意味 | 例文 (999件) |
ELECTROLESS-PLATINGの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2211件
SUBSTITUTION TYPE ELECTROLESS SILVER PLATING SOLUTION例文帳に追加
置換型無電解銀めっき液 - 特許庁
ELECTROLESS PLATING METHOD, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
無電解めっき方法と電子部品 - 特許庁
CONTINUOUS ELECTROLESS PLATING METHOD例文帳に追加
連続的な無電解めっき方法 - 特許庁
HIGH PERFORMANCE ELECTROLESS PLATING METHOD例文帳に追加
高性能無電解めっき法 - 特許庁
ELECTROLESS PLATING METHOD FOR FINE PARTICLE例文帳に追加
微粒子の無電解めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS ZINC OXIDE PLATING METHOD例文帳に追加
無電解酸化亜鉛めっき方法 - 特許庁
PRE-TREATMENT OF ELECTROLESS PLATING例文帳に追加
無電解メッキの前処理方法 - 特許庁
METHOD OF REGENERATING ELECTROLESS PLATING LIQUID例文帳に追加
無電解めっき液の再生方法 - 特許庁
METHOD FOR DEPOSITING ELECTROLESS PLATING FILM例文帳に追加
無電解めっき膜の形成方法 - 特許庁
TWO-PACK ELECTROLESS SILVER PLATING SOLUTION例文帳に追加
2液性無電解銀めっき液 - 特許庁
ELECTROLESS NICKEL PLATING BATH AND ELECTROLESS NICKEL ALLOY PLATING BATH例文帳に追加
無電解ニッケルめっき浴及び無電解ニッケル合金めっき浴 - 特許庁
ELECTROLESS NICKEL PLATING BATH AND ELECTROLESS NICKEL ALLOY PLATING BATH例文帳に追加
無電解ニッケルめっき浴および無電解ニッケル合金めっき浴 - 特許庁
ELECTROLESS NICKEL PLATING BATH AND METHOD FOR ELECTROLESS NICKEL PLATING例文帳に追加
無電解ニッケルめっき浴及び無電解ニッケルめっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS PALLADIUM PLATING BATH AND ELECTROLESS PALLADIUM PLATING METHOD例文帳に追加
無電解パラジウムめっき浴及び無電解パラジウムめっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS NICKEL PLATING BATH AND ELECTROLESS NICKEL PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
無電解ニッケルめっき浴およびそれを用いた無電解ニッケルめっき法 - 特許庁
ELECTROLESS COBALT PLATING SOLUTION AND ELECTROLESS COBALT PLATING METHOD例文帳に追加
無電解コバルトめっき液及び無電解コバルトめっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS NICKEL-PLATING SOLUTION AND ELECTROLESS NICKEL-PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
無電解ニッケルめっき液及びそれを用いた無電解ニッケルめっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS NICKEL PLATING BATH, AND ELECTROLESS PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
無電解ニッケルめっき浴およびそれを用いた無電解めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS IRIDIUM PLATING LIQUID AND ELECTROLESS PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
無電解イリジウムめっき液およびそれを用いた無電解めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS Ni-P PLATING LIQUID AND ELECTROLESS Ni-P PLATING METHOD例文帳に追加
無電解Ni−Pめっき液および無電解Ni−Pめっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS PLATING TREATMENT METHOD, AND ALKALI SOLUTION FOR ELECTROLESS PLATING TREATMENT例文帳に追加
無電解めっき処理方法、及び無電解めっき処理用のアルカリ溶液 - 特許庁
ELECTROLESS GOLD PLATING BATH, ELECTROLESS GOLD PLATING METHOD, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
無電解金めっき浴、無電解金めっき方法及び電子部品 - 特許庁
ELECTROLESS PLATING METHOD, ELECTROLESS PLATING APPARATUS AND ELECTROMAGNETIC INTERFERENCE SHIELD MATERIAL例文帳に追加
無電解めっき方法、無電解めっき装置及び電磁波シールド材料 - 特許庁
ELECTROLESS COPPER PLATING BATH, METHOD OF ELECTROLESS COPPER PLATING AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加
無電解銅めっき浴、無電解銅めっき方法および電子部品 - 特許庁
CATALYST FOR ELECTROLESS PLATING, AND ELECTROLESS PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
