plasma current distributionとは 意味・読み方・使い方

The device also controls the power distribution of radiation electromagnetic waves by a displacement current control method to control a plasma distribution, thereby controls the uniformity of the plasma processing.例文帳に追加

放射電磁波電力分布を変位電流制御により制御し、プラズマ分布を制御してプラズマ処理の均一性を制御する。 - 特許庁

To provide an ion implantation device in which a uniformity of a beam current density distribution in a Y direction of the ion beam can be improved even if a plasma density distribution is not uniform in a plasma generator of an ion source.例文帳に追加

イオン源のプラズマ生成部内におけるプラズマ密度分布が均一でない場合でも、イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くする。 - 特許庁

To provide a plasma treatment apparatus enabling uniformity of discharge current distribution or arbitrary control in an electrode to be applied with high frequency.例文帳に追加

高周波を印加される電極における放電電流分布の均一化あるいは任意の制御を可能とすること。 - 特許庁

To provide a charged particle current measuring device and a plasma processing device which can accurately and easily determine the density of a charged particle and the electric potential distribution of a charged particle in plasma without negatively affecting the plasma processing of a work piece.例文帳に追加

精度よく、被処理物品のプラズマ処理に悪影響を与えないでプラズマ中の荷電粒子の密度や荷電粒子の電位分布を簡易に求めることができる荷電粒子電流計測装置及びプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ion source achieving improvement in uniformity of a beam current density distribution in a Y-direction of ribbon-like ion beams and a given uneven distribution, by making partially controllable a plasma density in the Y-direction inside a plasma generating vessel.例文帳に追加

プラズマ生成容器内のＹ方向におけるプラズマ密度を部分的に制御可能にして、リボン状イオンビームのＹ方向におけるビーム電流密度分布の均一性を良くすることや、所定の不均一な分布を実現可能にしたイオン源を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma treatment device of an inductive coupling type capable of various and arbitrary controls not depending on process conditions or plasma states for a current distribution inside an RF antenna, with a burden made light of a high-frequency power feeding system.例文帳に追加

高周波給電系統の負担を軽くし、ＲＦアンテナ内の電流分布についてプロセス条件あるいはプラズマ状態に依存しない多様かつ任意な制御可能な誘導結合型のプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To perform uniform melting treatment at an optional position in the width direction of a cast slab by adjusting distribution of alternating current magnetic fields thereby making an incident angle of a plasma arc on the surface of the cast slab always constant.例文帳に追加

交流磁場の分布を調整することによってプラズマアークの鋳鋼片表面への入射角を常に一定にし、鋳鋼片の幅方向の任意の位置において均一な溶融処理を行う。 - 特許庁