「shift defect」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a display device capable of correcting a display defect caused by a phase shift of signals input to a pixel part and an electronic apparatus provided with the display device.例文帳に追加

画素部に入力される信号の位相のずれに起因する表示の不良を補正する表示装置及び当該表示装置を具備する電子機器を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a carriage stop position adjusting apparatus which eliminates a read defect by eliminating an image read position shift due to, for example, misalignment of an optical axis through easy adjusting operation.例文帳に追加

画像読取装置において、簡単な調整作業で、例えば光軸ずれに基づく画像読取位置ずれをなくして読取不良を解消するキャリッジ停止位置調整装置を提供する。 - 特許庁

The obtained heat image is obtained to have properties so that the heat image may be used to calibrate phase shift from a given stack layer, or that the heat image may be used to specify a defect within a stacked die.例文帳に追加

得られた熱画像は、既知のスタックレイヤからの位相シフトを較正するのに用いられるよう、またはスタックダイ中の欠陥を特定するのに用いられるよう、その特性が得られる。 - 特許庁

An actual vehicle test is conducted using an ECU to analyze characteristics (S22), durability deterioration simulation is performed using a model while changing parameters (oil temperature TATF, etc.), to estimate gear shift defect event occurring in the simulation from model behavior changes (S26, S28), and endurance deterioration simulation is repeated until the gear shift defect event is removed to correct control algorithm (S30).例文帳に追加

ＥＣＵを用いて実機テストを行って特性を解析し（Ｓ２２）、パラメータ（油温ＴＡＴＦなど）を変化させつつ、モデルを用いて耐久劣化シミュレーションを実行し、よって生じる変速不具合事象をモデル挙動変化から予測し（Ｓ２６，Ｓ２８）、変速不具合事象が解消されるまで、耐久劣化シミュレーションを繰り返しつつ、制御アルゴリズムを修正する（Ｓ３０）。 - 特許庁

To provide a thermoplastic resin film subjected to embossing so as to prevent the shift of the edge surface of the thermoplastic resin film taken up after embossing is applied to the thermoplastic resin film and the occurrence of a product defect caused by the shift of the edge surface of the taken-up film, and an embossing apparatus.例文帳に追加

熱可塑性樹脂フィルムにエンボス加工を施した後に、巻き取られたフィルムの端面がずれることなく、それによる製品欠点が発生しないようにするエンボス加工された熱可塑性樹脂フィルムおよび熱可塑性樹脂フィルムのエンボス加工装置を提供する。 - 特許庁

In inspecting a liquid crystal display element, the separation of a pixel in which writing voltage fluctuates by the shift of the characteristic of the TFT from a defect showing the abnormality of the external appearance is performed by adding a frame B 23 such as to cancel the shift of the characteristic of the TFT to a frame A 21 for detecting writing voltage.例文帳に追加

液晶表示素子の検査において外観異常を伴なう欠陥とＴＦＴ特性シフトによって書込み電圧がばらついた画素の分離は、書込み電圧を検出するフレームＡ２１にＴＦＴの特性シフトをキャンセルするようなフレームＢ２３を追加することにより行う。 - 特許庁

By doing it this way, the command shift range _shift is not changed before or after the resetting even if the CPU is reset by any cause during travelling of a vehicle, and such defect that the shift range is switched of its own accord against driver's will can be dissolved, and the reliability on range switching control can be enhanced.例文帳に追加

このようにすれば、車両走行中にＣＰＵが何等かの原因でリセットされても、そのリセットの前後で指令シフトレンジｓｆｔが変更されず、運転者の意思に反してシフトレンジが勝手に切り換えられてしまう不具合を解消できて、レンジ切換制御の信頼性を向上できる。 - 特許庁

To provide a Levenson type phase shift mask having no divot (defect) in an opening (opening A) where the phase difference of transmitted light is to be 0°, even when a pinhole is present in a protective film protecting the opening A in the process of engraving the Levenson phase shift mask by etching.例文帳に追加

レベンソン型位相シフトマスクの掘込み部をエッチングによって形成する際に、透過光の位相差を０度とする開口部（開口部Ａ）となる部分を保護する保護膜にピンホールが存在しても、開口部Ａにディボット（欠陥）が形成されないレベンソン型位相シフトマスクを提供すること。 - 特許庁

To provide a semi-transmission type phase shift reticle that can suppress a pseudo defect caused in the oblique boundary line of a chamfered portion partitioning a circuit pattern region from a peripheral region, and to provide an inspection method for the reticle.例文帳に追加

回路パターン領域と周辺部領域とを区画する面取り部の斜め境界線で生じる疑似欠陥を抑制できる半透光方式の位相シフトレチクルとその検査方法を提供する。 - 特許庁

The minimum height (h) of the detected projecting defect Wi can be set arbitrarily by changing the shift amount (x) of the imaged position (focal position) 2b of the line sensor camera 2 from the boundary line We.例文帳に追加

