例文 (3件) |
偏揺れモーメントの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3件
リソグラフィ投影装置の精度を損う振動の主な原因である、マスクまたは基板テーブルを駆動する際の反力、特に偏揺れモーメントを容易に吸収できる平衡位置決めシステムを提供する。例文帳に追加
To provide a balanced positioning system capable of easily absorbing reaction forces during driving of a mask or substrate table as principal cause of vibrations impairing precision of a lithographic apparatus, especially, yawing moment. - 特許庁
リソグラフィ投影装置の精度を損う振動の主な原因である、マスクまたは基板テーブルを駆動する際の反力、特に偏揺れモーメントを容易に吸収できる平衡位置決めシステムを提供すること。例文帳に追加
To provide a balanced positioning system capable of absorbing a factor of vibration such as reactive force, especially yaw moment generated when a mask or substrate table is driven, as a main factor of degrading accuracy in a lithography projection system. - 特許庁
リソグラフィ投影装置の精度を損なう振動の主な原因である、マスクまたは基板テーブルを駆動する際の反力、特に偏揺れモーメントを容易に吸収できる平衡位置決めシステムを提供すること。例文帳に追加
To provide a balanced positioning system capable of absorbing a factor of vibration such as reactive force, especially yaw moment generated when a mask or substrate table is driven, as a main factor of degrading accuracy in a lithography projection apparatus. - 特許庁
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