microstructure formationとは 意味・読み方・使い方

To uniformly seal a hollow microstructure through formation of a sealing film using a transfer method such as lamination or STP method or the like.例文帳に追加

ラミネーションやＳＴＰ法などの転写法を用いた封止膜の形成で、中空微細構造の封止が均一に行えるようにする。 - 特許庁

To provide a microstructure that can transfer an irregular pattern of a mold by curing a pattern formation layer by using a novel technique which has not been employed hitherto, and its manufacturing method.例文帳に追加

従来にない新規な手法によりパターン形成層を硬化させ、モールドの凹凸パターンを転写し得る微細構造体及びその製造方法を提案する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method of film formation for forming a uniform film on a surface of a microstructure formed on a wafer using a supercritical fluid as a medium.例文帳に追加

超臨界流体を媒体としてウエハ上に形成された微細構造表面に均一な膜を形成する成膜処理装置および成膜方法を提供する。 - 特許庁

The microstructure can be formed by a unique method of austenitization followed by multi-phase cooling in a manner that avoids bainite and pearlite formation and precipitation at phase interfaces.例文帳に追加

このミクロ組織は、オーステナイト化、ならびに相界面でのベイナイトおよびパーライトの形成および析出を回避する様式での引き続く多段階冷却の独特の方法によって、形成され得る。 - 特許庁

To provide a micropump and a sample treatment chip, and a sheet connector, having microstructure, allowing formation of a chip module, free from mounting mistake to another chip and malfunction, and used repeatedly.例文帳に追加

本発明は、微小構造でチップモジュール化することができ、他チップとの装着ミスや誤動作がなく、繰返し利用できるマイクロポンプと試料処理チップ、及びシールコネクタを提供することを目的とする。 - 特許庁

The detrimental formation of a secondary reaction zone (SRZ), after exposure to elevated temperatures, in the alloy microstructure of the product surface portion under the coating diffused at least partially into the product surface portion is avoided.例文帳に追加

製品表面部分に少なくとも部分的に拡散した被覆の下の製品表面部分の合金ミクロ組織中での、高温曝露後における、二次反応域（ＳＲＺ）の有害な形成を回避する。 - 特許庁

Therefore, this manufacturing method of the microstructure 1 is an imprint method which hardens the pattern formation layer 2a by the ionization radiation R which is completely different from a thermal imprint method and an optical imprint method, and can transfer the irregular pattern of the mold 5 by curing the pattern formation layer 2a by the novel technique which has not been employed hitherto.例文帳に追加

かくして、本発明の微細構造体１の製造方法では、熱インプリント方式や、光インプリント方式とは全く異なる電離放射線Rによりパターン形成層2aを硬化させるインプリント方式であり、従来にない新規な手法によりパターン形成層2aを硬化させ、モールド５の凹凸パターンを転写し得る。 - 特許庁

Based upon this composition, a quenching sequence is determined that provides a microstructure of greater than or equal to about 50 vol.% martensite and less than or equal to about 50 vol.% lower bainite, without substantial formation of ferrite, upper bainite, or granular bainite.例文帳に追加

この組成物に基づいて、フェライト、高ベイナイトまたは粒状ベイナイトの実質的形成を伴わずに、約５０容量％以上のマルテンサイトおよび約５０容量％以下の低ベイナイトの微細組織を提供する焼き入れ手順が決定された。 - 特許庁