plasma speedとは 意味・読み方・使い方

After cutting the hole H, the plasma arc is put off and the plasma torch is moved along an approximately circular- arcuate relief route at a sufficiently rapider speed than the cutting speed.例文帳に追加

孔Ｈの切断後、プラズマアークを消滅させて、切断速度より十分速い速度で逃げ経路に沿って略円弧状に移動させる。 - 特許庁

To provide a plasma processing apparatus which has a high processing speed and high uniformity.例文帳に追加

処理速度が大きく、均一性の高いプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To efficiently treating a substrate with plasma at a high speed.例文帳に追加

基材表面を高速でかつ効率良くプラズマ処理する。 - 特許庁

To attain the high speed of the address discharge of an AC plasma display device.例文帳に追加

ＡＣ型プラズマディスプレイ装置のアドレス放電を高速化すること。 - 特許庁

To provide a plasma treatment method which improves a plasma treatment speed and plasma treatment characteristics with reproducibility and stability, and reduces a plasma treatment cost, and to provide an apparatus.例文帳に追加

プラズマ処理速度の向上、プラズマ処理特性の向上を再現性良く、安定し達成可能とし、また、プラズマ処理コストの低減が可能なプラズマ処理方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma accelerator which can not only efficiently accelerate travelling speed of a plasma beam but is easy to produce and compose, and a plasma processing system equipped with the plasma accelerator.例文帳に追加

プラズマビームの移動速度を効率よく高められるのみならず、作製及び構成が簡単なプラズマ加速装置及び該装置を備えるプラズマ処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a plasma forming electrode, a plasma treatment device, and a plasma treatment method capable of applying a uniform treatment without generating local unevenness of the plasma at a large treatment speed.例文帳に追加

大きな処理速度でプラズマの局所的不均一を発生させることなく均一な処理を可能とする、プラズマ生成電極、プラズマ処理装置、および、プラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma CVD apparatus having a remote plasma discharging chamber which gives no ion impact and whose cleaning speed is not lowered.例文帳に追加

イオン衝撃が無く、クリーニング速度が低下しない、遠隔プラズマ放電室を有するプラズマCVD装置を与える。 - 特許庁