optical gas maskとは 意味・読み方・使い方

To provide a method and device of exposure by which an optical lithography with shorter wave length is realized by facilitating substitution of inert gas for keeping the concentration of oxygen around a mask to an allowed value or lower, and to provide a mask with a pellicle used for the method and device.例文帳に追加

マスク周辺部の酸素濃度を許容値以下に保つ為の不活性ガス置換を容易にして、短波長化した光リソグラフィを実現する露光方法及び装置、並びにそれに用いるペリクル付きマスクを提供する。 - 特許庁

In a projection exposure of a photo mask pattern of a photo mask on a surface to be exposed by irradiating the photo mask pattern with the light from an exposure light source in a projection optical system, the concentration of an inert purge gas containing a specified quantity of inert gas filled in a space contacting a pellicle film is measured to execute the projection exposure with controlling the concentration of the inert gas.例文帳に追加

露光光源からの光でフォトマスク上のフォトマスクパターンを照射して前記フォトマスクパターンの像を投影光学系により被露光面に投影露光する際、ペリクル膜に接し、所定量の活性ガスを含む不活性ガスからなるパージガスで満たされた空間の前記活性ガスの濃度を測定し、前記活性ガスの濃度を制御しながら投影露光を行う。 - 特許庁

To provide a carbon dioxide snow jetting apparatus for washing washed matters such as a piezoelectric vibrator and optical parts using carbon dioxide gas snow and a mask and a tray carrying the piezoelectric vibrator and the optical parts, and a carbon dioxide gas snow jetting apparatus jetting the carbon dioxide gas snow to jetted matters.例文帳に追加

本発明の目的は、炭酸ガススノーを用いた圧電振動子や光学部品、及びそれらを搭載したマスクやトレーといった被洗浄物の洗浄用の炭酸ガススノー噴射装置、及び対象物に炭酸ガススノーを噴射する炭酸ガススノー噴射装置を提供することである。 - 特許庁

To develop an exposure apparatus for effectively partly purging an exposure optical path in the apparatus with an inert gas for emitting a pattern of a mask to a photosensitive substrate via a projection optical system.例文帳に追加

マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、露光装置内の露光光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする装置を開発する。 - 特許庁

To develop a means for partly effectively purging an ultraviolet optical path in an aligner, for emitting a photosensitive substrate with a pattern of a mask via a projection optical system by using ultraviolet rays as the exposure light with an inert gas in the apparatus.例文帳に追加

露光光として紫外光を用い、マスクのパターンを投影光学系を介して感光基板に照射する露光装置において、装置内の紫外光路を不活性ガスで部分的に有効にパージする手段を開発する。 - 特許庁

In the electro-optical device, a resist mask is formed on a TFT array substrate 10, and thereafter, an etching is performed in an etching gas environment containing oxygen, thereby, the resist mask is subjected to the etching and, at the same time, the surface of TFT array substrate 10 is subjected to the etching.例文帳に追加

電気光学装置において、ＴＦＴアレイ基板１０にレジストマスクを形成した後、酸素を含有するエッチングガス中でエッチングを行なうことにより、レジストマスクをエッチングしながらＴＦＴアレイ基板１０の表面をエッチングする。 - 特許庁

The etching of an optical member OW by the ion GI of reaction gas progresses with sputtered particles SP as a mask, and innumerable cone-shaped projections CP are formed corresponding to the positions of the sputtered particles SP.例文帳に追加

スパッタ粒子ＳＰがマスクとなって反応ガスのイオンＧＩによる光学部材ＯＷのエッチングが進行し、スパッタ粒子ＳＰの位置に対応してコーン状の突起ＣＰが無数に形成される。 - 特許庁