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mask patternsとは 意味・読み方・使い方
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「mask patterns」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 695件
The mask patterns for odd number column and the mask patterns for even number column are separatedly provided.例文帳に追加
奇数カラム用のマスクパターンと偶数カラム用のマスクパターンを個別に用意する。 - 特許庁
To efficiently produce a mask having required mask patterns.例文帳に追加
所望のマスクパターンを有するマスクを効率良く製造する。 - 特許庁
A mask film is flattened by covering a gap between line-type patterns with the mask.例文帳に追加
ラインタイプパターン間をマスク膜で覆ってマスク膜を平坦化する。 - 特許庁
A mask 3 is the one having a plurality of patterns, and the analogous patterns to the patterns to be formed on a sample 7 are built in the mask 3 previously.例文帳に追加
マスク3は複数のパターンをもつマスクであり、試料7上に形成するパターンの相似パターンがあらかじめ作りこまれている。 - 特許庁
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「mask patterns」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 695件
The solder mask 30 is composed of mask patterns 31 used for supplying solder for mounting a ground terminal at the center, and the mask patterns 32 used for supplying the solder for mounting a signal terminal at the peripheries of the mask patterns 31.例文帳に追加
半田マスク30を、中央部にグランド端子の実装用半田の供給に用いるマスクパターン31と、その周辺に信号端子の実装用半田の供給に用いるマスクパターン32とから構成する。 - 特許庁
The fine hole patterns are formed by using the mask arranged with the negative resist and the auxiliary patterns.例文帳に追加
ネガレジストと、補助パターンを配置したマスクを用いて微細ホールパターンを形成する。 - 特許庁
The substrate is etched by using the first and second mask patterns as an etching mask.例文帳に追加
前記第1および第2マスクパターンをエッチングマスクとして用いて前記基板をエッチングする。 - 特許庁
Second mask patterns are formed between the sacrificial layers adjacent to sidewalls of the first mask patterns facing each other.例文帳に追加
前記第1マスクパターンの向い合う側壁と隣接した前記犠牲膜との間に第2マスクパターンを形成する。 - 特許庁
The sacrificial layers are removed to expose the first and second mask patterns and the substrate between the first and second mask patterns.例文帳に追加
前記犠牲膜を除去して前記第1および第2マスクパターンと共にその間の前記基板を露出させる。 - 特許庁
Width in the transverse direction of the laminated region is the same between adjacent mask patterns in a plurality of different mask patterns.例文帳に追加
積層領域の短手方向の幅は、異なる複数のマスクパターンにおける隣接するマスクパターン間で同一になるようにする。 - 特許庁
To make mask patterns able to be more exactly evaluated by taking the acceptance or rejection of a pattern relief into consideration in evaluating the mask patterns.例文帳に追加
マスクパターンを評価するに際して、パターン救済の可否を考慮することで、より正確なマスクパターンの評価を行うことが出来るのである。 - 特許庁
To provide a photomask formed with mask patterns with high accuracy.例文帳に追加
高精度にてマスクパターンが形成されたフォトマスクを提供する。 - 特許庁
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