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vacuum ultra-violetとは 意味・読み方・使い方
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意味・対訳 真空紫外
「vacuum ultra-violet」の部分一致の例文検索結果
該当件数 : 7件
To provide an excimer vacuum ultra-violet light irradiation treatment apparatus for effectively irradiating a wafer with excimer vacuum ultra-violet light emitted from an excimer vacuum ultra-violet light lamp and for successfully changing quality of a thin film of wafer by utilizing the vacuum ultra-violet light.例文帳に追加
エキシマ真空紫外光ランプから射光されたエキシマ真空紫外光を効率よくウエハに照射することができ、真空紫外光を利用してウエハの薄膜を良好に改質することができるエキシマ真空紫外光照射処理装置を提供する。 - 特許庁
Outside the high-vacuum chamber 11, an ultra-violet light irradiation device 13 which can apply an ultra-violet light on the sample 8 and, as a recording mechanism of images displayed on the fluorescent screen 7, a video camera 16, a video deck 17, a video monitor 18, and a computer processing system including image processing are provided.例文帳に追加
高真空チャンバー11の外部には、試料8へ紫外線光を照射できる紫外線照射装置13と、蛍光板7に表示された像の録画機構として、ビデオカメラ16、ビデオデッキ17、ビデオモニター18、画像処理システムを含むコンピューター処理系19が備えられている。 - 特許庁
The apparatus 10 directly applies the vacuum ultra-violet light to the thin film of wafer 16 stored within the chamber 12 that is maintained in the vacuum condition, while the lamp 21 is exposed within the chamber 12.例文帳に追加
装置10では、ランプ21がチャンバー12内に露出しつつ、真空状態にあるチャンバー12内に収容されたウエハ16の薄膜に真空紫外光を直接照射する。 - 特許庁
To provide a method and apparatus which is lithographic projection apparatus which uses extreme ultra-violet rays, wherein a substrate is disposed on a carrier in the minimum delivery number and high accuracy, when the substrate is loaded into a vacuum chamber via a load lock.例文帳に追加
超紫外線を使うリソグラフィ投影装置であって、基板をロードロックを介して真空室に装填する場合に、基板を最少の受渡し回数で且つ高精度で支持体上に配置する方法および装置を提供すること。 - 特許庁
The vacuum ultra violet-excited green luminescent material consists of terbium and gadolinium-activated rare earth aluminum-scandium borate expressed by general formula: (Y_1-x-yGd_xTb_y)Al_3-zSc_z(BO_3)_4 (0≤x<0.5, 0<y<0.5, 0<z≤3).例文帳に追加
本発明は、一般式(Y_1-x-yGd_xTb_y)Al_3-zSc_z(BO_3)_4(0≦x<0.5、0<y<0.5、0<z≦3)で表されるテルビウムおよびガドリニウム付活希土類アルミニウム・スカンジウム硼酸塩から成る真空紫外光励起蛍光体材料である。 - 特許庁
To provide a method for producing a fluoride single crystal which is useful for obtaining a lens material for a photolithography device (stepper) used for pattern exposing at the time of the production of a semiconductor or a vacuum ultra-violet transmissive material used as a window material or the like for various excimer laser systems.例文帳に追加
半導体製造時のパターン露光に使用する光リソグラフィー装置(ステッパー)用のレンズ材料や、各種エキシマレーザー装置用窓材などに使用する真空紫外光透過材料を得るためのフッ化物単結晶の製造法を提供する。 - 特許庁
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1
プリズムの中では、紫の光は赤の光よりも速度が落ちます。
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2
紫の光は、赤の光よりも短い波長です。
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3
赤外線や紫外線は、人の目には見えない光である。
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