「Negative pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

ネガ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型フォトレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE-TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, PATTERN-FORMING METHOD, AND HARDENED PATTERN例文帳に追加

ネガ型感放射線性組成物、パターン形成方法及び硬化パターン - 特許庁

To form a negative type pattern with thermal lithography.例文帳に追加

熱リソグラフィによってネガ型のパターンを形成する。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE-TYPE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, CURING PATTERN FORMING METHOD AND CURING PATTERN例文帳に追加

ネガ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン - 特許庁

The pattern (positive or negative pattern) takable by the binary string is inevitably determined according to the method.例文帳に追加

当該バイナリ列がとり得るパターン（正負パターン）は必然的に得られる。 - 特許庁

PATTERN FORMING BASE MATERIAL, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成用基材及びネガ型レジスト組成物、並びにパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, CURED PATTERN FORMING METHOD AND CURED PATTERN例文帳に追加

ネガ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン - 特許庁

NEGATIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD FOR FORMING CURED PATTERN, AND CURED PATTERN例文帳に追加

ネガ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、および、レジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD AND NEGATIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加

レジストパターン形成方法およびネガ型レジスト組成物 - 特許庁

NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ネガ型レジスト材料およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

RESIST PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法、ネガ型現像用レジスト組成物 - 特許庁

NEGATIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁

COMPOUND, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化合物、ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND NEGATIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物およびネガ型パターン形成方法 - 特許庁

RADIATION SENSITIVE NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR PATTERN FORMATION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

パターン形成用感放射線ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPER AND NEGATIVE CHEMICAL-AMPLIFICATION RESIST COMPOSITION USED THEREFOR, AND RESIST PATTERN例文帳に追加

ネガ型レジストパターン形成方法、それに用いられる現像液及びネガ型化学増幅型レジスト組成物、並びにレジストパターン - 特許庁

RADIATION SENSITIVE NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感放射線ネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR LIFT OFF AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

リフトオフ用ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR LIFT-OFF, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

リフトオフ用ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING CONDUCTIVE PATTERN例文帳に追加

ネガ型感光性組成物及び導電パターンの形成方法 - 特許庁

BASE MATERIAL FOR PATTERN FORMATION, NEGATIVE RESIST COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

パターン形成用基材、ネガ型レジスト組成物、パターン形成方法、および半導体装置 - 特許庁

CURABLE SILICONE COMPOSITION FOR NEGATIVE PATTERN FORMATION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型パターン形成用硬化性シリコーン組成物、及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE MATERIAL AND PHOTOSENSITIVE SUBSTRATE USING THE SAME, AND NEGATIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ネガ型感光性材料およびそれを用いた感光性基材、ならびにネガ型パターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ネガ型感光性組成物とこれを用いるパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE TYPE PATTERN例文帳に追加

感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE-TYPE RESIST COMPOSITION FOR PHOTOMASK AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ホトマスク用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, AND RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT例文帳に追加

レジストパターン形成方法、及びネガ型現像用レジスト組成物 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, ARTICLE AND NEGATIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

感光性樹脂組成物、物品、及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