nano-devicesとは 意味・読み方・使い方

Each nano rectifying device has a plurality of first electrode lines (132, 232, 332, 432, 632, 732) and a plurality of device structures (136, 236, 336, 436, 636) disposed on a plurality of the first electrode lines and forms a plurality of the self-aligning nano rectifying devices.例文帳に追加

ナノ整流素子の各々は、複数の第１の電極ライン(132,232,332,432,632,732)と、この複数の第１の電極ライン上に配置された複数のデバイス構造(136,236,336,436,636)を有し、複数の自己整列型ナノ整流素子を形成する。 - 特許庁

To provide a nano-imprint-pattern forming metal mold and a manufacturing method of a member with a nano-level pattern capable of reducing the fraction defective of the substrates after pattern transfer in the manufacturing process of semiconductor devices etc.例文帳に追加

半導体デバイスなどの製造工程において、パターン転写後の基板の不良率を低減することができるナノインプリントパターン形成用金型およびナノレベルのパターンを有する部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a large number of reproducible, hyperbolic drum type elements by using an ion beam etching process, and a hyperboloidal drum type structure that is adjustable in size of an active layer and that is usable for manufacturing optical devices and an electronic devices of nano-scale.例文帳に追加

イオンビームエッチング法を利用して再演性のある双曲面ドラム型素子を大量に製造する方法、及び活性層の大きさの調節が可能であって、ナノ規模の光素子及び電子素子の製造に活用することができる、双曲面ドラム型構造を提供する。 - 特許庁

To provide a thin film manufacturing method and a thin film manufacturing system by which the deposition of a film in which clusters, etc., of metal particles are formed into nano-sized dot-like state on the surface of a base material can be facilitated and, when this film is used for various optical devices, etc., the miniaturization and performance enhancement of the devices can be easily attained.例文帳に追加

金属粒子のクラスターなどが基材表面上にナノサイズのドット状に形成された皮膜を形成することが容易であり、この皮膜を各種光学素子等に使用した場合に素子の小型化や高性能化を容易に達成できる薄膜の製造方法および薄膜製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a core-shell type hyper branched polymer suitable for nano fabrication consisting mainly of photolithography, especially for electron beams, EUV lithography, and improved in adhesiveness, sensitivity, and surface smoothness, and to provide a resist composition which contains the core-shell type hyper branched polymer as a base polymer, and can form fine patterns for producing semiconductor devices such as VLSI.例文帳に追加

光リソグラフィを中心としたナノファブリケーション、特に電子線、ＥＵＶリソグラフィに好適な、密着性、感度、及び表面平滑性を向上させたコアシェル型ハイパーブランチポリマーを得ること、及び、当該ハイパーブランチポリマーをベースポリマーとして含み、超ＬＳＩ等の半導体装置製造用の微細パターンを形成することが可能なレジスト組成物を提供する。 - 特許庁