「Negative pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

Such a reaction that a part or whole of the α-alkyl-δ-hydroxy acid structure or α,α'-dialkyl-δ-hydroxy acid structure changes into a lactone structure by an acid catalyst reaction is used to form a negative pattern with high resolution and no swelling by water-based alkali development.例文帳に追加

そして、そのようなα−アルキル−δ−ヒドロキシ酸構造またはα，α’−ジアルキル−δ−ヒドロキシ酸構造の一部または全てが、酸触媒反応によりラクトン構造に変わる反応を用いる。 - 特許庁

To provide a negative pattern formation method that allows excellent roughness performance such as line width roughness, exposure latitude, and dry etching resistance, and an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and a resist film used for the same.例文帳に追加

ラインウィズスラフネス等のラフネス性能、露光ラチチュード及び耐ドライエッチング性能に優れたネガ型パターン形成方法、それに用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

Upon processing a chromium film M1 on a glass substrate GS, a real pattern and a SRAF (sub-resolution assist feature) are separately drawn in resists having opposite relations of positive/negative properties to each other and the chromium film M1 is consecutively processed by two lithographic processes.例文帳に追加

ガラス基板ＧＳ上のクロム膜Ｍ１の加工に際し、実パターンとＳＲＡＦとをポジ／ネガが互いに逆の関係にあるレジストに個別に描画し、２つのリソグラフィ工程でクロム膜Ｍ１を順次に加工する。 - 特許庁

The exposure equipment illuminates a negative plate by the light supplied from the light source using a lighting optical system, and exposes a substrate by projecting a pattern of the original plate onto the substrate via a projection optical system.例文帳に追加

露光装置は、光源から提供される光を利用して照明光学系によって原版を照明し、該原版のパターンを投影光学系を通して基板に投影することによって該基板を露光する。 - 特許庁

A hollow turbine blade pattern (12) includes a positive pressure and negative pressure side walls (22, 24) that extend in a blade length direction between a root (26) and a tip (28) and extend in a blade chord direction between leading and tailing edges (30, 32) that are opposed to each other.例文帳に追加

中空タービン翼形部（１２）は、根元（２６）と先端（２８）との間で翼長方向に延びかつ対向する前縁及び後縁（３０、３２）間で翼弦方向に延びる正圧及び負圧側壁（２２、２４）を含む。 - 特許庁

To provide a method of forming a photolithographic pattern using a negative tone development process particularly applicable in the manufacture of electronic devices, and coated substrates and electronic devices formed by the methods.例文帳に追加

電子デバイス製造に特別な適用可能性が見いだされるネガ現像プロセスを用いてフォトリソグラフィパターンを形成する方法の提供、及びこの方法によって形成されるコーティングされた基体および電子デバイスの提供。 - 特許庁

An edge generation unit 12, on the basis of the waveform data DW, generates a set pulse and a reset pulse which are asserted with the timing of the positive edge and negative edge of the test pattern signal, respectively, and outputs them to an RS flip-flop 14.例文帳に追加

エッジ生成部１２は、波形データＤＷにもとづき、テストパターン信号のポジティブエッジ、ネガティブエッジそれぞれのタイミングでアサートされるセットパルス、リセットパルスを生成し、ＲＳフリップフロップ１４に出力する。 - 特許庁

Since exposure which does not affect the finally obtained accuracy of the pattern position is enabled by adjusting the center of gravity in multiple exposure to zero by positive and negative mixed shifts, a mask is efficiently and accurately produced.例文帳に追加

また正負混合のシフト量で多重露光時の重心を０にすることで最終的に得られるパターン位置精度に影響を与えない露光が可能であるため効率的で高精度なマスク作製が可能である。 - 特許庁

To provide a new oxime ester compound functionable as a highly sensitive radical polymerization initiator, and to provide a curable composition using the same, and to provide a negative-type resist including the composition, and to provide a method for forming an image pattern using the resist.例文帳に追加

高感度なラジカル重合開始剤として機能しうる新規オキシムエステル化合物及びそれを用いた硬化性組成物、及びそれを含むネガ型レジスト及びそれを用いた画像パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive composition having such a chemical structure as to ensure transparency in the far ultraviolet light region and high dry etching resistance and capable of forming a minute pattern by development with an aqueous alkali developing solution without causing swelling.例文帳に追加

