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「Edge effect」に関連した英語例文の一覧と使い方(8ページ目) - Weblio英語例文検索


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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > Edge effectの意味・解説 > Edge effectに関連した英語例文

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Edge effectの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 355



例文

To provide a metal workpiece which has a predetermined metal surface and a bent surface that has been bent with a predetermined angle from the predetermined metal surface, and shows an enhanced anti-rust effect at an edge part formed by a metal surface that has been shaving-worked and a bent surface, and to provide a method for working the metal workpiece.例文帳に追加

所定の金属面とその所定の金属面から所定の角度をもって折れ曲がった折れ曲がり面とを有する金属加工物、およびその金属加工物の加工方法に関し、金属面を削り取る加工を施した加工面と折れ曲がり面とのエッジ部分の防錆効果を高めた金属加工物、およびその金属加工物の加工方法を提供する。 - 特許庁

Furthermore, cracking of the passivation film 108 is minimized at the corner of the electrode wiring by directing the lead-out wiring in the electrode wiring reversely to the direction of a closest corner or/and edge on the periphery of a semiconductor chip in order to minimize the effect of a shear stress acting from the periphery toward the center of the semiconductor chip.例文帳に追加

また、半導体チップの周辺から中央に向かって働く剪断応力の影響を最小限にするために電極配線の引出線の方向を半導体チップ周辺の最も近接するコーナ又は/及びエッジの方向と反対方向に電極配線内の引出配線を設置することで電極配線のコーナなどでのパッシベーション膜のクラック発生を最小限にする。 - 特許庁

The inspection method is constituted so as to inspect the wafer on the way of a processing process and has an analyzing process (step S101) for analyzing the material of foreign matter in the vicinity of the peripheral edge part of the wafer and a judging process (step S102) for judging whether the foreign matter exerts an effect on the processing process on and after the analyzing process.例文帳に追加

本発明に係る検査方法は、加工工程の途中でウェハに対して行う検査方法であって、ウェハの周縁部近傍で異物の材質を分析する分析工程(ステップS101)と、分析工程における分析の結果に基づいて、異物が分析工程以降の加工工程に影響を与えるか否かを判断する判断工程(ステップS102)とを有している。 - 特許庁

A step between a reflection portion which reflects EUV light and an absorption portion which absorbs the EUV light is adjusted to a size which is an odd multiple of a 1/4 wavelength of the inspection light used for defect inspection that is carried out utilizing edge light shield effect by a phase difference between reflected light from the reflection portion and reflected light from the absorption portion when a reflection-type mask blank is irradiated perpendicularly with the inspection light.例文帳に追加

EUV光を反射する反射部とEUV光を吸収する吸収部との段差を、欠陥検査に使用する検査光の1/4波長の奇数倍の大きさに調整し、検査光を垂直に照射した際の、反射部からの反射光と、吸収部からの反射光の位相差によるエッジ遮光効果を利用して欠陥検査を行うことにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

例文

The nuclear medicine diagnostic equipment does not target only the gamma rays, where predetermined energy (for example, energy exceeding Compton edge) is given as a simultaneous count collection (coincidence collection), when executing the so-called 'PET acquisition', but it goes through Compton scattering once in the radiation detection section, and then also discriminates the gamma rays that has induced photoelectric effect as a target for the simultaneous count collection.例文帳に追加

本発明に係る核医学診断装置は、いわゆる「PET収集」を実施する場合において、予め定められたエネルギ(例えば、コンプトンエッジ以上のエネルギ)を付与したガンマ線のみを同時計数収集(コインシデンス収集)の対象とするのではなく、放射線検出部内でコンプトン散乱を一度経由した後、光電効果を生起したガンマ線をも弁別して、前記同時計数収集の対象とする。 - 特許庁





  
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