「Negative pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(4ページ目) - Weblio英語例文検索

POLYMER CONTAINING DIOL STRUCTURE, NEGATIVE RESIST COMPOSITION USING IT AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加

ジオール構造を含有してなる重合体、それを用いたネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

To provide a polyimde precursor developable with an aqueous alkali solution and having negative type pattern forming ability.例文帳に追加

アルカリ水溶液にて現像が可能なネガ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体を提供する。 - 特許庁

ALKALI-DEVELOPABLE NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION METHOD OF CURED RELIEF PATTERN, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

アルカリ現像可能なネガ型感光性樹脂組成物、硬化レリーフパターンの製造方法及び半導体装置 - 特許庁

To provide a negative type resist composition excellent in pattern shape, having low dependency of pattern size on post-exposure baking temperature and excellent also in sensitivity and resolution.例文帳に追加

パターン形状に優れ、パターン寸法の露光後ベーク温度依存性が小さく、また、感度や解像性にも優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

The test pattern 502 of the negative region includes a plurality of white bars extending in the longitudinal direction, and the test pattern 501 includes a plurality of white bars extending in the lateral direction.例文帳に追加

ネガ領域のテストパターン５０２は、縦方向に伸びる複数の白バーを含み、テストパターン５０１は横方向に伸びる複数の白バーを含む。 - 特許庁

When performing the automatic pressurization control, a lamp of a pattern under the automatic pressurization control is lit and when the vacuum booster is in the negative pressure lowering state, the lamp of a pattern for lowering the booster negative pressure is lit so as to inform it to a driver.例文帳に追加

更に、自動加圧制御中であるときにはランプを自動加圧制御中用パターンで点灯し、バキュームブースタが負圧低下状態にあるときにはブースタ負圧低下用パターンで点灯して運転者に報知する。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive composition which has high resolution and allows fine holes to be formd and allows a cured pattern with a good elastic modulus and a low relative dielectric constant to be formed, and to provide a cured pattern obtained using the negative radiation-sensitive composition, and a method for forming the cured pattern.例文帳に追加

高解像度であり、微細空孔を形成でき、弾性率が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

After transferring a chip pattern to the negative resist film by EUV light exposure, the chip pattern is transferred by etching the intermediate layer film by using the negative resist film as a mask, and then the chip pattern is transferred by etching the lower layer film by using the intermediate layer film as a mask.例文帳に追加

ＥＵＶ光露光によりネガ型レジスト膜にチップパターンを転写した後、当該ネガ型レジスト膜をマスクとして中間層膜をエッチングしてチップパターンを転写し、その後、当該中間層膜をマスクとして下層膜をエッチングしてチップパターンを転写する。 - 特許庁

Further, a negative electrode part 3 integrated with the positive electrode part 2 through an insulating part 5 is located on a bottom face of the cell frame 4 to realize conduction between the negative electrode of the cell B and a negative electrode power source pattern 7 on the rear face.例文帳に追加

また、電池枠４の底面には、正極部２と絶縁部５を介して一体化した負極部３が位置しており、ボタン電池Ｂの負極と裏面の負極電源パターン７との導通を図る。 - 特許庁

A negative-electrode active material layer having an uneven pattern is formed on a surface of a copper foil as a negative-electrode current collector by applying application liquid by a nozzle-scan coating method (a step S102).例文帳に追加

負極集電体たる銅箔表面に対し、ノズルスキャン法により塗布液を塗布して凹凸パターンを有する負極活物質層を形成する（ステップＳ１０２）。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive planographic printing plate, having high productivity and printing resistance, particularly a negative photosensitive planographic printing plate suitable for pattern forming by laser light.例文帳に追加

高い生産性と耐刷性を併せ持つネガ型感光性平板印刷版、特にレーザー光による描画に適したネガ型感光性平板印刷版を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which ensures small line edge roughness, high sensitivity, high throughput and small substrate dependence of a pattern, and to provide a patterning process using the negative resist composition.例文帳に追加

ラインエッジラフネスが小さく、また、高感度でスループットの高い、更に、パターンの基板依存性の小さなネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When the position corresponding to the second deepest pattern is adjacent to the remaining negative photoresist 5, a portion to be removed is expanded to the negative photoresist 5.例文帳に追加

このとき、２番目に深いパターンに対応する場所が、残ったネガ型フォトレジスト５と隣り合う場合には、除去する部分をネガ型フォトレジスト５の部分にまで拡張する。 - 特許庁

Thus, the inside of the sub-tank 551 can be immediately brought to a negative pressure to stop the discharge of the pattern forming material.例文帳に追加

これにより、速やかにサブタンク５５１内を負圧にしてパターン形成材料の吐出を停止することができる。 - 特許庁

CHEMICAL AMPLIFICATION-TYPE NEGATIVE-WORKING PHOTORESIST COMPOSITION FOR LOW-TEMPERATURE DRY ETCHING AND METHOD FOR PHOTORESIST PATTERN FORMATION USING THE SAME例文帳に追加

