例文 (11件) |
"POLISHED GLASS"を含む例文一覧と使い方
該当件数 : 11件
METHOD FOR MANUFACTURING POLISHED GLASS SUBSTRATE例文帳に追加
研磨ガラス基板の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR INSPECTING SURFACE UNEVENNESS OF POLISHED SURFACE OF ONE-SIDE POLISHED GLASS SUBSTRATE例文帳に追加
片面研磨ガラス基板の研磨面の表面凹凸の検査方法 - 特許庁
METHOD FOR FINISHING SURFACE OF PRELIMINARY POLISHED GLASS SUBSTRATE例文帳に追加
予備研磨されたガラス基板表面を仕上げ加工する方法 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a polished glass substrate by which the surface of a glass substrate is polished while restraining the growth of a dimple, and consequently the glass substrate having flat and smooth surfaces can be obtained and to provide the polished glass substrate manufactured by the manufacturing method.例文帳に追加
ディンプルの成長を抑制してガラス基板を表面研磨し、平滑なガラス表面を有するガラス基板得ることができる研磨ガラス基板の製造方法、ならびにこれにより製造された研磨ガラス基板を提供する。 - 特許庁
A flatness of the polished glass substrate 15 is 10 μm or less, and a surface roughness (Ra) is set 0.0005-0.05 μm.例文帳に追加
研磨されたガラス基板15の平面度を10μm以下、且つ表面粗さ(Ra)を0.0005〜0.05μmにする。 - 特許庁
To obtain an easy inspecting method for evaluating the surface unevenness of a polished surface of a one-surface polished glass substrate without contact.例文帳に追加
片面研磨ガラス基板の研磨面の表面凹凸を非接触で評価する簡便な検査方法を得る。 - 特許庁
The polished glass plate my be used in the glass substrate for the flat panel display and the glass substrate is used to manufacture the flat panel display.例文帳に追加
研磨したガラス板は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板に使用することが可能であり、このガラス基板は、フラットパネルディスプレイの製造に使用される。 - 特許庁
The glass substrate is manufactured by polishing a glass base material with a polishing agent containing particles of cerium oxide and then cleaning the polished glass base material by using a cleaning chemical solution containing three components of an acid, a reductant, and fluorine ions.例文帳に追加
ガラス基材は、酸化セリウムの粒子を含む研磨剤でガラス素材を研磨した後、酸、還元剤及びフッ素イオンの3成分を含む洗浄薬液を使用し、洗浄することによって製造される。 - 特許庁
The method for recovering the cerium oxide polishing agent includes at least a cracking step of mixing caked polishing-agent waste containing the cerium oxide polishing agent and polished glass debris with an acid aqueous solution or an alkali aqueous solution, and cracking the caked polishing-agent waste with a cracking machine.例文帳に追加
酸化セリウム系研磨剤及びガラス研磨屑を含有するケーキ状の研磨剤廃棄物を、酸水溶液及びアルカリ水溶液のいずれかと混合し、解砕機により解砕する解砕工程を少なくとも含む酸化セリウム系研磨剤の回収方法。 - 特許庁
The surface of a glass substrate is mechanically polished, and the polished glass substrate is etched by a mixed liquid containing a hydrofluoric acid and an oxalic acid whose concentrations are respectively 0.01 to 0.5 wt.% and 1 to 5v wt.%.例文帳に追加
ガラス基板の表面を機械的に研磨し、更に、弗酸の濃度が0.01重量%〜0.5重量%で蓚酸の濃度が1重量%〜5重量%の弗酸と蓚酸とを含む混合液で、研磨後のガラス基板をエッチングする。 - 特許庁
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