「shift defect」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

DEFECT-CORRECTING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, AND DEVICE FOR THE SAME例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥修正方法およびその装置 - 特許庁

PHASE SHIFT RETICLE, ITS MANUFACTURING METHOD, AND INSPECTION METHOD FOR DEFECT THEREIN例文帳に追加

位相シフトレチクルとその製造方法とその欠陥検査方法 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を確実に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspection apparatus for a phase shift mask which is capable of surely detecting the defect, more particularly microdefects of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクの欠陥、特に微小欠陥を正確に検出できる位相シフトマスクの欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To correct a white defect having a phase effect in a halftone phase shift mask or to correct a recessed phase defect in a Levenson type phase shift mask.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの位相効果を持つ白欠陥修正やレベンソン型位相シフトマスクの凹型の位相欠陥修正を可能にする。 - 特許庁

To provide a method for inspecting a phase shift mask, which never detects a false defect of a pattern as a pattern defect by mistake when a pattern defect of the phase shift mask is inspected.例文帳に追加

位相シフトマスクのパターン欠陥検査に際し、パターンの疑似欠陥を誤ってパターン欠陥として検出することがないようにした、位相シフトマスクの検査方法を提供する。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT RETICLE AND METHOD FOR CORRECTING DEFECT IN PHASE SHIFTER例文帳に追加

位相シフトレチクルの製造方法および位相シフター欠陥修正方法 - 特許庁

METHOD AND DEVICE FOR CORRECTION OF SHIFTER RESIDUE DEFECT ON PHASE SHIFT MASK例文帳に追加

位相シフトマスクのシフタ残留欠陥修正方法並びに修正装置 - 特許庁

To provide a pattern defect inspecting device capable of simultaneously inspecting both of a chrome pattern and a phase shift pattern without detecting pseudo defect in a photomask in which the chrome pattern and the phase shift pattern coexist.例文帳に追加

クロムパターンと位相シフトパターンの混在フォトマスクにおいて、擬似欠陥を検出すること無く、両パターンを同時に検査できるパターン欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To surely detect even a minute defect of a halftone type phase shift mask.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの微小な欠陥をも確実に検出できるようにする。 - 特許庁

To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a pattern defect created in a basic pattern from a design value.例文帳に追加

基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁

PHOTOMASK DEFECT CORRECTION METHOD, PHOTOMASK MANUFACTURING METHOD, PHASE SHIFT MASK MANUFACTURING METHOD, PHOTOMASK, PHASE SHIFT MASK, PHOTOMASK SET, AND PATTERN TRANSFER METHOD例文帳に追加

フォトマスクの欠陥修正方法、フォトマスクの製造方法、位相シフトマスクの製造方法、フォトマスク、位相シフトマスク、フォトマスクセット及びパターン転写方法 - 特許庁

To provide a defect correcting method of a phase shift photomask that can raise and stabilize the yield of mask production by making efficient defect inspection and correction stages of the phase shift mask.例文帳に追加

位相シフトマスクにおける欠陥検査及び修正工程の効率化を図り、マスク生産における歩留の向上及び安定を図ることができる位相シフトマスクの欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a phase shift mask which makes the discovery of the defect produced in a phase shift layer possible in an early stage of a manufacturing process, a phase shift mask manufactured by this method for manufacturing the phase shift mask and a device manufactured by the phase shift mask.例文帳に追加

製造プロセスの早い段階で位相シフト層に生じた欠陥の発見を可能とする、位相シフトマスクの製造方法、その位相シフトマスクの製造方法により製造された位相シフトマスク、および、その位相シフトマスクにより製造された装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defect inspecting device having exact defect detection sensitivity even for a phase shift mask such as a halftone mask and a Levenson mask.例文帳に追加

ハーフトーンマスクやレベンソンマスク等の位相シフトマスクについても、正確な欠陥検出感度を備えた欠陥検査装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

Phase shift or a phase defect part included in an original signal u(0) is made dull by the addition of the delayed signals.例文帳に追加

遅延信号の加算により元の信号ｕ（０）に含まれる位相ずれや位相欠損部が鈍化する。 - 特許庁

To provide a pixel defect correction method by which even a digital camera adopting the pixel shift method can accurately correct defective pixels.例文帳に追加

画素ずらし方式のデジタルカメラにおいても、欠陥画素の補正を正確に行うことができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a halftone phase shift mask by which no correction scum of a residual defect is left when the residual defect of a halftone phase shift mask is removed by using an AFM (atomic force microscope) correcting device.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクの残留欠陥をＡＦＭ型修正機を用いて除去する際、残留欠陥の修正カスを残さないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

A white defect in a halftone phase shift mask or a recessed phase defect in a Levenson type phase shift mask is corrected to match the phase by depositing an electron beam CVD film 6 having high transmittance and a high phase effect such as tetramethoxysilane or the like.例文帳に追加