低温ドライエッチング用化学増幅型ネガ型ホトレジスト組成物及びこれを用いたホトレジストパターン形成方法 - 特許庁

CONDENSATE, PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PRODUCTION METHOD THEREOF, AND METHOD FOR FORMING NEGATIVE RESIST PATTERN USING THE SAME例文帳に追加

縮合物、感光性組成物およびその製造方法、およびそれを用いたネガ型レジストパターンの形成方法 - 特許庁

To provide a negative curable composition having excellent developability at high sensitivity and capable of forming a fine rectangular pattern.例文帳に追加

高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

NEGATIVE PHOTORESIST COMPOSITION USING POLYMER HAVING 1,2-DIOL STRUCTURE, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE COMPOSITION例文帳に追加

１，２−ジオール構造を有する重合体を用いたネガ型フォトレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a polyimide precursor which can be developed in an alkaline aqueous solution to form a sharp negative pattern.例文帳に追加

アルカリ水溶液にて現像が可能で、シャープなネガ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体を提供する。 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYIMIDE PRECURSOR COMPOSITION FOR DEVELOPMENT WITH BASIC AQUEOUS SOLUTION AND PRODUCTION OF PATTERN USING SAME例文帳に追加

塩基性水溶液現像用ネガ型感光性ポリイミド前駆体組成物及びそれを用いたパターン製造方法 - 特許庁

ENERGY LINE-SENSITIVE POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE RESIST USING THE SAME AND PICTORIAL PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

感エネルギー線重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 - 特許庁

To quickly discharge to a substrate positive and negative charge charged to a dummy pattern for CMP.例文帳に追加

ＣＭＰ用ダミーパターンにチャージした正の電荷と負の電荷の双方を、速やかに基板に放電できるようにする。 - 特許庁

To provide a negative type radiation-curable composition which has good sensitivity and excellent development performance and with which rectangular fine pattern formation can be performed.例文帳に追加

高感度で現像性に優れ、矩形な微細パターン形成が可能なネガ型硬化性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a patterning process in which a closely packed dot pattern and an isolated dot pattern are formed in one exposure using a positive resist film and which patterns are used to form a hole pattern by positive/negative reversal.例文帳に追加

ポジ型レジスト膜を用い、１回の露光で密集したドットパターンと孤立ドットパターンを形成し、これを用いてポジネガ反転によってホールパターンを形成するパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which has excellent sensitivity and resolution and reduces a dimensional difference between a sparse pattern and a dense pattern, and a manufacturing method of relief pattern and an electronic component using the resist composition.例文帳に追加

感度及び解像力に優れ、且つ疎密パターン寸法差を小さくするネガ型レジスト組成物、並びに、当該レジスト組成物を用いたレリーフパターンの製造方法及び電子部品を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern forming material from which a high resolution negative pattern is obtained using supercritical carbon dioxide without deteriorating dry etching resistance, and also to provide a pattern forming material and a developing method which enable a fine pattern to be formed without pattern falling.例文帳に追加

本発明の目的は、ドライエッチング耐性を低下させることがなく、高解像度のネガ型パタンが超臨界の二酸化炭素で得られるパタン形成材料を提供し、微細なパタンをパタン倒れなしに形成できるパタン形成材料及び現像方法を提供するものである。 - 特許庁

The photomask 21 for negative exposure includes an objective pattern 24 and a dummy pattern 25, wherein the objective pattern 24 comprises openings 22 and light shielding portions 23, and the dummy pattern 25 is disposed in such a way that it comes in contact with at least one side of the objective pattern 24.例文帳に追加

目的とするパターン２４とダミーパターン２５とを含むネガ露光用フォトマスク２１であって、目的とするパターン２４が開口部２２と遮光部２３からなり、該目的とするパターン２４の少なくとも１つの辺に接するようにダミーパターン２５を配置したネガ露光用フォトマスク２１である。 - 特許庁

To provide a negative-type radiation-sensitive composition that has a high resolution, has a wide depth of focus (DOF), provides a proper pattern shape, and forms a curing pattern of a low-relative dielectric constant, and to provide a curing pattern that uses the pattern and a forming method of the curing pattern.例文帳に追加

高解像度であり、焦点深度（ＤＯＦ）が広く、得られるパターン形状が良好であり、且つ低比誘電率な硬化パターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、並びに、それを用いてなる硬化パターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method of forming a resist pattern, capable of forming a fine resist pattern with good lithography characteristics by a negative development process using a developer containing an organic solvent, and a resist composition for negative development used in the method.例文帳に追加

有機溶剤を含有する現像液を用いたネガ型現像プロセスにより、微細なレジストパターンを良好なリソグラフィー特性にて形成できるレジストパターン形成方法、該方法に用いられるネガ型現像用レジスト組成物の提供。 - 特許庁

This lithography device is provided with a projection system for forming the image of a pattern on a negative resist layer configured so that the pattern-formed beam can be projected to the target section of the substrate to which the negative resist layer is attached.例文帳に追加

リソグラフィ装置は、さらに、パターン形成されたビームをネガ型レジスト層が付着している基板の目標部分に投影するように構成された、ネガ型レジスト層上にパターンのイメージを形成するための投影システムを備えている。 - 特許庁

