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Bosch processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7件
a method of synthesizing ammonia, called the Haber-Bosch process 例文帳に追加
ハーバーボッシュ法というアンモニア合成法 - EDR日英対訳辞書
To provide a plasma processed shape simulating device and program capable of estimating a processed shape formed by the Bosch process.例文帳に追加
ボッシュプロセスにより形成される加工形状を予測することができる、プラズマ加工形状シミュレーション装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁
To provide an ammonia synthesis method from nitrogen and hydrogen in place of Harber Bosch process under high pressure and an apparatus therefor.例文帳に追加
本発明は、高圧を必要とするハーバーボッシュ法に変わる窒素と水素からアンモニアの合成方法とその装置を提案するものである。 - 特許庁
First, a first trench 7a is formed at the upper surface side of a silicon substrate 1 with a first insulating film 3 as a mask member by using, for example, a Bosch process.例文帳に追加
まず、第1の絶縁膜3をマスク部材としてシリコン基板1の上面側に第1のトレンチ7aを例えばボッシュプロセスを用いて形成する。 - 特許庁
Then, a second trench 7b communicating with the first trench 7a is formed at the back side of the silicon substrate 1 with a second insulating film 5 as a mask member by using the Bosch process.例文帳に追加
次に、第2の絶縁膜5をマスク部材としてシリコン基板1の裏面側に、第1のトレンチ7aに連通する第2のトレンチ7bを同じくボッシュプロセスを用いて形成する。 - 特許庁
The via hole 3 penetrating through the predetermined region of a semiconductor substrate 1 is formed by etching from one surface to another surface of the semiconductor substrate 1 in applying the Bosch process with the use of a mask layer 2 as a mask.例文帳に追加
マスク層2をマスクとし、ボッシュプロセスを利用して半導体基板1の一方の面から他方の面方向へエッチングし、当該半導体基板1の所定領域を貫通するビアホール3を形成する。 - 特許庁
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