radical 93とは 意味・読み方・使い方

A mixed gas, of CF4 and O2 fed from a gas-feeding part 3 to an alumina discharge tube 2 is discharged using plasma in a plasma generating part 1 to produce an F radical R and the F radical R, is jetted from a nozzle part 20 to a silicon wafer W on a chuck 93, whereby the wafer W is subjected to local etching.例文帳に追加

ガス供給部３からアルミナ放電管２に供給されたＣＦ4とＯ2との混合ガスをプラズマ発生部１でプラズマ放電してＦラジカルＲを生成し、ＦラジカルＲをノズル部２０からチャック９３上のシリコンウエハＷに噴射することより、シリコンウエハＷを局所エッチングする。 - 特許庁