「還元性堆積物」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

還元状態にある堆積物のpHは，一般に中性付近のかなり狭い範囲内にある。例文帳に追加

The pH of reduced sediments generally falls within a fairly narrow range around neutrality. - 英語論文検索例文集

そのため、噴孔４６およびその周囲への不純物の付着、堆積ならびに還元剤の噴射特性の変化が低減される。例文帳に追加

For this reason, the adhesion and deposit of impurities to the jet hole 46 and its surroundings, and changes of injection characteristics of the reducing agent are reduced. - 特許庁

こうして堆積されたゲート電極８ｐに熱処理を施すと、還元性金属原子で自然酸化膜９が還元されて消滅すると共に、バリア膜４ｐにおいて熱分解した金属窒化物の窒素原子と前記還元性金属原子とが反応してバリアメタルが形成される。例文帳に追加

When subjecting a gate electrode 8p deposited in this way to heat treatment, the natural oxide film 9 is reduced with the reduction metal atoms to extinguish it, and the nitrogen atoms of the thermally decomposed metal nitride and the reduction metal atoms react with each other in the barrier film 4p to form a barrier metal. - 特許庁

交互にタングステン含有化合物（１３０）と、シラン（ＳｉＨ_４）、ジシラン（Ｓｉ_２Ｈ_６）、ジクロルシラン（ＳｉＣｌ_２Ｈ_２）、その誘導体、更に、これらの組合せから成る群から選択された還元性ガス（１５０）を律動的に送ることにより、その後、核形成層が同一の処理チャンバ内の基板表面上に堆積される。例文帳に追加

A nucleation layer is then deposited on the substrate surface in the same processing chamber by alternately pulsing a tungsten-containing compound (130) and a reducing gas (150) selected from the group consisting of silane (SiH_4), disilane (Si_2H_6), dichlorosilane (SiCl_2H_2), derivatives thereof and combinations thereof. - 特許庁

少なくとも１つの基板を収容する反応チャンバ（１１）内に気相状態の揮発性無機ルテニウム化合物と気相状態の還元剤を導入することにより両者を反応させ、前記少なくとも１つの基板上にルテニウムを堆積させることを特徴とするルテニウム膜の製造方法例文帳に追加

In the ruthenium film manufacturing method, volatile inorganic ruthenium compound in a gas phase state and reducing agent in a gas phase state are introduced into a reaction chamber (11) in which at least one substrate is stored, the volatile inorganic ruthenium compound and the reducing agent are reacted with each other, and ruthenium is deposited on at least one substrate. - 特許庁