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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > 機械工学英和和英辞典 > source range channelの意味・解説 

source range channelとは 意味・読み方・使い方

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機械工学英和和英辞典での「source range channel」の意味

「source range channel」の部分一致の例文検索結果

該当件数 : 4



例文

A MOSFET having a gate range G, a drain range D, a source range S and a channel range K is provided.例文帳に追加

ゲート領域G、ドレイン領域D、ソース領域Sおよびチャネル領域Kの設けられたMOSFETが設けられている。 - 特許庁

The recessed portion 13 meanders and extends in a direction crossing the channel length direction within a channel length range where the source electrode 21 and the drain electrode 22 are parallel and opposite to each other in a plan view.例文帳に追加

リセス部13は、ソース電極21とドレイン電極22とが平面視で平行に対向するチャネル長の範囲内において、蛇行しながらチャネル長方向と交差する方向に延長されている。 - 特許庁

It may be enough therefor to appropriately select an element dimension or impurity concentration of the input MOS transistor and to use a range of superlinearly increasing the the channel current with respect to increase of the gate-source voltage.例文帳に追加

そのためには、入力用MOSトランジスタの素子寸法や不純物濃度等を適切に選択し、そのゲート−ソース間電圧の上昇に対しチャネル電流がスーパーリニアに増加する範囲を用いればよい。 - 特許庁

例文

After a source region, a drain region, and a channel region are formed by doping a dopant to a polysilicon film and activating the dopant by heat treatment, a substrate temperature is maintained within a range of 350°C to 420°C, and a substrate is exposed to hydrogen gas plasma for a processing time of 3 to 60 minutes.例文帳に追加

ポリシリコン膜にドーパントを注入し、加熱処理によって注入したドーパントを活性化し、ソース領域及びドレイン領域、及びチャネル領域を形成した後、基板温度を、350℃〜420℃の範囲内に保って、3分〜60分の処理時間、基板を水素ガスによるプラズマに晒す。 - 特許庁

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日英・英日専門用語辞書での「source range channel」の意味

source range channel



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