plasma cross sectionとは 意味・読み方・使い方

With the plasma head (10) being aligned with the substrate (4) and/or a corresponding and required number of plasma heads (10) being operated, the width of the zone (11) from which a layer is removed can be adjusted by directing plasma onto the substrate at the desired layer-removing width from a row of several plasma heads (10) disposed adjacent to one another or one plasma head having a modifiable cross section.例文帳に追加

プラズマヘッド（１０）を基板（４）に対してしかるべく位置合わせすること、及び／または対応する必要な数のプラズマヘッド（１０）を動作させて、１列の互いに隣接して配置したいくつかのプラズマヘッド（１０）または修正可能な断面を有する１つのプラズマヘッドから、望ましい層除去幅でプラズマを基板に向けることによって、層を除去するゾーン（１１）の幅を調整すればよい。 - 特許庁

To provide a plasma reactor for gas treatment which has an increased length and an increased cross section of a plasma-generating region, is thereby capable of decomposition and purification of large amounts of harmful gases, is improved in adhesion of an electrode material to a dielectric and carries out plasma discharge effectively.例文帳に追加

第１に、プラズマ発生領域の長さが増加し、第２に、プラズマ発生領域の断面積も増加し、もってこれらにより、多量の有害ガスを分解浄化可能であると共に、第３に、誘電体への電極材の密着性が向上し、第４に、プラズマ放電が効果的に行われる、ガス処理用のプラズマリアクタを提案する。 - 特許庁

Next, a hole 7 having a circular cross section reaching the rear side is formed from the side of the wiring layer 4 of the semiconductor substrate 2 by dry-etching using RIE or plasma, or by a processing means such as a laser or the like.例文帳に追加

次に、ＲＩＥやプラズマによるドライエッチング又はレーザ等の加工手段によって、半導体基板２の配線層４側から、裏面側に達する円形の断面を有するホール７を形成する。 - 特許庁

A method has an etching process wherein a specimen 21 with a resist pattern 30 formed on its top surface is subjected to plasma-aided dry etching for the formation of a layer with its cross section having protrusions.例文帳に追加

上面にレジストパターン３０が形成された試料２１に対して、プラズマによるドライエッチングを行なうことにより、試料２１の上部に断面凸状部を形成するエッチング工程を有している。 - 特許庁

The antenna part 40 has one or more slot holes 41 in a wall 40a whose cross section makes a short side, and converts the processing gas supplied into the rectangular waveguide 22 placed in an atmospheric pressure state to plasma by the microwave to emit the converted plasma from the slot holes 41 toward a processed object on the outside.例文帳に追加

アンテナ部４０は、その断面において短辺をなす壁４０ａに１又は複数のスロット孔４１を有しており、大気圧状態の矩形導波管２２内に供給された処理ガスをマイクロ波によってプラズマ化し、スロット孔４１から外部の被処理体へ向けて放出する。 - 特許庁

Thereafter, the surface of the insulating film is irradiated with reactive plasma having an action of chemically etching the insulating film, and the surface of the insulating film irradiated with the plasma is irradiated with inert gas ion for sputter etching to process a cross section of the connection hole into a forward tapered shape.例文帳に追加

その後、絶縁膜の表面に、絶縁膜を化学的にエッチングする作用を有する反応性プラズマを照射し、プラズマが照射された絶縁膜の表面に不活性ガスのイオンを照射してスパッタエッチングすることにより、接続孔の断面を順テーパーに加工する。 - 特許庁

The reaction tube has a cylindrical shape in cross section and has a reaction tube upper part connected to the terminal of a plasma discharge tube and a reaction tube lower part connected across a gasket 51 to the reaction tube upper part.例文帳に追加

反応管は断面円筒形をなし、プラズマ放電管の終端部と接続された反応管上部と、この反応管上部とガスケット５１を介して接続された反応管下部とを備えて構成した。 - 特許庁

In a vacuum chamber 15, included in the plasma etching apparatus, each projected stripe with a right-angle triangular cross section and each grove 57 are alternately formed on the surface of the cathode electrode 20 provided facing opposite to an anode electrode 37.例文帳に追加

プラズマエッチング装置を構成する真空チャンバ１５内において陽電極３７と対向して配される陰電極２０の表面に断面が直角三角形の突条５８と溝５７とを交互に形成する。 - 特許庁