「Negative pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(5ページ目) - Weblio英語例文検索

After patterning of a resist is carried out, wet etching of a laminated metal film aside from a part to become a negative electrode auxiliary wiring pattern 3 is carried out.例文帳に追加

レジストをパターニングした後、陰極補助配線パターン３となる部分以外の積層金属膜をウェットエッチングする。 - 特許庁

At the time of forming a wiring groove pattern, a negative resist is used as a resist and the outer peripheral section of the wafer is exposed to light before development.例文帳に追加

配線溝パターンを形成する際のレジストとしてネガレジストを用い、現像前にウエハ外周部を露光する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method, a chemically amplifying resist composition and a resist film, which are excellent in all of sensitivity, reduction in development defects and a pattern profile in the formation of a negative pattern using a developing solution containing an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern formation method which is excellent in sensitivity, capability of reducing development defects, and pattern shape in negative pattern formation with a developer containing an organic solvent, and to provide a chemical amplification type resist composition and resist film.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、感度、現像欠陥低減、パターン形状のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

Since the surface of the area formed with the silver layer 17 is black, the reflectivity decreases and, in this way, a negative pattern (a still picture) is formed on the negative monochrome original plate 21.例文帳に追加

銀層１７が形成された領域はその表面が黒色であることから、反射率が低下し、これによりネガ白黒基板２１に対してネガ形状のパターン（静止画）が形成される。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive composition which, when used as a resist material, can be decomposed and removed at a low temperature and ensures a very small residual amount of undecomposed components, and to provide a method for forming a conductive pattern using the negative photosensitive composition.例文帳に追加

レジスト材料として用いた場合に低温で分解除去することができ、未分解成分の残存量が極めて少ないネガ型感光性組成物を提供する。 - 特許庁

Further incorporation of (d) a photoacid generator enables the formation of a positive-type or negative-type pattern or incorporation of (e) a compound having an unsaturated bond and (f) a photoinitiator enables the formation of a negative-type pattern.例文帳に追加

さらに（ｄ）光酸発生剤を含有させることにより、ポジ型またはネガ型のパターン形成が可能となり、あるいは（ｅ）不飽和結合を有する化合物と（ｆ）光重合開始剤を含有させることで、ネガ型のパターン形成が可能となる。 - 特許庁

The sum total of the intensity of the magnetization of a burst part of the servo pattern is made 0 by forming a dc signal part involved in the burst part of the servo pattern with a combination of positive and negative dc signal components and low density dummy bits or a pattern shifted in its phase from the servo pattern.例文帳に追加

サーボパターンのバースト部分に含まれる直流信号部分を、正と負の直流信号要素の組み合わせ、低密度のダミービット、もしくは位相をずらしたパターンで構成することにより、サーボパターンのバースト部分の磁化量の総和を０とする。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular a chemical amplitude negative resist material, which has a high contrast of alkali dissolution rate before and after light exposure, has a high resolution at high sensitivity and small line edge roughness and is especially suitable as a fine pattern forming material in manufacturing a super LSI or in manufacturing a photo mask pattern material and to provide a pattern formation method and a photomask blank using the negative resist material.例文帳に追加

露光前後のアルカリ溶解速度コントラストが高く、高感度で高解像性を有し、ラインエッジラフネスが小さい、特に超ＬＳＩ製造用あるいはフォトマスクパターン作製における微細パターン形成材料として好適なネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、これを用いたパターン形成方法及びフォトマスクブランクを提供する。 - 特許庁

To provide a printing plate suppressing adhesion failure between a negative film and a photosensitive resin structure and having a desired print pattern.例文帳に追加

ネガフィルムと感光性樹脂構成体との密着不良を抑制し、所望の印刷パターンを有する印刷版を製造する。 - 特許庁

To provide positive and negative chemically amplified resist compositions, having high sensitivity and giving a resist pattern of superior shape.例文帳に追加

高感度を有し、かつ優れた形状のレジストパターンを与えるポジ型及びネガ型の化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Such a negative photosensitive resin composition has excellent pattern resolution and excels also in adhesiveness to the opposite bases.例文帳に追加

このようなネガ型感光性樹脂組成物は優れたパターン解像性を有し、且つ対向基盤との接着性にも優れている。 - 特許庁

Then a resist frame defining a pattern for the second yoke part 221 is formed by exposing and developing the negative resist film.例文帳に追加

次に、ネガ型レジスト膜を、露光し、現像することにより、第２のヨーク部２２１のためのパターンを画定するレジストフレームを形成する。 - 特許庁

The negative electrode 107 has a large area, and further it is in contact with the heat sink 1 widely with the electrode-connecting pattern 2 in-between.例文帳に追加