遠紫外光領域で透明、かつドライエッチング耐性も高い化学構造を持ち、水性アルカリ現像液で膨潤することなく微細パタンを現像できるネガ型感放射線組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition excellent in transparency particularly to radiation and dry etching resistance as a chemical amplification type resist and giving a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして特に放射線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与えるネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

The negative type pattern which does not swell in aqueous alkali development and has high resolution is formed by using a reaction in which part or the whole of a γ- or δ-alkoxycarboxylic acid structure is converted to a lactone structure by an acid catalyzed reaction.例文帳に追加

γ−またはδ−アルコキシカルボン酸構造の一部または全てが、酸触媒反応によりラクトン構造に変わる反応を用い、水性アルカリ現像で膨潤のない高解像性のネガ型のパタンを形成する。 - 特許庁

To provide a polyimide which itself can be soluble in general low boiling point organic solvents for general purpose use, typically methyl ethyl ketone, and can be developed with an aqueous alkali solution to give a negative type polyimide pattern, and to provide a method for producing the same.例文帳に追加

それ自身メチルエチルケトンによって代表される汎用の低沸点有機溶媒に可溶性であり、かつアルカリ水溶液で現像してネガ型ポリイミドパターンを与え得るポリイミドおよびその製造法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition capable of forming a rectangular pattern, ensuring less residue in an unexposed portion and excellent in light and heat fastness, and also provide a method for producing a color filter using the curable composition.例文帳に追加

矩形なパターン形成が可能であり、未露光部の残渣が少なく、光堅牢性および熱堅牢性に優れた染料含有ネガ型硬化性組成物、並びに、これを用いたカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

On the first insulation layer 6, a negative electrode 8 as a first electrode is formed to electrically connect the display segments common in both columns in a display pattern 3 to each other to reach the inside of the through holes 7.例文帳に追加

第一絶縁層６の上には、表示パタン３の各桁の共通する表示セグメント間がスルーホール７内で電気的に接続されるようにスルーホール７内に及んで第一電極としての陰極８が形成される。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies few development defects as well as high sensitivity, high resolution and a good pattern shape when an active ray or radiation, particularly an electron beam or X-ray is used.例文帳に追加

活性光線又は放射線、特に電子線又はＸ線の使用に対して、高感度、高解像性、良好なパターン形状に加えて、現像欠陥の特性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

In a highly accurate high-resolution part in which a pixel, a black matrix or the like is narrow, a negative resist 41 is applied on the surface of the substrate 21 of printing plate and, by exposing and developing the applied resist, a fine line pattern is formed.例文帳に追加

画素、ブラックマトリクスなど幅が小さく高精細な高解像度部分においては、印刷版用基板２１の表面上にネガレジスト４１を塗布し、これを露光、現像することによって細線パターンを形成する。 - 特許庁

To utilize negative torque by harmonic components contained in an induced voltage for positive torque, improved efficiency, and output a waveform pattern at an appropriate timing for applying to various kings of motors in an inverter control method.例文帳に追加

インバータ制御方法において、誘起電圧に含まれる高調波成分による負トルクを正トルクに利用し、高効率化を図り、波形パターンを適切なタイミングで出力し、種々モータに適用可能とする。 - 特許庁

After acid cleaning with a solution containing sulfuric acid and before and/or during washing (rinsing), the photomask surface of the photomask having the light blocking film pattern formed on the light-transmissive substrate on the photomask surface is electrostatically charged to the negative potential.例文帳に追加

透光性基板上に遮光性膜パターンを形成したフォトマスクを硫酸を含む溶液で酸洗浄後、水洗（リンス）を行う前及び／又は水洗（リンス）中に、フォトマスク表面を負の電荷に帯電させる。 - 特許庁

The contour information calculation means 131 to 134 calculate information for receiving image data to estimate a contour of a pattern as a continuous quantity with positive and negative directions with respect to the surrounding pixels pixel for each pixel.例文帳に追加

輪郭情報算出手段131〜134は、画像データを入力として絵柄の輪郭を推測するための情報を、画素ごとにその周囲の画素に対して正負の方向を持った連続量として算出する。 - 特許庁