To provide: a photoresist composition useful for photolithography pattern formation by negative tone development; a method of forming a photolithography pattern by a negative tone development process; and a base substance coated with the photoresist composition.例文帳に追加

ネガティブトーン現像によるフォトリソグラフィパターン形成に有用なフォトレジスト組成物の提供、及び、ネガティブトーン現像プロセスによってフォトリソグラフィパターンを形成する方法、並びに当該フォトレジスト組成物でコーティングされた基体の提供。 - 特許庁

Pattern CAD data prepared for the actual pattern at a time when the reticle is manufactured are used as they are in this case, the inversion pattern can be manufactured simply when a resist in the case of the processing of a reticle pattern is inverted to a negative or positive state, and the number of processes is omitted and the reticle can be prepared efficiently.例文帳に追加

この場合には、レチクル作製時に実パターン用に作製したパターンCADデータをそのまま使い、レチクルパターン加工時のレジストをネガ、ポジ反転すれば簡単に反転パターンを作製でき、工程数を省け効率的なレチクル作製ができる。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive composition suitable for forming a cured pattern that constitutes an interlayer insulating film low in dielectric constant, and to provide a method for forming a cured pattern using the composition, and a cured pattern obtained by the method for forming a cured pattern.例文帳に追加

比誘電率の低い層間絶縁膜を構成する硬化パターンの形成に好適なネガ型感放射線性組成物、それを用いた硬化パターン形成方法及びこの硬化パターン形成方法により得られた硬化パターンを提供する。 - 特許庁

The image forming apparatus is provided with the decolorizing function prints a negative image pattern 74, which takes printed information 72 by the decolorizable toner (S) as a positive image pattern on a printed face 71 of a paper sheet 66 using a transparent toner (T).例文帳に追加

用紙６６の印刷面７１に消色性トナー（Ｓ）による印字情報７２を陽画パターンとする陰画パターン７４を透明トナー（Ｔ）によって印字する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation-sensitive composition developable with an aqueous alkali developing solution without swelling a fine pattern and excellent also in shelf stability and to provide a pattern forming method using the composition and a method for producing a semiconductor device using the composition.例文帳に追加

水性アルカリ現像液で微細パタンが膨潤することなく現像でき、かつ保存安定性にも優れた感放射線組成物を提供することにある。 - 特許庁

A response information comparison part 27 determines vulnerability when all response patterns for the negative response are not matched to every response pattern for the positive response pattern.例文帳に追加

レスポンス情報比較部２７は、ネガティブレスポンスに対する全てのレスポンスのパターンが、ポジティブレスポンスに対するどのレスポンスのパターンにも一致しない場合には脆弱性ありと判定する。 - 特許庁

To provide a pneumatic tire capable of enhancing the discharging performance of snow stuffed in grooves of a block pattern without affecting the negative ratio of the grooves of the block pattern to a land part.例文帳に追加

ブロックパターンの溝と陸部とのネガティブ比に影響を与えることなく、ブロックパターンの溝に入り込んだ雪の排出性能を向上させた空気入りタイヤを提供する。 - 特許庁

A wiring pattern 25 for positive electrode and a wiring pattern 26 for negative electrode of a light emitting module 21 are made principally of Ag, and are provided on a module substrate 22 as light reflecting surfaces.例文帳に追加

発光モジュール２１の正極用の配線パターン２５と負極用の配線パターン２６は銀を主成分とし、これらをモジュール基板２２上に設け光反射面とする。 - 特許庁

To provide a resist composition superior in depth of focus (DOF) when forming an isolated contact hole pattern, and a resist film and a negative pattern formation method using the same.例文帳に追加

孤立コンタクトホールパターンを形成する際の焦点深度マージン（ＤＯＦ）に優れたレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplifying negative resist composition excellent in the performance for isolated pattern when active rays or radiation are used.例文帳に追加

活性光線や放射線の使用に対して孤立性能に優れた化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Consequently, since a contact aperture pattern is formed, an outline of the desired contact aperture is formed on a negative resist.例文帳に追加

これにより、コンタクト開口のパターンが形成されるので、所望のコンタクト開口の輪郭がネガティブレジスト上に形成される。 - 特許庁

To provide a resist composition that has practical sensitivity and forms an intricate negative resist pattern with no swelling.例文帳に追加

実用可能な感度を有していて、膨潤のない微細なネガ型レジストパターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To measure a proximity gap between surface of a substrate and a pattern surface of a mask through a glass plate from outside a negative pressure chamber.例文帳に追加

負圧室の外側からガラス板を介して、基板の表面とマスクのパターン面とのプロキシミティギャップを測定する。 - 特許庁

A negative pattern 2 is printed on a transparent film 1 by using a material soluble to solvent such as water like (1) and (2).例文帳に追加

まず ， のように、透明フィルム１上に水等の溶剤に対して可溶な材料を用いてネガパターン２を印刷する。 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE PASTE AND ITS MANUFACTURING METHOD, PATTERN FORMING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF PANEL FOR FLAT DISPLAY例文帳に追加

ネガ型感光性ペーストおよびその製造方法、パターンの形成方法ならびに平面ディスプレイ用パネルの製造方法。 - 特許庁