mask patternsとは 意味・読み方・使い方

A mask 3 is the one having a plurality of patterns, and the analogous patterns to the patterns to be formed on a sample 7 are built in the mask 3 previously.例文帳に追加

マスク３は複数のパターンをもつマスクであり、試料７上に形成するパターンの相似パターンがあらかじめ作りこまれている。 - 特許庁

A third mask pattern is formed between the first patterns.例文帳に追加

第１のパターン間に第３のマスクパターンを形成する。 - 特許庁

The mask 1 has patterns formed at random positions.例文帳に追加

マスク１にはランダムな位置にパターンが形成されている。 - 特許庁

The sacrificial layers are removed to expose the first and second mask patterns and the substrate between the first and second mask patterns.例文帳に追加

前記犠牲膜を除去して前記第１および第２マスクパターンと共にその間の前記基板を露出させる。 - 特許庁

Second mask patterns are formed between the sacrificial layers adjacent to sidewalls of the first mask patterns facing each other.例文帳に追加

前記第１マスクパターンの向い合う側壁と隣接した前記犠牲膜との間に第２マスクパターンを形成する。 - 特許庁

A lower hard mask 109 is etched using the first and second etching mask patterns to form a hard mask pattern.例文帳に追加

第１及び第２のエッチングマスクパターンで下部のハードマスク１０９をエッチングし、ハードマスクパターンを形成する。 - 特許庁

Mask patterns, including patterns 40 corresponding to openings, patterns 41 corresponding to grooves, and dummy patterns 50-55 not transferred onto photoresist, are formed on a photo mask 34.例文帳に追加

開口部に対応するパターン４０と、溝に対応するパターン４１と、フォトレジストに転写されないダミーパターン５０〜５５とを含むマスクパターンが、フォトマスク３４に設けられている。 - 特許庁

The fine hole patterns are formed by using the mask arranged with the negative resist and the auxiliary patterns.例文帳に追加

ネガレジストと、補助パターンを配置したマスクを用いて微細ホールパターンを形成する。 - 特許庁