To provide a photomask for a negative resist with which a pattern can be reliably formed in a boundary part between two successive exposure regions when patterns are continuously formed by repeating exposure through a photomask.例文帳に追加

フォトマスクを介して露光を繰り返し行うことに基づいて連続的にパターンを形成する際に、前後の露光領域の境界部に信頼性よくパターンを形成することができるネガレジスト用のフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide a stamper for making optical recording media which utilizes a negative type resist permitting the pattern exposure suitable for a higher recording density, eliminates the need for a transfer process step to a stamper for molding and is excellent in productivity.例文帳に追加

高記録密度化に適したパターン露光を行い得るネガ型レジストを利用し、且つ成形用スタンパーへの転写工程を不要とし、生産性に優れた光記録媒体作製用スタンパーを提供する。 - 特許庁

When three ICs are connected to a common pixel area, the conductor pattern for the middle IC is arranged such that the slope of the leftmost fan-out segment is positive and the slope of the rightmost segment is negative.例文帳に追加

三枚のＩＣが共通の画素領域に接続される時、一番左のファンアウト区間の傾きはプラスで、一番右のファンアウト区間の傾きはマイナスであるように、真ん中のＩＣの導線パターンを配置する。 - 特許庁

This negative type radiation sensitive resin composition solution is suitable for use as a resist which is not swellable with a developing solution, excellent in developability, pattern shape, focus latitude, heat resistance, pattern faithfulness, lithographic process stability, etc., having high sensitivity and high resolution and adaptable to various radiation sources.例文帳に追加

本発明によれば、現像液による膨潤がなく、現像性、パターン形状、フォーカス許容性、耐熱性、パターン忠実度、リソグラフィープロセス安定性などに優れ、高感度かつ高解像度で様々な放射線源に対応できるレジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物溶液を得ることができる。 - 特許庁

The electron ray source 1 comprises, a transparent substrate 2, a photoelectriccathode film 3 which is formed on the transparent substrate 2, an insulator mask film 4 which is formed no the photoelectriccathode film 3 and has a negative pattern of a transcribing pattern, and a focusing electrode mesh 3a which is formed on the mask film 4.例文帳に追加

電子線源１は、透明基板２と、透明基板２上に成膜された光電陰極膜３と、光電陰極膜３上に成膜され、転写すべきパターンの反転パターンを有する絶縁体のマスク膜４と、マスク膜膜上に形成された網目状の収束電極膜３ａから構成される。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive composition which is suitable for exposure to far-UV rays including 193 nm wavelength of ArF excimer laser light and which can form a pattern with high resolution while avoiding the causes for deterioration in the resolution such as swelling due to permeation of a developer or remaining of a resist film between the lines of the pattern.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレ−ザの波長１９３ｎｍを含む遠紫外線での露光に適していて，現像液の浸透による膨潤や，パタンの線間にレジスト膜が残るといった解像度劣化の原因を取り除いた高解像度のパタン形成が可能なネガ型の感放射線組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition for ion beam writing having good thermal stability and storage stability, containing few ionic impurities such as Cl and Na, excellent in transparency in a wide wavelength region, and giving a resist pattern with a large film thickness and a high aspect ratio, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

レジスト組成物自体の熱安定性・保存安定性が良好で、ＣｌやＮａなどのイオン性の不純物が少なく、広い波長領域で透明性に優れ、厚膜かつアスペクト比の高いレジストパターンが得られるイオンビーム描画用ネガ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The respective individual control parts 13-1-13n have a discrimination circuit 21 discriminating whether the fed voltage is positive or negative, and the guide signs corresponding to the individual control parts are controlled to be driven so as to light the guide signs 1-n by a lighting pattern and a display pattern according to the discriminated signals from the discrimination circuit 21.例文帳に追加

各個別制御部１３−１〜１３−ｎは、給電された電圧が正負いずれであるかを識別する識別回路２１を有し、識別回路２１からの識別信号に応じた点灯パターン及び表示パターンで誘導標１〜ｎが点灯するように、当該個別制御部に対応する誘導標を駆動制御する。 - 特許庁

To solve problems on the technique for improving performances of microphotofabrication using far ultraviolet light, especially ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, in particular, to provide a negative resist composition which avoids pattern collapse even in fine pattern formation and exhibits good resolution.例文帳に追加