検出される凸状欠陥Ｗｉの最小高さｈは、ラインセンサカメラ２の撮像位置（焦点位置）２ｂと前記境界線Ｗｅとのずれ量ｘを変えることで任意に設定できる。 - 特許庁

To provide a surface observation method for an optical member suitable for observation as to quality determination of the optical member, capable of correcting a shift between respective images about two surfaces of the optical member to correlate an image of a defect itself with a reflected image of the defect, while adopting a so-called one-face imaging method.例文帳に追加

いわゆる片面撮像方法を採用しつつも、光学部材の二つの表面に関する各画像のずれを補正して欠陥そのものの像と該欠陥の映り込み像とを対応づけることができる、光学部材の良否判定に関する観察に好適な光学部材の表面観察方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a device and method for defect inspection, capable of avoiding the effect caused by detected pixel shift and pixel crack, and capable of mutually adding scattered lights generated from almost the same region.例文帳に追加

検出画素ずれおよび画素割れによる影響を回避し、概略同一の領域から発生する散乱光同士を加算可能にする欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an image forming apparatus capable of forming a high-quality image free from an image defect such as color shift and banding by making the respective circumferential speeds of a photoreceptor and an intermediate transfer belt constant at a nip part (primary transfer part) between the photoreceptor and the intermediate transfer belt.例文帳に追加

感光体と中間転写ベルトのニップ部（一次転写部）での各々の周速を一定にし、色ずれ、バンディング等の画像不良のない高品位の画像を形成する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an interpolation device which enables preventing bit shift of demodulation signal when a 'false pulse' due to a noise is superposed to the phase-encoded modulated input signal or due to the pulse omitted caused by the defect, etc., on a disk.例文帳に追加

フェーズエンコード変調信号入力にノイズによる「偽のパルス」が重畳されたり、ディスク上のディフェクト等によりパルスが欠落した場合に復調信号のビットずれをなくすことができる内挿装置を提供する。 - 特許庁

To provide a photomask having an alignment mark for a photomask where a scanning track by an electron beam does not remain as a defect in a phase shift mask comprising a multilayer film which requires a plurality of times of exposure steps, and to provide a method for manufacturing the photomask.例文帳に追加

複数回の露光工程を必要とする多層膜からなる位相シフトマスクにおいて電子ビームのスキャン跡が欠陥として残らないフォトマスク用アライメントマークを有するフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Thus, a portion that could not be video-recorded due to a data defect caused during time-shift playback can be acquired until starting playback and the acquired substitute data is allocated to the defective position, thereby performing playback at the defective position.例文帳に追加

これにより、タイムシフト再生中にデータ欠損が生じて録画できなかった部分を、その再生開始までに取得することができ、取得した代替データを欠損位置に割り当てることで欠損位置での再生が可能となる。 - 特許庁

To provide a method of assembling a semiconductor device that prevents an electric connection defect due to inaccurate positioning, a position shift etc., between electrode members and reduces the production cost.例文帳に追加

電極部材間の不正確な位置合わせや位置ずれ等に起因する電気的接続不良の発生を防止することができるとともに生産コストを低減することができる半導体装置の組み立て方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a broadcast receiver and recording and playback method, wherein substitute data corresponding to a portion that could not be video-recorded due to a data defect caused during time-shift playback, can be acquired until playing back a defective position.例文帳に追加

タイムシフト再生中にデータ欠損が生じて録画できなかった部分に対応する代替データを、欠損した位置を再生するまでに取得することができる放送受信装置及び記録再生方法を提供する。 - 特許庁

To provide a phase shift photo mask which has sufficient transmittance of wavelength to be used even for a short exposure light wavelength, has proper transmittance of wavelength for defect inspections to successfully achieve the inspections, to provide a phase shift photo mask blanks for fabricating the mask, and to provide a method for fabricating a semiconductor device using the mask.例文帳に追加

短波長の露光波長に対しても十分な透過率が得られ、使用可能であると共に、欠陥検査波長に対しても適切な透過率を有し、満足すべき検査が可能となる位相シフトフォトマスク及び該マスクを製作するための位相シフトフォトマスクブランクス並びにこのマスクを用いた半導体装置の製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a retardation control element with which occurrence of a retardation defect causing light leakage, color shift etc. of a liquid crystal display device is suppressed and method for manufacturing the same, and the liquid crystal display device equipped with the retardation control element.例文帳に追加

液晶表示装置の光漏れや色シフトなどの原因となる位相差欠陥の発生を抑制することのできる位相差制御素子とその製造方法、およびかかる位相差制御素子を備える液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

Relief processing parts 21, 22 performing relief processing of redundant memories 11, 12 are provided with a plurality of defect relieving parts 211 to 21y, 221 to 22x having respectively shift register circuits Ln1 to Lny, L11 to L1x being a relief information storing part.例文帳に追加

