superior lobeとは 意味・読み方・使い方

To provide a mesh reflector antenna which has superior mobility and in which a side lobe level is suppressed.例文帳に追加

優れた機動性を有すると共にサイドローブレベルが抑制されたメッシュ反射鏡アンテナを提供する。 - 特許庁

To provide a photomask superior in the depth of a focus and MEF (mask error factor) and effective in suppressing the occurrence of a side lobe and shortening exposure time.例文帳に追加

焦点深度とＭＥＦ（Mask Error Factor）において優れ、且つ、サイドローブの発生の抑制、露光時間の短縮、を図るフォトマスクを提供する。 - 特許庁

As a result, side lobes or back lobes are reduced and a superior radiation pattern can be formed which includes an amply large main lobe extending, in the desired direction (toward the longitudinal axis 290).例文帳に追加

その結果、サイドローブやバックローブを低減し、所望の方向（縦軸２９０の方向）に延びる十分に大きなメインローブを有する良好な放射パターンを形成することができる。 - 特許庁

To provide an easily manufacturable steel shaft maintaining a superior strength even after exposure in a high temperature atmosphere of diffusion joining between a cam lobe and the shaft, and a manufacturing method of an assembled camshaft.例文帳に追加

鋼材製のシャフトが、カムロブ・シャフト間の拡散接合を行う高温雰囲気下に曝されても、優れた強度を維持することができる製造容易なシャフト、および組立式カムシャフトの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solar cell having a dielectric reflector with high reflectivity, having both characteristics of small layer thickness and of the diffusion lobe of an inversely-diffused radioactive beam by the absorber as widely as possible compared with conventional techniques, and therefore having a superior light-trapping characteristic and high efficiency.例文帳に追加

高い反射性を有する誘電性反射体を有するソーラーセルであって、従来技術と比較して、小さい層厚を有することと、吸収体に逆散乱される放射線の散乱ローブをできる限り広く有することの両方を有し、従って良好な光トラッピング特性と高い効率とを有するソーラーセルを提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitably used in a super-microlithography process and other photofabrication processes such as manufacture of VLSIs and high capacity microchips and whose surface roughness in etching is reduced, and further a resist composition which has superior characteristics of sensitivity, resolving power, a profile, a pattern fall, a side lobe margin, roughness and fineness dependency, etc.例文帳に追加

超ＬＳＩや高容量マイクロチップの製造等の超マイクロリソグラフィプロセスやその他のフォトファブリケーションプロセスに於いて好適に使用することができ、エッチング時の表面荒れが低減されたレジスト組成物、また更には、感度、解像力、プロファイル、パターン倒れ、サイドローブマージン、疎密依存性などの諸特性にも優れたレジスト組成物を提供する。 - 特許庁