| 例文 (8件) |
"Etch Residue"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 8件
WET ETCHING SYSTEM AND METHOD FOR DETECTING ETCH RESIDUE USED THEREFOR例文帳に追加
ウェットエッチング装置および該装置に用いるエッチング残渣検出方法 - 特許庁
To provide compositions and methods for removal of etch residue from electronic devices.例文帳に追加
電子デバイスからのエッチ後残留物の除去のための組成物及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide a formulation for removal of a photoresist, an etch residue and a BARC, and also to provide a method including the formulation.例文帳に追加
フォトレジスト、エッチ残留物及びＢＡＲＣを除去するための配合物及び同配合物を含む方法を提供する。 - 特許庁
FORMULATION FOR REMOVAL OF PHOTORESIST, ETCH RESIDUE AND BOTTOM ANTIREFLECTION COATING (BARC), AND METHOD USING THE FORMULATION例文帳に追加
フォトレジスト、エッチ残留物及びＢＡＲＣを除去するための配合物及び同配合物を含む方法 - 特許庁
The formulation for removing a photoresist, ion implanted photoresist, BARC and/or etch residue comprises an ammonium hydroxide, 2-aminobenzothiazole and remainder water.例文帳に追加
フォトレジスト、イオン注入フォトレジスト、ＢＡＲＣ及び／又はエッチ残留物を除去するための配合物であって、水酸化アンモニウム及び２−アミノベンゾチアゾール、残余水を含む。 - 特許庁
In one embodiment, a plasma formed from NF3 is diluted with N2 to etch residue from the surfaces of the processing chamber used to deposit silicon oxide glass.例文帳に追加
実施形態においては、ＮＦ_3から生成されたプラズマをＮ_2で希釈して、酸化ケイ素ガラスを堆積するために用いた処理チャンバの表面から残渣をエッチングする。 - 特許庁
To prevent etch residue by selectively implanting ions into regions of a film which is directly above the lower sides of steps covered with this film prior to etching and then etching the film.例文帳に追加
配線や電極等のパターンによって形成された基板上の段差部を覆う膜をエッチングする際に、エッチング残りが残るのを防止した、エッチング方法の提供が望まれている。 - 特許庁
The method for removing a material selected from a group consisting of photoresist, etch residue, BARC and combinations of these, from a substrate includes applying the above described formulation to the substrate to remove the material from the substrate.例文帳に追加
本発明はフォトレジスト、エッチ残留物、ＢＡＲＣ及びそれらの組合せからなる群から選択した材料を基材から除去する方法であって、材料を基材から除去するために、上記に記載された、配合物を基材に適用することを含む方法でもある。 - 特許庁
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