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

In an LED light source device, an LED chip having positive and negative electrodes formed on the same plane thereof is mounted on a flexible substrate having a wiring pattern so that the electrodes face the wiring pattern, and a light-transmissible substrate having smaller flexibility than the flexible substrate is provided on the LED chip.例文帳に追加

配線パターンを有する可撓性基板上に、同一面に正負の電極が形成されたＬＥＤチップが、前記電極が前記配線パターンに対向するように載置されており、前記ＬＥＤチップ上に前記可撓性基板よりも可撓性の小さい透光性基板を備えるＬＥＤ光源装置。 - 特許庁

In the color filter whose thickness-direction retardation has the relationship of (red pixels)≤(green pixels)≤(blue pixels), the red pixels are produced by forming a pattern with a red colored composition containing an organic compound having an epoxy group as a retardation adjuster and hardening the pattern, and the red pixels have a negative retardation.例文帳に追加

厚み方向位相差が赤色画素≦緑色画素≦青色画素の関係を有するカラーフィルタにおいて、前記赤色画素が、リタデーション調整剤として、エポキシ基を有する有機化合物を含有する赤色着色組成物にてパターン形成し硬膜してなる赤色画素であるとともに、負のリタデーションを持つ赤色画素である。 - 特許庁

To provide a highly practical negative photoresist suitable for lithography using light of ≤220 nm such as ArF excimer laser light as exposure light and having resistance to pattern deformation due to swelling and adhesion to a substrate (a fine pattern is less liable to peel off a substrate) in addition to dry etching resistance and high resolution.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザ光等の２２０ｎｍ以下の光を露光光に用いたリソグラフィ用として好適に用いられる、ドライエッチング耐性、高解像性に加え、膨潤によるパターン変形及び基板密着性（微細なパターンが基板から剥がれにくい）を兼ね備えた実用性が高いネガ型フォトレジストを提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition which satisfies high sensitivity, high resolution, good heat resistance of a pattern, suppression of outgassing and reduction of surface roughness in microfabrication of a semiconductor device, and also to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、特に半導体素子の微細加工において高感度、高解像性、良好なパターン耐熱性、アウトガスの低減、表面荒れの低減を満足するネガ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

A bright and dark display pattern, where bright display pixels and dark display pixels are alternately arrayed in horizontal and vertical directions by each pixel and a polarity pattern, where positive-polarity pixels and negative-polarity pixels are alternately arrayed in the horizontal and the vertical direction by every other pixel are combined to drive the liquid crystal display device.例文帳に追加

水平方向及び垂直方向に明表示画素と暗表示画素とが１画素毎に交互に配列する明暗表示パターンと、水平方向及び垂直方向に正極性画素と負極性画素とが２画素毎に交互に配列する極性パターンとを組み合わせて液晶表示装置を駆動する。 - 特許庁

To obtain techniques to improve the performance in microprocessing of a semiconductor element using high energy rays, in particular, KrF excimer laser light, X-rays, electron beams or EUV (extreme UV) rays, and to provide a negative resist composition satisfying the requirements for high sensitivity, high resolution, a preferable pattern profile and preferable dependence on the pattern density.例文帳に追加

高エネルギー線、特にＫｒＦエキシマレーザー、Ｘ線、電子線あるいはＥＵＶ光を使用する半導体素子の微細加工における性能向上技術の課題を解決することであり、高感度、高解像性、良好なパターン形状、及び良好な疎密依存性を同時に満足するネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To solve the problems of the performance improving technique of microphotofabrication using far-ultraviolet light, particularly ArF excimer laser light of 193 nm wavelength, specifically to provide a negative resist composition which, even in fine pattern formation, avoids pattern collapse and exhibits good resolution.例文帳に追加

本発明の目的は、遠紫外線光、特に波長が１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においてもパターン倒れがなく、良好な解像性を示すネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

This element has a transparent substrate, a translucent layer formed on the transparent substrate, a first positive electrode layer formed on the translucent layer in a prescribed pattern, a negative electrode layer formed on the first positive electrode layer by total reflection metal films, and an organic layer which is arranged between the first positive electrode layer and the negative electrode layer and which includes at least a light-emitting layer.例文帳に追加