無電解めっき用触媒液及びそれを用いた無電解めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS ALUMINUM PLATING BATH AND ELECTROLESS PLATING METHOD OF ALUMINUM例文帳に追加
無電解アルミニウムめっき浴及びアルミニウムの無電解めっき方法 - 特許庁
ACTIVATING LIQUID FOR ELECTROLESS GOLD PLATING AND ELECTROLESS PLATING METHOD例文帳に追加
無電解金めっき用活性化液及び無電解めっき方法 - 特許庁
PRETREATMENT LIQUID FOR REDUCTION TYPE ELECTROLESS GOLD PLATING AND ELECTROLESS GOLD PLATING METHOD例文帳に追加
還元型無電解金めっき用前処理液及び無電解金めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS COPPER PLATING LIQUID, AND ELECTROLESS COPPER PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
無電解銅めっき液およびそれを使用する無電解銅めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS GOLD PLATING METHOD AND ELECTROLESS GOLD PLATING SOLUTION USED THEREFOR例文帳に追加
無電解金めっき方法及びそれに使用する無電解金めっき液 - 特許庁
ELECTROLESS TIN PLATING BATH AND METHOD OF ELECTROLESS TIN PLATING OF ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
無電解スズメッキ浴及び電子部品の無電解スズメッキ方法 - 特許庁
ADDITIVE FOR ELECTROLESS COPPER PLATING LIQUID, AND ELECTROLESS COPPER PLATING LIQUID USING THE SAME例文帳に追加
無電解銅めっき液用添加剤及びそれを用いた無電解銅めっき液 - 特許庁
NON-CYANIDE ELECTROLESS GOLD PLATING SOLUTION AND PROCESS FOR ELECTROLESS GOLD PLATING例文帳に追加
非シアン無電解金めっき液及び無電解金めっき方法 - 特許庁
SUBSTITUTION TYPE ELECTROLESS GOLD PLATING SOLUTION AND ELECTROLESS GOLD PLATING METHOD例文帳に追加
置換型無電解金めっき液及び無電解金めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS COPPER PLATING SOLUTION, METHOD OF CONTROLLING THE SAME, AND ELECTROLESS COPPER PLATING APPARATUS例文帳に追加
無電解銅めっき液、その管理方法、及び無電解銅めっき装置 - 特許庁
ELECTROLESS COPPER PLATING SOLUTION, ELECTROLESS COPPER PLATING METHOD AND PRODUCTION METHOD FOR WIRING BOARD例文帳に追加
無電解銅めっき液、無電解銅めっき方法、配線板の製造方法 - 特許庁
PRETREATMENT METHOD FOR ELECTROLESS PLATING AND ELECTROLESS PLATING METHOD OF SUBSTRATE例文帳に追加
無電解メッキの前処理方法および該基材の無電解メッキ方法 - 特許庁
METHOD OF PRETREATMENT TO ELECTROLESS PLATING AND ELECTROLESS PLATING METHOD例文帳に追加
無電解めっきの前処理方法及び無電解めっき方法 - 特許庁
PRETREATMENT AGENT FOR ELECTROLESS PLATING, PRETREATMENT METHOD, AND ELECTROLESS PLATING METHOD例文帳に追加
無電解めっき用前処理剤、前処理方法および無電解めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS PLATING DEVICE, AND METHOD FOR FEEDING OXYGEN TO ELECTROLESS PLATING LIQUID例文帳に追加
無電解めっき装置及び無電解めっき液への酸素供給方法 - 特許庁
SENSITIZING SOLUTION FOR ELECTROLESS PLATING, AND ELECTROLESS PLATING METHOD例文帳に追加
無電解めっき用センシタイジング液および無電解めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS COPPER PLATING SOLUTION AND ELECTROLESS COPPER PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
無電解銅めっき液、およびこれを用いた無電解銅めっき方法 - 特許庁
ELECTROLESS PLATING METHOD FOR SMOOTH SUBSTRATE, ELECTROLESS PLATING STRUCTURE, AND PRODUCT例文帳に追加
平滑基板への無電解めっき方法、無電解めっき構造及び製品 - 特許庁
PRETREATMENT METHOD FOR ELECTROLESS PLATING AND METHOD FOR FORMING ELECTROLESS PLATING FILM例文帳に追加
無電解めっき用前処理方法及び無電解めっき皮膜の形成方法 - 特許庁
PRETREATMENT AGENT FOR ELECTROLESS PLATING AND ELECTROLESS PLATING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
無電解めっき用前処理剤及びこれを用いた無電解めっき方法 - 特許庁
PRIMER COMPOSITION FOR ELECTROLESS PLATING AND ELECTROLESS PLATING METHOD例文帳に追加
無電解めっき用プライマー組成物及び無電解めっき方法 - 特許庁
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