「Negative pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN BY USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

電子線用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PATTERN FORMING METHOD AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターン形成方法及び電子部品 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物、及びそれを用いたレジストパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

NEGATIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁

To provide a negative resist composition which exhibits good sensitivity and enables formation of a fine pattern of good pattern shape, and a pattern forming method using the negative resist composition.例文帳に追加

感度が良好で、良好なパターン形状の微細パターンを形成可能なネガ型レジスト組成物、該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法、を提供する。 - 特許庁

A negative disk includes a plurality of leg forms welded into the second pattern of recesses formed in the negative winding foils.例文帳に追加

負のディスクは、複数の脚部を有しており、これは負の巻付フォイルの凹部第２パターンに溶接される。 - 特許庁

POLYMERIZABLE COMPOSITION, NEGATIVE RESIST USING THE SAME AND IMAGE PATTERN FORMING METHOD USING THE NEGATIVE RESIST例文帳に追加

重合性組成物およびそれを用いたネガ型レジストおよびそれを用いた画像パターン形成方法。 - 特許庁

To provide a negative resist composition and a resist pattern forming method using the negative resist composition.例文帳に追加

ネガ型レジスト組成物および該ネガ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, NEGATIVE DEVELOPING SOLUTION TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD, COMPOSITION USED IN THE SAME AND RESIST FILM例文帳に追加

ネガ型パターン形成方法、これに用いられる組成物及びレジスト膜 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, NEGATIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

The resist pattern film 114 is charged with electrons having negative charges.例文帳に追加

レジストパターン膜１１４には、マイナス電荷をもつ電子をチャージさせておく。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR IMMERSION EXPOSURE AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加

液浸露光用ネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

With this, a negative thin-film pattern is formed as against the mask.例文帳に追加

これにより、マスクに対してネガ形状の薄膜パターンが形成される。 - 特許庁

METHOD FOR FORMING NEGATIVE PATTERN AND POST-DEVELOPMENT PROCESS LIQUID USED THEREFOR例文帳に追加

ネガ型パターン形成方法およびそれに用いられる現像後処理液 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

NEGATIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING PATTERN, AND ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加

ネガ型感光性樹脂組成物、パターンの製造方法及び電子部品 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT OR MULTIPLE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるネガ型現像若しくは多重現像用レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液、及び該パターン形成方法に用いられるネガ型現像用リンス液 - 特許庁

To provide a negative resist material having higher resolution than conventional negative resist materials, giving a good pattern profile after exposure, and exhibiting excellent etching resistance, particularly a chemically amplified negative resist material and a pattern forming method.例文帳に追加

下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有し、重量平均分子量が１，０００〜５００，０００である高分子化合物を含むことを特徴とするネガ型レジスト材料。 - 特許庁

To improve the pattern accuracy by suppressing lateral etching in a light shielding pattern caused during producing a negative photomask.例文帳に追加

ネガ型フォトマスク作製時に生じる遮光パターンのラテラルエッチングを抑制し、パターン精度を向上させる。 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE-TONE DEVELOPMENT AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To provide a method capable of forming a high resolution negative type pattern.例文帳に追加

高解像度のネガ型のパタン形成が可能な方法を提供すること。 - 特許庁

NEGATIVE TYPE ENERGY BEAM SENSITIVE PASTE, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型感エネルギー線性ペースト及びそれを使用したパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION FOR NEGATIVE TYPE DEVELOPMENT, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

To obtain a pattern forming method for realizing a negative silylation process.例文帳に追加

本発明は、ネガ型のシリル化プロセスを実現するパターン形成方法を得る。 - 特許庁

PHOTOMASK FOR NEGATIVE EXPOSURE AND PHOTOCURING TYPE PATTERN PRODUCED USING THE SAME例文帳に追加

ネガ露光用フォトマスク及びこれを用いて製造される光硬化型パターン - 特許庁

CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加

化学増幅型ネガ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR MULTIPLE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, DEVELOPER FOR NEGATIVE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD, AND RINSING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT USED IN THE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液 - 特許庁

Two kinds; a line pattern and a space pattern formed by a negative-to-positive reversal thereof are used as a dimensional inspection pattern to be used in a wafer process.例文帳に追加

ウェハプロセスで用いる寸法検査パタンとして、ラインパタンとこれをネガポジ反転したスペースパタンの２種類を用いるようにする。 - 特許庁

To provide a negative resist composition excelling in pattern shape having a wide defocus latitude, and to provide a method for forming a pattern.例文帳に追加

パターン形状が良好で、デフォーカスラチチュードの広いネガ型レジスト組成物およびパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a negative resist composition giving a resist pattern with high rectangularity and a resist pattern forming method.例文帳に追加

矩形性が高いレジストパターンが得られるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The auxiliary layer 60 is a negative pattern of the electrode pattern 70 and has a gap g1 around the electrode 71.例文帳に追加

補助層６０は電極パターン７０のネガティブパターンであって、電極７１の周りに隙間ｇ１を有している。 - 特許庁

When the photoconductive layer 13 is irradiated with light through a negative monochrome original plate 21 on which the negative pattern of a display image is recorded, the resistance value of the photoconductive layer 13 decreases and the photoconductive layer 13 exhibits conductivity in accordance with the negative pattern.例文帳に追加

表示画像のネガパターンが記録されているネガ白黒原板２１を介して光を照射すると、光伝導層１３の抵抗値が低下しネガパターンに応じて導電性を示す。 - 特許庁

To provide a forming method of an electrode for negative electrode of an electroluminescent element that can form a negative electrode electrode having a fine pattern.例文帳に追加

微細パターンの陰極電極を形成できる電界発光素子の陰極電極の形成方法を提供する。 - 特許庁

PATTERN FORMING METHOD, AND RESIST COMPOSITION, DEVELOPING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT AND RISING SOLUTION FOR NEGATIVE DEVELOPMENT TO BE USED IN THE SAME例文帳に追加

パターン形成方法、それに用いられるレジスト組成物、ネガ型現像用現像液及びネガ型現像用リンス液 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION FOR PRODUCING MEMS (MICRO ELECTRO MECHANICAL SYSTEMS) AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加

ＭＥＭＳ（ＭｉｃｒｏＥｌｅｃｔｒｏＭｅｃｈａｎｉｃａｌＳｙｓｔｅｍｓ）を製造するためのネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁

RESIST COMPOSITION, AND RESIST FILM AND NEGATIVE PATTERN FORMATION METHOD USING THE SAME例文帳に追加

レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法 - 特許庁

POLYMER COMPOUND, CHEMICALLY AMPLIFIED NEGATIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加

高分子化合物、化学増幅ネガ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁

ALKALI NEGATIVE DEVELOPMENT TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PRODUCTION METHOD OF PATTERN AND ELECTRONIC PARTS例文帳に追加

アルカリネガ現像型感光性樹脂組成物、パターンの製造法及び電子部品 - 特許庁