD FOR CORRECTING PATTERN, PATTERN CORRECTING SYSTEM, METHOD FOR MANUFACTURING MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PATTERN CORRECTING PROGRAM AND DESIGN PATTERN例文帳に追加

パターン補正方法、パターン補正システム、マスク製造方法、半導体装置製造方法、パターン補正プログラム、及び設計パターン - 特許庁

The mask is formed with a mask circuit pattern which is identical in design to other design circuit patterns, a mask top first mark which is overlapped in design with the substrate top first mark when the mask circuit pattern and the substrate top circuit pattern are overlapped at an overlapping position, and a mask top second mark which is overlapped in design with the substrate top second mark.例文帳に追加

マスクは、他の設計回路パターンと設計上は合同のマスク回路パターンと、マスク回路パターンと基板上回路パターンを重ね合わせ位置で重ねた場合に基板上第１マークと設計上重なるマスク上第１マークと、基板上第２マークと設計上重なるマスク上第２マークを有する。 - 特許庁