冗長メモリ１１，１２の救済処理を行う救済処理部２１，２２は、救済情報格納部となるシフトレジスタ回路Ｌｎ１〜Ｌｎｙ，Ｌ１１〜Ｌ１ｘをそれぞれ有する複数の不良救済部２１１〜２１ｙ，２２１〜２２ｘを備えている。 - 特許庁

This invention relates to a method and a device with at least two incorporated sensors 140A and 140B which detect a defect, such as the breakage and the shift of the substrate 106 caused along lengths of at least two parallel ends of the substrate 106 being moved.例文帳に追加

移動中の基板１０６の少なくとも２つの平行な端部の長さに沿った、破損やずれ等の基板の欠陥の存在を検出する少なくとも２つのセンサ１４０Ａ、１４０Ｂを組み込んだ装置及び方法を提供する。 - 特許庁

To provide a cargo protective member wherein a shock and vibration can be effectively prevented to keep a cargo from being broken or damaged, movement due to a shift of the cargo is suppressed, and a defect of a precision instrument due to static electricity can be prevented from occurring.例文帳に追加

衝撃や振動を効果的に防止して、荷物の破損や損傷を防止するとともに、荷物のズレによる移動を抑止し、かつ静電気による精密機器の欠陥の発生を防止することができる荷物保護部材を提供すること。 - 特許庁

To provide a shift guiding device which definitely overcomes the defect of a conventionally known shift guiding device for transferring a container from the transfer star-shaped member to a top-like rotor of a container processing machine.例文帳に追加

本発明は、カラーリングを有する容器を処理するための充填機械、すすぎ洗い機、または閉鎖機のような容器処理機械のための移行案内装置であって、この移行案内装置が、その独楽状回転体に処理スペースがこれら容器のために設けられている循環する独楽状回転体、および、少なくとも１つの供給用星形部材を有する様式の上記移行案内装置に関する。 - 特許庁

When too high transmittance is obtained in the correction of a white defect by depositing an electron beam CVD film 6 of tetramethoxysilane in a halftone phase shift mask, a focused ion beam CVD film or an electron beam CVD film using a carbon-based source gas having low transmittance is further deposited to control the transmittance.例文帳に追加

ハーフトーン型位相シフトマスクのテトラメトキシシランの電子ビームCVD膜６の白欠陥修正で透過率が高すぎる場合には透過率の低い炭素系の原料ガスを用いた集束イオンビームCVD膜または電子ビームCVD膜を積層して透過率を調整する。 - 特許庁

To provide a magnetic resonance imaging apparatus with which a position of a tomogram can be shifted by a BO shift and an influence of a fat suppression defect or the like can be reduced without a major modification of a hardware such as an iron shim or the like, and a magnetic resonance imaging data processing method.例文帳に追加

鉄シム等のハードウェアを大幅に改修することなく、Ｂ０シフトによる断層画像位置のシフトや脂肪抑制不良等の影響を低減させることが可能な磁気共鳴イメージング装置および磁気共鳴イメージングデータ処理方法である。 - 特許庁

To provide a method of producing a mask blank and a method of producing a transfer mask, for obtaining desired flatness of the mask blank even when a thin film has a film stress, and preventing reduction in positional accuracy of a mask pattern as well as pattern shift and pattern defect during pattern transfer.例文帳に追加

薄膜自体に膜応力がある場合においても、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となり、マスクのパターン位置精度や、パターン転写の際、パターン位置ずれやパターン欠陥が発生することがないマスクブランクの製造方法および転写用マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.例文帳に追加

遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁

In the pattern inspection of a semiconductor device, a basic pattern used for correcting the mounting position of a sample substrate on a supporting base is recorded previously, the positional shift of mounting is corrected using the basic pattern, the image of a pattern formed on the sample substrate mounted on the supporting base is acquired, and then the defect of the pattern is detected from the image thus acquired.例文帳に追加

半導体装置のパターン検査において、試料基板の支持台に載置する際の載置位置の補正に用いる基本パターンを予め記録し、基本パターンを用いて載置位置のずれを補正して、支持台に載置された試料基板に形成されたパターンの画像を取得し、取得された画像から、パターンの欠陥を検出する。 - 特許庁

A shifter circuit 10A controls a connection relation among global data input/output lines GIOQm GION and GIOSO according to control signals SA0 to SA3 generated from a high order address FA<3:2> for specifying a normal column block NC1 including a defect memory cell MCA and a spare column block enable signal FAE, and performs saving based on shift redundancy.例文帳に追加

シフタ回路１０Ａは、不良メモリセルＭＣＡを含むノーマルカラムブロックＮＣ１を特定する上位アドレスＦＡ＜３：２＞とスペアカラムブロックイネーブル信号ＦＡＥとから生成された制御信号ＳＡ０〜ＳＡ３に応じてグローバルデータ入出力線ＧＩＯＱとＧＩＯＮおよびＧＩＯＳ０との接続関係を制御し、シフトリダンダンシによる救済を行なう。 - 特許庁