molybdenum substrateとは 意味・読み方・使い方

To provide a molybdenum alloy and a metal substrate material for its high-temperature applications and use therefor.例文帳に追加

モリブデン合金およびその高温適用のための金属支持材料およびその使用の提供。 - 特許庁

Molybdenum, iron silicide or the like other than silicon can be used as a material for the substrate 17.例文帳に追加

また、基板１７の材質には、シリコン以外にモリブデン、ケイ化鉄などを用いることができる。 - 特許庁

A multilayer film 20 is formed on a substrate 10 by laminating molybdenum and silicon alternately.例文帳に追加

基板１０の上にモリブデンとシリコンを交互に積層した多層膜２０を形成する。 - 特許庁

A molybdenum/boron nitride (Mo/BN) multilayer film or a molybdenum/silicon oxide (Mo/SiO_2)multilayer film is deposited on a laminar diffraction grating substrate 1 or a diffraction grating substrate having a brazed grating groove on the surface by using molybdenum (Mo) 2 and boron nitride (BN) 3 or Mo 2 and silicon oxide (SiO_2) 3 as a film depositing material.例文帳に追加

ラミナー型回折格子基板１、またはブレーズド型の格子溝を表面に有する回折格子基板に、モリブデン（Mo）２と窒化ホウ素（BN）３、またはMo２と酸化ケイ素（SiO_2）３を成膜材料として用いた、Mo/BN多層膜、またはMo/SiO_2多層膜を成膜する。 - 特許庁

A second display substrate includes a common electrode disposed on a second substrate opposed to the first substrate and opposed to the silver-molybdenum alloy electrode.例文帳に追加

第２表示基板は、第１基板と向かい合う第２基板上に配置され、銀−モリブデン合金電極と対向する共通電極を含む。 - 特許庁

The photoelectric converting device is basically composed of a material layer containing a molybdenum oxide, and typically a substrate and a crystal film of a high purity molybdenum oxide formed on the substrate.例文帳に追加

本発明の光電変換デバイスは、基本的に酸化モリブデンを成分とする材料層から構成され、典型的には、基板と、この基板上に形成される高純度の酸化モリブデンの結晶薄膜とから成る。 - 特許庁

A first molybdenum layer 3a is formed on a surface of a glass substrate 2 in a first atmosphere containing a predetermined amount of oxygen, and a second molybdenum layer 3b is formed on the surface of the first molybdenum layer 3a in a second atmosphere low in content percentage of oxygen relative to that of the first atmosphere.例文帳に追加

所定量の酸素を含有する第１の雰囲気中で、ガラス基板２の表面に第１のモリブデン層３ａを成膜し、第１の雰囲気よりも酸素の含有率が低い第２の雰囲気中で、第１のモリブデン層３ａの表面に第２のモリブデン層３ｂを成膜する。 - 特許庁

The method for manufacturing a substrate 13 comprises the steps of forming a layer including the molybdenum on the substrate 13, preliminarily cleaning with heating the substrate 13 with the layer including the molybdenum exposed, and wet cleaning the substrate 13 that is clean processed with the temperature of the substrate set not more than 130°C.例文帳に追加

基板１３上にモリブデンを含む層を形成し、モリブデンを含む層が露出した状態において、基板１３に対して加熱を伴う前洗浄処理を行い、洗浄処理を行った基板１３を、その基板温度が１３０℃以下の状態においてウェット洗浄する基板１３の製造方法である。 - 特許庁