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shift defectとは 意味・読み方・使い方

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Weblio専門用語対訳辞書での「shift defect」の意味

shift defect

Weblio専門用語対訳辞書はプログラムで機械的に意味や英語表現を生成しているため、不適切な項目が含まれていることもあります。ご了承くださいませ。

「shift defect」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 85



例文

DEFECT INSPECTION APPARATUS OF PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥検査装置 - 特許庁

DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥修正方法 - 特許庁

DEFECT REPAIR METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE METHOD例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥修正方法、位相シフトマスク及び露光方法 - 特許庁

METHOD FOR DETERMINING DEFECT SPECIFICATION IN PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクにおける欠陥仕様の決定方法 - 特許庁

METHOD AND APPARATUS FOR DEFECT INSPECTION FOR PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - 特許庁

DEFECT-CORRECTING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, AND DEVICE FOR THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥修正方法およびその装置 - 特許庁

例文

PHASE SHIFT RETICLE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND INSPECTION METHOD FOR DEFECT THEREIN例文帳に追加

位相シフトレチクルとその製造方法とその欠陥検査方法 - 特許庁

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「shift defect」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 85



例文

To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を確実に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を正確に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To correct a white defect having a phase effect in a halftone phase shift mask or to correct a recessed phase defect in a Levenson type phase shift mask.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの位相効果を持つ白欠陥修正やレベンソン型位相シフトマスクの凹型の位相欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a phase shift mask, which never detects a false defect of a pattern as a pattern defect by mistake when a pattern defect of the phase shift mask is inspected.例文帳に追加

位相シフトマスクのパターン欠陥検査に際し、パターンの疑似欠陥を誤ってパターン欠陥として検出することがないようにした、位相シフトマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT RETICLE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN PHASE SHIFTER例文帳に追加

位相シフトレチクルの製造方法および位相シフター欠陥修正方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CORRECTION OF SHIFTER RESIDUE DEFECT ON PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法並びに修正装置 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting device capable of simultaneously inspecting both of a chrome pattern and a phase shift pattern without detecting pseudo defect in a photomask in which the chrome pattern and the phase shift pattern coexist.例文帳に追加

クロムパターンと位相シフトパターンの混在フォトマスクにおいて、擬似欠陥を検出すること無く、両パターンを同時に検査できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

例文

To surely detect even a minute defect of a halftone type phase shift mask.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの微小な欠陥をも確実に検出できるようにする。 - 特許庁

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