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optimum film thicknessとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 フィルムの最適厚さ
「optimum film thickness」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 70件
To obtain an optimum reference voltage regardless of the thickness of a tunnel insulation film.例文帳に追加
トンネル絶縁膜の厚さによらず、最適なレファレンス電圧を得る。 - 特許庁
To provide a film thickness detector notifying the optimum maintenance timing.例文帳に追加
最適なメンテナンス時期を通知する膜厚検知器を提供する。 - 特許庁
Optimum exposure energy and optimum developing bias corresponding to each film thickness are stored in a memory 127 as a film thickness corresponding value while they are made to correspond to each film thickness.例文帳に追加
各膜厚に対応する最適露光エネルギーおよび最適現像バイアスが膜厚対応値として各膜厚と対応させながらメモリ１２７に記憶される。 - 特許庁
To perform high-accuracy film thickness measurement by automatically performing adjustment so that the optimum light-receiving output may be obtained for film thickness measurement.例文帳に追加
膜厚を測定するのに最適な受光出力が得られるような調整を自動的に行い、高精度の膜厚測定を行う。 - 特許庁
To form the optimum film thickness in each of measuring objective liquids to measure a color in each of the measuring objective liquids.例文帳に追加
測定対象液体毎に最適な膜厚を形成し、測色対象液体を測色すること。 - 特許庁
Since exposure energy and developing bias are respectively set to the optimum exposure energy and the optimum developing bias corresponding to the film thickness of the photoreceptor 2, image forming processing is always performed on the optimum condition even when the film thickness of the photoreceptor 2 is varied.例文帳に追加
露光エネルギーおよび現像バイアスが感光体２の膜厚に応じた最適露光エネルギーおよび最適現像バイアスにそれぞれ設定されるため、感光体２の膜厚が変動したとしても、常に最適条件で画像形成処理を行うことができる。 - 特許庁
To deposit a surface protective film and a surface final protective film of an optimum thickness on a side wall of a trench provided to a semiconductor device.例文帳に追加
半導体装置が有するトレンチの側壁に最適な膜厚の表面保護膜および表面最終保護膜を堆積する。 - 特許庁
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「optimum film thickness」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 70件
To achieve colorimetric results having no differences between apparatuses and accurately form an optimum film thickness for every colorimetric object liquid.例文帳に追加
装置間で異なることのない測色結果を得るとともに、測色対象液体毎に最適な膜厚を正確に形成すること。 - 特許庁
To provide a slide table device capable of setting the optimum gas film thickness to achieve high rigidity.例文帳に追加
高剛性を得るための最適な気体膜厚さに設定することができるスライドテーブル装置を提供する。 - 特許庁
Consequently, the optimum exposure conditions can be found which correspond to both the uniform charging potential of the image carrier and film thickness of the image carrier.例文帳に追加
これにより、像担持体の一様帯電電位と像担持体の膜厚との両方に対応した最適露光条件を求めることができる。 - 特許庁
In addition, a first interlayer insulating film having a thickness that makes the distance between the semiconductor substrate and magnetic film optimum is formed between the substrate and the magnetic film, and a second interlayer insulating film having a thickness that makes the distance between the magnetic film and inductor appropriate is formed between the magnetic film and the inductor.例文帳に追加
そして、半導体基板と磁性膜との間には、該半導体基板と磁性膜との距離が最適となる厚さを有する第１の層間絶縁膜を形成し、また、磁性膜とインダクタとの間には、該磁性膜とインダクタとの距離が適切となる厚さを有する第２の層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁
In addition, a first interlayer insulating film having a thickness that makes the distance between the semiconductor substrate and the magnetic film optimum is formed between the substrate and the magnetic film, and second interlayer insulating film having a thickness that makes the distance between the magnetic film and the inductor appropriate is formed between the magnetic film and the inductor.例文帳に追加
そして、半導体基板と磁性膜との間には、該半導体基板と磁性膜との距離が最適となる厚さを有する第１の層間絶縁膜を形成し、また、磁性膜とインダクタとの間には、該磁性膜とインダクタとの距離が適切となる厚さを有する第２の層間絶縁膜を形成する。 - 特許庁
Formation of a semiconductor layer, measurement of the film thickness of the semiconductor layer, and crystallization thereof by light irradiation are carried out continuously, without being exposed to atmosphere, and the crystallization is carried out with an optimum light irradiation energy density found from the film thickness.例文帳に追加
半導体層形成、半導体層の膜厚測定および光照射による結晶化を大気に曝すことなく連続で行い、膜厚より求めた最適な光照射エネルギー密度によって結晶化を行う。 - 特許庁
To provide a film thickness control method for completely forming and removing coating with an optimum film thickness that is formed by using vapor obtained by evaporating stock solution.例文帳に追加
原液を蒸発させた蒸気を用いて形成する被膜の、最適の膜厚の被膜形成と除去とが完全におこなわれるような、膜厚管理方法を提供する。 - 特許庁
The film thickness of the image carrier is predicted based upon the frequency of rotation of the image carrier and the optimum exposure conditions are calculated based upon the predicted film thickness of the image carrier and a target uniform charging potential Vd.例文帳に追加
像担持体の回転回数に基づき像担持体の膜厚を予測し、この予測した像担持体の膜厚と目標一様帯電電位Ｖｄとに基づいて最適な露光条件を算出する。 - 特許庁
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