| 意味 | 例文 |
MASK ALIGNMENTの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 589件
MASK ALIGNMENT METHOD AND MASK ALIGNMENT DEVICE FOR DOUBLE-FACE EXPOSURE APPARATUS例文帳に追加
両面露光装置のマスクアライメント方法及びマスクアライメント装置 - 特許庁
MASK ALIGNMENT FOR RECTANGULAR BEAM例文帳に追加
矩形ビーム用マスクアライメント方法 - 特許庁
EXPOSURE MASK FOR ALIGNMENT OF CRYSTAL SURFACE例文帳に追加
結晶面アライメント用露光マスク - 特許庁
METAL MASK, AND METHOD AND DEVICE FOR METAL MASK POSITION ALIGNMENT例文帳に追加
メタルマスク、メタルマスク位置アラインメント方法及び装置 - 特許庁
When the center of the real mask alignment mark is aligned with the center of the cut-out mask alignment mark, mask alignment between the front mask and a back mask 9 is completed.例文帳に追加
実マスクアライメントマークの中心が、抜けマスクアライメントマーク中心に位置すると、表マスク及び裏マスク9のマスクアライメントが完了する。 - 特許庁
ALIGNMENT METHOD, ALIGNMENT DEVICE, SUBSTRATE, MASK, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
アライメント方法、アライメント装置、基板、マスク、及び露光装置 - 特許庁
Then relative shift amounts, between the real mask alignment mark M1a and a cut-out mask alignment mark M2a, and between the real mask alignment mark M1b and a cut-out mask alignment mark M2b are calculated.例文帳に追加
次に、実マスクアライメントマークM1a及び抜けマスクアライメントマークM2aと、実マスクアライメントマークM1b及び抜けマスクアライメントマークM2bの相対的なずれ量を算出する。 - 特許庁
ALIGNMENT MASK AND DOT POSITION RECOGNITION METHOD例文帳に追加
アライメントマスクおよびドット位置認識方法 - 特許庁
EXPOSURE MASK, ALIGNMENT REFERENCE WAFER, AND ALIGNMENT METHOD例文帳に追加
露光用マスク、位置合わせ基準ウェハおよび露光位置合わせ方法 - 特許庁
RUBBING MASK FOR ALIGNMENT CONTROL OF LIQUID CRYSTAL PANEL例文帳に追加
液晶パネルの配向制御用ラビングマスク - 特許庁
ALIGNMENT METHOD, DESIGN METHOD OF MASK PATTERN, MASK, DEVICE MANUFACTURING METHOD, ALIGNMENT DEVICE, AND EXPOSURE DEVICE例文帳に追加
アライメント方法、マスクパターンの設計方法、マスク、デバイス製造方法、アライメント装置、露光装置 - 特許庁
AUTOMATIC MASK FILM ALIGNMENT DEVICE FOR PRINTED CIRCUIT BOARD例文帳に追加
プリント基板用自動マスクフィルム合わせ装置 - 特許庁
ALIGNMENT PATTERN FORMING METHOD AND MASK ALIGNMENT PRECISION MEASURING METHOD例文帳に追加
アライメントパタ—ンの形成方法及びマスクとの合わせ精度測定方法 - 特許庁
ALIGNMENT METHOD, ALIGNMENT APPARATUS, AND MASK FOR CHARGED PARTICLE BEAM EXPOSURE例文帳に追加
アライメント方法、アライメント装置、および荷電粒子線露光用マスク - 特許庁
To achieve fast mask alignment by obtaining the information of a superimposed state of a real mask alignment mark and a cut-out mask alignment mark formed on a top mask and a back mask, with high accuracy in a short time.例文帳に追加
表マスク及び裏マスクに形成した実マスクアライメントマーク、抜けマスクアライメントマークの重畳状態の情報を高精度に短時間の間で得ることで、マスクアライメントの迅速化を図る。 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK HAVING ALIGNMENT MARK FOR DRAWING例文帳に追加
描画用アライメントマークを有する位相シフトマスク - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF DISPLAY USING MASK ALIGNMENT例文帳に追加
マスクアライメント法を用いたディスプレイの製造方法 - 特許庁
METAL MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE METAL MASK AND METHOD FOR FORMING ALIGNMENT MARK例文帳に追加
メタルマスク及びその製造方法、並びにアライメントマークの形成方法 - 特許庁
MASK FRAME COMBINATION, SUBSTRATE USING THE SAME, AND MASK ALIGNMENT METHOD例文帳に追加
マスクフレーム組合わせ体、それを利用した基板及びマスク整列方法 - 特許庁
STENCIL MASK, METHOD OF TRANSFERRING ALIGNMENT MARK, AND METHOD OF MANUFACTURING STENCIL MASK例文帳に追加
ステンシルマスク、アライメントマークの転写方法及びステンシルマスクの製造方法 - 特許庁
MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, METHOD FOR MANUFACTURING MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, PROJECTION ALIGNER, PROJECTION ALIGNMENT METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING MEMBER TO BE EXPOSED BY USING MASK FOR PROJECTION ALIGNMENT, AND MEMBER TO BE EXPOSED例文帳に追加
投影露光用マスク、投影露光用マスクの製造方法、投影露光装置、投影露光方法、投影露光用マスクを用いた被露光部材の製造方法および被露光部材 - 特許庁
ALIGNMENT METHOD, ALIGNMENT METHOD OF LIQUID DISCHARGE HEAD UNIT, AND ALIGNMENT MASK FOR LIQUID DISCHARGE HEAD例文帳に追加
アライメント方法及び液体噴射ヘッドユニットのアライメント方法並びに液体噴射ヘッド用アライメントマスク - 特許庁
METHOD OF ALIGNING WAFER WITH PROXIMATE MASK AND ALIGNMENT MARK例文帳に追加
近接したマスクとウエハとのアライメント方法とアライメントマーク - 特許庁
STANDARD POSITION INDICATING DEVICE AND METAL MASK POSITION ALIGNMENT DEVICE例文帳に追加
基準位置指示装置及びメタルマスク位置アラインメント装置 - 特許庁
A mask alignment scope 11 is loaded on a wafer stage 31 and an alignment mark position on a mask 20 is detected.例文帳に追加
ウエハステージ31上にマスクアライメントスコープ11を搭載し、マスク20上のアライメントマーク位置を検出する。 - 特許庁
SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
REFERENCE POSITION INDICATOR, AND METAL MASK POSITION ALIGNMENT DEVICE例文帳に追加
基準位置指示装置及びメタルマスク位置アラインメント装置 - 特許庁
SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁
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