variable shaped electron beamとは 意味・読み方・使い方

A variable shaped beam type electron-beam drawing device is used in this case, and dose adjustment is executed.例文帳に追加

この際、可変成形ビーム式の電子線描画装置を用い、ドーズ調整を施す。 - 特許庁

The electron beam lithography system using a variably shaped beam is equipped with electron beam detectors 130 and 131 used for measuring the amount of current of the variable shaped beam, and the current values measured corresponding to the beam sizes of the variably shaped beam are fed back to the exposure time of an electron beam so as to solve the problem.例文帳に追加

可変成形ビームを用いる電子ビーム描画装置において、可変成形ビームの電流量を計測するための複数の電子ビーム検出器１３０、１３１を有し、可変成形ビームの複数のビームサイズに応じて計測された電流値を、電子ビームの露光時間にフィードバックすることにより解決する。 - 特許庁

To provide a drawing method employing a variable area type electron beam drawing apparatus which is designed to effectively use an electron beam shaped in a triangle and to increase a drawing speed.例文帳に追加

三角形に成形された電子ビームを有効に活用し、描画速度を向上させるようにした可変面積型電子ビーム描画装置を用いた描画方法を実現するにある。 - 特許庁

To provide a method for creating writing data for electron beam exposure and electron beam writing, and a method for manufacturing a photo mask, an X-ray mask, and a mask for charged beam projection aligning for creating a mask pattern exactly same as a designed value with an existing low accelerating voltage electron beam writing system by a variable shaped method.例文帳に追加

既存の低加速電圧の可変成形法の電子線描画装置を用いて、設計値通りのマスクパターンを作成するための、電子線露光用描画データの作成方法、電子線描画方法及びフォトマスク、X線マスク及び荷電ビーム投影露光用マスク作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

This invention relates to the field of electron beam lithography, particularly, to the shaped beam lithography which is used in an integrated circuit manufacturing process to form spots having variable shapes on a photoresist.例文帳に追加

本発明は電子ビーム・リソグラフィの分野に関し、特に、集積回路製造プロセスにおいて使用され、フォトレジスト上に形状可変スポットを生成する整形ビーム・リソグラフィに関する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a nanoimprint mold, a manufacturing method of an optical element, and a forming method of a resist pattern capable of forming a resist pattern in which circular patterns of about 200 nm are regularly arranged with a practical productivity by using a variable shaped beam electron beam writer and forming a uneven nano-structure from the resist pattern.例文帳に追加

本発明は、可変成型ビーム方式の電子線描画装置を用いて、実用的な生産性で、２００ｎｍ前後の円形パターンが規則的に配列したレジストパターンを形成し、前記レジストパターンからナノ凹凸構造体を形成することができるナノインプリントモールドの製造方法、光学素子の製造方法、およびレジストパターンの形成方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