透過率が高く位相効果のあるテトラメトキシシラン等の電子ビームCVD膜６でハーフトーン型位相シフトマスクの白欠陥やレベンソン型位相シフトマスクの凹型の位相欠陥を位相が合うように修正する。 - 特許庁

To provide a halftone phase shift mask having no black defect in a light shielding layer or in a phase shift layer and no decrease in the transmittance due to gallium stain, and no change in the phase difference due to a decrease in the thickness of the phase shift layer.例文帳に追加

遮光層及び位相シフト層の黒欠陥のない、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層の厚み低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁

To provide a level shift circuit capable of coping with the case of a manufacturing defect caused in a capacitive element in a manufacturing process.例文帳に追加

製造プロセスの容量素子に製造欠陥が生じた場合に対応可能なレベルシフト回路を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask correction optical system for phase defect correction with which high-accuracy defect correction can be achieved by correcting while observing and measuring the degree of a defect on correcting a phase shift photomask having a phase defect, and to provide a correction device using the system.例文帳に追加

位相欠陥を持つ位相シフトフォトマスクの修正にあたり、欠陥の度合いを観察、測定しながら行うことにより高精度の欠陥修正を達成できる位相欠陥修正用フォトマスク修正光学系とそれを用いた修正装置を提供する。 - 特許庁

To reduce a synchronization error between an image carrier and an intermediate transfer body to prevent an image defect such as color shift.例文帳に追加

像担持体と中間転写体との間の同期誤差を低減して、色ずれ等の画像不良の発生を低減する。 - 特許庁

The dynamic defect detection test pattern can contain a last-shift-launch test pattern and a broad-side test pattern, for example.例文帳に追加

動的欠陥検出テストパターンは、例えば、ラスト−シフト−ローンチテストパターン及びブロードサイドテストパターンを含むことができる。 - 特許庁

For etching a glass of Levenson mask, etching Cr in a black defect of a binary mask or etching MoSi in a black defect of a phase shift mask, only the defect region 7 is selectively scanned with the tilted electron beam 4 while blowing xenon fluoride from a gas gun 8 to correct the defect.例文帳に追加

レベンソンマスクのガラスのエッチングや、バイナリマスクの黒欠陥のＣｒのエッチングや、位相シフトマスクの黒欠陥のＭｏＳｉのエッチングには、フッ化キセノンをガス銃８から流しながら前記の傾斜させた電子ビーム４で欠陥領域７のみ選択的に走査して欠陥の修正を行う。 - 特許庁

By this manner, the maximum moving distance in the local area is made short by correcting the total positional shift, in the defect detector 1, and the defect on a substrate 9 is efficiently detected taking the local positional shift into account.例文帳に追加

このように、欠陥検出装置１では全体的な位置ずれを補正することにより局所領域の最大移動距離を小さくすることができ、局所的な位置ずれを考慮した基板９上の欠陥検出を効率よく行うことができる。 - 特許庁

To provide a defect-correcting technique of high transmittance and satisfactory phase controllability, in order to provide a phase shift mask consisting of ruggedness of glass or quartz with high-quality defect correction.例文帳に追加

ガラスまたは石英の凹凸からなる位相シフトマスクに対して高品質な欠陥修正を提供するためには、高い透過率で、位相制御性も良い欠陥修正技術が必要である。 - 特許庁

Then image data of an inspection image obtained by a pattern defect inspecting device with inspection wavelength is compared and contrasted with the data for phase shift mask correspondence inspection to detect a pattern defect.例文帳に追加

続いて、検査波長でのパターン欠陥検査装置により得た検査画像の画像データと位相シフトマスク対応検査用データとを比較対照してパターン欠陥を検出する。 - 特許庁

If it exceeds the prescribed value, it is deemed that the circumferential weld part is detected rather than a defect, a shift is made to a step S13.例文帳に追加

もし、所定値以上であれば、それは欠陥でなく円周溶接部を検出しているものとして、ステップＳ１３に移る。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory which can perform easily defect detection of the data line redundancy replacing circuit of a shift system.例文帳に追加

シフト方式のデータ線冗長置換回路の不良検出を容易に行なうことができる半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for producing a semiconductor device, by which a fine pattern is formed even without using an assist pattern method or a phase shift mask and defect inspection on a mask is easily performed.例文帳に追加

補助パターン法や位相シフトマスクなどを用いずとも微細パターンの形成が可能で、かつマスクの欠陥検査を容易とする。 - 特許庁

The defect inspection method comprises steps of: transmitting at least two inspection light beams 8 for illumination through first and second light transmitting parts having the same phase of the phase shift mask; again transmitting the light beams through the light transmitting parts by a reflection plate 3; and comparing the intensities of the reflection light beams 9 to inspect the defect of the phase shift mask.例文帳に追加

少なくとも２つの検査照明光８を位相シフトマスクの位相が等しい第１、第２の光透過部を透過させ、反射板３で再度光透過部を透過させ、それらの反射光９の光強度を比較して、その強度差により位相シフトマスクの欠陥検査を行う。 - 特許庁

