w raysとは 意味・読み方・使い方

A cleaning liquid S supplied to a substrate W is irradiated with ultraviolet rays from a UV irradiation part 31.例文帳に追加

基板Ｗに供給された洗浄液Ｓに対してＵＶ照射部３１から紫外線を照射する。 - 特許庁

Further, the same surface of the web W is irradiated with infrared rays from an infrared ray source 24 separately from white light.例文帳に追加

また、ウェブＷの同じ上面に白色光とは別に赤外光源２４から赤外光を照射する。 - 特許庁

Then, reactive gas existing on the surface of the substrate W becomes radical by irradiation of the ultraviolet rays L, and, by the radical, the surface of the substrate W is etched.例文帳に追加

そして、基板Ｗの表面に存在する反応性ガスが紫外光Ｌの照射によってラジカルとなり、このラジカルにより、基板Ｗの表面をエッチングする。 - 特許庁

A rinse liquid is supplied to the substrate W to carry out rinse treatment, and when most of the rinse liquid adhered to the substrate W is spun off, the substrate W is irradiated with infrared rays from the ceramic heater via the filter plate.例文帳に追加

基板Ｗにリンス液を供給してリンス処理を行い、基板Ｗに付着しているリンス液の大部分を振り切る際に、基板Ｗに向けてセラミック製ヒータからフィルタ板を介して赤外線を照射する。 - 特許庁

An infrared condensing lens 1 receives infrared rays from the opposed object W to be measured on its entire surface thereof.例文帳に追加

赤外線集光レンズ１は、対向する測定対象物Ｗからの赤外線を表面２全体で受光する。 - 特許庁

A conical weak plasma environment W is formed by irradiating X rays from the X ray irradiating part 12.例文帳に追加

エックス線照射部１２からエックス線を照射することにより、円錐形の弱プラズマ環境Ｗを形成する。 - 特許庁

While the substrate W is transferred by the shuttle transfer mechanism 7, the substrate W being transferred is irradiated with the ultraviolet rays to carry out processing wherein organic matter sticking on the substrate W is decomposed and removed and an oxide film is formed on a surface of the substrate W.例文帳に追加

シャトル搬送機構７によって基板Ｗを搬送するのと同時に、搬送中の基板Ｗに紫外線を照射することによって、基板Ｗに付着している有機物を分解・除去したり、基板Ｗ表面に酸化膜を形成する処理を行う。 - 特許庁

On the other hand, at the time of projecting the ultraviolet rays upon the surface WS of the substrate W held on the support pins 2, the ultraviolet rays are projected upon the surface WS of the substrate W after the gap between the surface WS of the substrate W and the projecting surface 94 of the lamp unit 9 is adjusted by lowering the lamp unit 9 to the projecting position.例文帳に追加

一方、基板表面ＷＳに紫外線を照射する際には、ランプユニット９を照射位置にまで下降させて支持ピン２に保持された基板Ｗの表面ＷＳとランプユニット９の照射面９４のギャップを調整した上で基板表面ＷＳに向けて紫外線を照射している。 - 特許庁