scatterometryとは 意味・読み方・使い方

Alignment of the template with a previously formed layer on a substrate, in one embodiment, is accomplished by using scatterometry.例文帳に追加

一実施形態では、基板上に予め形成された層に対するテンプレートの整列は散乱計測を用いて行われる。 - 特許庁

A scatterometry device having an illumination aperture diaphragm is provided with a field diaphragm in an intermediate image to control a spot size on a substrate.例文帳に追加

照明開口絞りを有するスキャトロメトリ装置において、中間像に視野絞りを設けて、基板上のスポットサイズを制御する。 - 特許庁

To measure more precisely the line width formed on a wafer in the optical line width measurement performed by using scatterometry technology.例文帳に追加

スキャテロメトリ技術を用いて行われる光学式の線幅測定において，ウェハ上に形成された線幅をより正確に測定する。 - 特許庁

In the scatterometry method, the difference target having sensitivities, which are different from each other, for a related parameter is printed in a calibration matrix to obtain a difference spectrum.例文帳に追加

スキャトロメトリ法では、関係パラメータに対してそれぞれ異なる感度を有する差ターゲットが、キャリブレーションマトリックスでプリントされ、差スペクトルが得られる。 - 特許庁

To provide a method for judging a parameter of a target structure not-so-sensitive to the change of a structure therebelow from scatterometry data.例文帳に追加

下にある構造体の変化に対してそれほど敏感でないターゲット構造体のパラメータをスキャトロメトリデータから判定する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing system that accurately evaluate the surface structure of a workpiece in a non-destructive manner, which has undergone a prescribed processing by the scatterometry method.例文帳に追加

スキャトロメトリ法により所定処理後の被処理体の表面構造を非破壊で正確に評価する処理方法及び処理システムを提供する。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing system that control a predetermined condition based upon a surface structure of a workpiece evaluated by a scatterometry method.例文帳に追加

スキャトロメトリ法により評価した被処理体の表面構造に基づいて所定条件を制御する処理方法及び処理システムを提供する。 - 特許庁

In the scatterometry technique, roughness values can be obtained by the use of a model including surface layer with variable parameters associated with a refractive index.例文帳に追加

スキャトロメトリ方法において、屈折率に関連する可変パラメータを有する表面層を含むモデルを使用することによって、ラフネスの値を取得することができる。 - 特許庁