MASKを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 26886件
MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK例文帳に追加
マスクブランクス、および転写マスクの製造方法 - 特許庁
MASK BLANKS AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANKS例文帳に追加
マスクブランクスおよびマスクブランクスの製造方法 - 特許庁
LITHOGRAPHY MASK, AND MANUFACTURING METHOD OF LITHOGRAPHY MASK例文帳に追加
リソグラフィマスク及びリソグラフィマスクの製造方法 - 特許庁
PRINTING MASK AND MANUFACTURE OF PRINTING MASK例文帳に追加
印刷マスク及び印刷マスクの製造方法 - 特許庁
HARD MASK FOR SHADOW MASK AND MANUFACTURE THEREOF例文帳に追加
シャドウマスク用ハードマスク及びその製造方法 - 特許庁
HARD MASK FOR SHADOW MASK AND ITS PRODUCTION例文帳に追加
シャドウマスク用ハードマスク及びその製造方法 - 特許庁
MASK FILM FORMING METHOD AND MASK FILM FORMING DEVICE例文帳に追加
マスク成膜方法およびマスク成膜装置 - 特許庁
EXTREME ULTRAVIOLET EXPOSURE MASK, AND MASK BLANK例文帳に追加
極端紫外線露光用マスク及びマスクブランク - 特許庁
GC components are: subwindow-mode, clip-x-origin, clip-y-origin, and clip-mask.例文帳に追加
GC の構成要素はsubwindow-mode, clip-x-origin, clip-y-origin,clip-maskである。 - XFree86
MANUFACTURING METHOD OF TRANSFER MASK AND TRANSFER MASK例文帳に追加
転写マスクの製造方法及び転写マスク - 特許庁
To provide a mask conveyance method of a proximity exposure apparatus with which a displacement of a mask conveyed from a mask stocker to a mask holder can be made small even when the displacement occurs at the mask supported by a mask receiver in the mask stocker.例文帳に追加
マスクストッカー内でマスク受けに支持されたマスクに位置ずれが発生しても、マスクストッカーからマスクホルダへ搬送されたマスクの位置ずれを小さくする。 - 特許庁
GL METHOD ANESTHETIC MASK例文帳に追加
GL法麻酔用マスク - 特許庁
ALTERNATING PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
交互式位相シフトマスク - 特許庁
HYBRID PHASE SHIFT MASK例文帳に追加
ハイブリッド位相シフト・マスク - 特許庁
SHADOW MASK INSPECTION DEVICE例文帳に追加
シャドウマスクの検査装置 - 特許庁
HALFTONE MASK, HALFTONE MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE MASK BLANK例文帳に追加
ハーフトーンマスク、ハーフトーンマスクブランクス、ハーフトーンマスクの製造方法、及びハーフトーンマスクブランクスの製造方法 - 特許庁
PROXIMITY EFFECT CORRECTION MASK例文帳に追加
近接効果補正マスク - 特許庁
MASK DEFECT INSPECTION APPARATUS例文帳に追加
マスク欠陥検査装置 - 特許庁
MASK PATTERN DETERMINING METHOD例文帳に追加
マスクパターン判定方法 - 特許庁
MASK PATTERN GENERATION METHOD例文帳に追加
マスクパターン作成方法 - 特許庁
PHOTO-MASK BLANK, PHOTO-MASK, REFLECTIVE MASK BLANK AND REFLECTIVE MASK, AND MANUFACTURING METHOD THEREOF例文帳に追加
フォトマスクブランク、フォトマスク、反射型マスクブランクおよび反射型マスク並びにこれらの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING PRINT MASK例文帳に追加
プリントマスク処理方法 - 特許庁
MASK PATTERN DRAWING METHOD例文帳に追加
マスクパターン描画方法 - 特許庁
DISPLAY DEVICE AND MASK例文帳に追加
表示装置及びマスク - 特許庁
PERFORATED PRINTING MASK例文帳に追加
孔版印刷用のマスク - 特許庁
| Copyright (c) 株式会社 高電社 All rights reserved. |
| Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved. |
| この対訳コーパスは独立行政法人情報通信研究機構の研究成果であり、Creative Commons Attribution-Share Alike 3.0 Unportedでライセンスされています。 |
| Copyright (C) 1994-2004 The XFree86®Project, Inc. All rights reserved. licence Copyright (C) 1995-1998 The X Japanese Documentation Project. lisence |
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
|
ログイン |
Weblio会員(無料)になると
|