To provide an eaves type Levenson phase shift mask for transferring a fine pattern in which fragments of eaves are restored with high accuracy, and to provide a mask defect modifying method for restoring broken parts of the eaves of the eaves type phase shift mask.例文帳に追加

ひさし折れが修復された、微細パターンを高精度に転写できるひさし型レベンソン位相シフトマスクと、ひさし型位相シフトマスクのひさし折れ部分を修復できるマスク欠陥修正方法を提供する。 - 特許庁

To eliminate a defect such as enlargement due to the increases in strength and capacity of a transmission mechanism (a pulley width adjusting mechanism) and the deterioration in a gear shift response.例文帳に追加

変速機構部（プーリ幅調整機構）の強度アップまたはアクチュエータ容量アップのための大型化、変速レスポンスの低下、といった不具合を除去する。 - 特許庁

To achieve a defect inspection device which can obtain the same image shift amount in all cameras without enlarging the device even if a plurality of cameras are used.例文帳に追加

複数台のカメラを用いても装置が大型化せず、全てのカメラで同一の画像ずらし量を実現できる欠陥検査装置を実現する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory in which a mask write-in function can be easily realized even in a system by which relieving defect is performed by data line shift.例文帳に追加

データ線シフトにより不良救済を行う方式においても簡単にマスク書き込み機能を実現できるようにした半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a multilayer substrate with high precision that reduces a permeation defect of paste, shortens a detection time for a position shift, and obtains efficiency.例文帳に追加

ペーストの滲み不良の発生の低減を位置ずれの検出時間の短縮と効率化を可能にする、高精度な多層基板の製造法を提供する。 - 特許庁

To eliminate a defect such as enlargement due to an increases in strength and capacity of a transmission mechanism (a pulley width adjusting mechanism) and the deterioration in a gear shift response.例文帳に追加

変速機構部（プーリ幅調整機構）の強度アップまたはアクチュエータ容量アップのための大型化、変速レスポンスの低下、といった不具合を除去する。 - 特許庁

To provide shift information, considering a mode of action, which can generate particularly required torque, in view of a defect in the conventional technique.例文帳に追加

従来技術における欠点に鑑み、特に、要求されたトルクを生成することのできる作動モードを考慮したシフト情報の提供を達成すること。 - 特許庁

To provide an inspecting method for phase shift mask and an inspecting device for phase shift mask for optimizing a criterion for size of a defect to be detected according to results (individual differences of optical characteristics) of transmissivity, phase difference, etc., by phase shift masks, and the manufacturing method of a semiconductor device.例文帳に追加

位相シフトマスク毎の透過率や位相差などの出来映え（光学的特性の個体差）に応じて、検出すべき欠陥サイズの判定基準を適正化する位相シフトマスクの検査方法、位相シフトマスクの検査装置及び半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

A table of correlation between three-dimensional information of a glass defect 11 of the phase shift mask 10 and a CD (minute dimension) error of a transfer pattern is created and a specification in which the glass defect 11 is allowed is determined based on the table.例文帳に追加

位相シフトマスク１０のガラス欠陥１１の３次元情報と転写パターンのＣＤ（微細寸法）誤差との相関関係のテーブルを作成し、このテーブルを基にしてガラス欠陥１１の許容される仕様を決定する。 - 特許庁

A phase shift mask is inspected by a mask inspecting apparatus and the size relating to the detected phase defect is measured by using this inspecting apparatus or a measuring instrument for defect review and further the phase and transmittance are calculated by using an optical simulation.例文帳に追加

位相シフトマスクをマスク検査装置を用いて検査し、検出した位相欠陥についてこの検査装置もしくは欠陥レビュー用測定装置を用いてサイズを測定し、さらに光学シミュレーションを用いて、位相、透過率を算出する。 - 特許庁

To provide a semiconductor memory which permits high speed write-in cycle for a memory cell without requiring a standby time for shift decoding operation in accordance with a defective address is decided even if a data line shift system is used for relieving defect.例文帳に追加

不良救済にデータ線シフト方式を用いたとしても、不良アドレスに応じたシフトデコード動作が確定するまでの待ち時間を要することなく、メモリセルへの高速書き込みサイクルを可能にした半導体記憶装置を提供する。 - 特許庁

To manufacture a flexible substrate which is free of a galling defect and a shift in blanking position without using a film for reinforcement when the thin flexible substrate is blanked.例文帳に追加

薄いフレキシブル基板に打抜き加工を施す場合に、補強用フィルムを使用しなくても、カジリ不良や打抜き位置のずれのないフレキシブル基板の製造を実現する。 - 特許庁

To inspect a mask defect with high accuracy even in a Levenson type phase shift mask having a configuration that an engraved region and a non-engraved region are adjacent to each other.例文帳に追加

掘り込み領域と非掘り込み領域とが隣接するように構成されたレベンソン型位相シフトマスクであっても、高精度なマスク欠陥検査を行うことを可能とする。 - 特許庁