透明基板と、前記透明基板上に形成される半透明層と、前記半透明層上に所定パターンで形成された第１正極層と、前記第１正極層の上に全反射金属膜で形成された負極層と、前記第１正極層と負極層との間に配置された少なくとも発光層を含む有機層とを備える。 - 特許庁

This manufacturing method is provided with a process to form a positive electrode having a line pattern on a substrate, a process to form an organic EL luminescent layer on the substrate having the positive electrode formed on it, and a process to form a negative electrode having a line pattern extending perpendicularly to the line pattern of the positive electrode on the organic EL luminescent layer.例文帳に追加

基板上にラインパターンを有する陽極を形成する工程と、陽極を形成した前記基板上に有機ＥＬ発光層を形成する工程と、マスクとして複数本の耐熱性金属のワイヤを用いて、有機ＥＬ発光層上に陽極のラインパターンと直交する方向に延びるラインパターンを有する陰極を形成する工程とを具えたことを特徴とする有機ＥＬ素子の作製方法。 - 特許庁

This film overlay 1 includes an opaque portion, which is printed with a negative of a desired pattern 10 or a design, on a face opposite to a face of the cosmetic, and hence a display window 8 for displaying the sample 2 is formed.例文帳に追加

このフィルム上敷き１は、化粧品の面と反対側の面に所望のパターン１０又はデザインの陰画で印刷された不透明な部分を含んでおり、それによってサンプル２を表示するための表示窓８を形成している。 - 特許庁

A negative photosensitive conductive material 16 is applied on the inter-line insulating layer 14 and in the spiral groove 13 like a film, and exposed by using the same photomask 30, and the non-exposed part is removed so that a coil conductor pattern can be formed.例文帳に追加

ライン間絶縁層１４の上及びスパイラル溝１３内にネガ型感光性導電材料１６を膜状に付与して同じフォトマスク３０を用いて露光して未露光部分を除去し、コイル導体パターンを形成する。 - 特許庁

The composition 2 is capable of forming a good negative type pattern film with a high residual film rate and high resolution in a range in which transparency is retained without using a large quantity of the photosensitive agent that colors the film.例文帳に追加

この感光性樹脂組成物２では、皮膜を着色させる感光剤を多く用いずに、透明性を保持した範囲において、高残膜率および高解像度で、良好なネガ型のパターンの皮膜として形成することができる。 - 特許庁

The pattern forming method employs the negative resist composition.例文帳に追加

（Ａ）下記式（１）または環状オレフィンを開環重合した後水素添加した重合体単位、ビニルエーテル重合体単位から選ばれ、イオンビームの照射により現像液に難溶又は不溶となる樹脂、（Ｂ）樹脂（Ａ）を溶解する少なくとも一種以上の有機溶剤。 - 特許庁

To provide a negative resist composition showing not only proper basic physical properties, such as retention ratio, pattern stability, adhesion to substrate, and chemical resistance, but also very low brittleness due to superior ductility, during bonding process and hot process.例文帳に追加

残膜率、パターンの安定性、基材に対する接着力及び耐化学性などの基本物性が良好なだけでなく軟性に優れており合着工程や高温工程中において容易に割れないネガレジスト組成物の提供。 - 特許庁

When the discharge of the pattern forming material is stopped, a valve 554 is closed to cut off the connection between the sub-tank 551 and the piping 56, and immediately thereafter, a valve 555 is opened temporarily to connect the sub-tank 551 to the negative-pressure tank 572 for a short time.例文帳に追加

パターン形成材料の吐出を停止する際には、バルブ５５４を閉じてサブタンク５５１と配管５６との接続を遮断した直後に、バルブ５５５を一時的に開いてサブタンク５５１と負圧タンク５７２とを短時間だけ接続する。 - 特許庁

By applying no electric field to the display pixel P which forms display patterns such as number characters, and applying an electric field to the display pixel P' which does not form display patterns, a display mode of negative pattern can be achieved.例文帳に追加

数字等の表示パターンを構成する表示画素Ｐには電界を印加せず、表示パターンを構成しない表示画素Ｐ’には電界を印加することにより、反転表示（ネガパターン）の表示態様を実現することができる。 - 特許庁