また、負電極１０７は広面積を持ち、更に、電極接続パターン２を介して幅広くヒートシンク１と接している。 - 特許庁

A photo-resist pattern 82 that serves as a mask in forming the upper magnetic pole 17 is formed by using a negative type photo-resist.例文帳に追加

上部磁極１７を形成する際のマスクとして機能するフォトレジストパターン８２を、ネガティブ型のフォトレジストを用いて形成する。 - 特許庁

To provide a resist composition having practical sensitivity and capable of forming a minute negative type resist pattern free from swelling.例文帳に追加

実用可能な感度を有していて、膨潤のない微細なネガ型レジストパターンを形成できるレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist composition capable of forming a high-resolution resist pattern excellent in plating resistance, and being suitably used for producing MEMS, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

メッキ耐性に優れた高解像性のレジストパターンを形成でき、ＭＥＭＳを製造するために好適に用いられるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist composition that allows formation of an excellent contact hole pattern even in a substrate in which illumination reflection remains, and a resist film and a negative pattern formation method using the same.例文帳に追加

照明光反射が残る基板にも、良好なコンタクトホールパターンを形成可能とするレジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜及びネガ型パターン形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a technology for collecting an image for learning, especially, a technology for efficiently collecting negative case image including a similar pattern which is likely to be erroneously recognized as a prescribed pattern.例文帳に追加

学習用画像を収集する技術、特に、所定パターンとして誤認識し易い類似パターンを含む負事例画像を効率的に収集できるようにした技術を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition suitable for exposure with light having a wavelength shorter than 200 nm and forming a high resolution resist pattern, and also to provide a resist pattern forming method.例文帳に追加

２００ｎｍより短波長の光による露光に好適で高解像度のレジストパターンを形成することができるネガ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

As to the electrodes, photo-resists of negative type are formed on the piezoelectrics, pattern electrodes are formed via the photo-resists and predetermined outer edges of the pattern electrodes are removed by the laser beam.例文帳に追加

複数条の電極は、圧電体にネガ型のフォトレジストを形成し、このフォトレジストを介して、パターン電極を形成し、次にこれらのパターン電極の所定の外縁をレーザにより除去する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method excellent in both of line width uniformity of a pattern and developing time-dependency of sensitivity, a chemically amplified resist composition and a resist film, for negative pattern formation with a developer containing an organic solvent.例文帳に追加

有機溶剤を含む現像液によるネガ型パターン形成において、パターンの線幅均一性及び感度の現像時間依存性のいずれにも優れるパターン形成方法、化学増幅型レジスト組成物及びレジスト膜を提供する。 - 特許庁

Since a pattern of the graphite 53 and a pattern or the like imprinted on the metal mold have a positive- negative relation, the pattern or the like of the positive can be reproduced as it is on a surface of the synthetic resin container 1 molded by the metal mold.例文帳に追加

グラファイト（５３）の文様と金型に刻まれる文様等とは陽画と陰画の関係が成り立つので、この金型によって成形された合成樹脂製容器（１）の表面に陽画の文様等がそのまま再現される。 - 特許庁

To provide a pattern sewing machine which forms disruptive lines, which have a predetermined width in alignment with the sewing line of a pattern design, in a template negative plate such as pasteboard and can simply, quickly, and inexpensively create a template at time of sewing a pattern seam.例文帳に追加

厚紙等のテンプレート原板にパターン模様の縫製ラインに沿った所定幅を有する分断ラインを形成し、パターン縫目を縫製する際のテンプレートを簡単且つ迅速に、しかも安価に作成できるようにすることである。 - 特許庁

When the negative pattern is superposed on a plurality of shot positions on the wafer and exposure is carried out, mark positions at a plurality of specific shot positions among the plurality of shot positions are measured, and correction amounts are computed based on the statistical treatment of the measured values to carry out the alignment between the negative pattern and the wafer.例文帳に追加

原板パターンをウエハ上の複数ショット位置に重ね合わせ露光する際、複数のショット位置のうち複数の特定ショット位置におけるマーク位置を計測し、計測値の統計処理から補正量を計算し原板とウエハの位置合わせを行う。 - 特許庁

An organic film is formed on a negative type resist pattern using the resist pattern scaledown material comprising a resin, a base generating agent and a solvent and a base component is diffused from the organic film into the resist pattern by heat treatment or irradiation with light to form a solubilized layer on the surface of the resist pattern.例文帳に追加

ネガ型レジストパターン上に、樹脂と、塩基発生剤と、溶媒とからなるレジストパターン微細化材料を用い有機膜を形成し、熱処理又は光照射処理により、有機膜からレジストパターン中に塩基成分を拡散させ、レジストパタン表面に可溶化層を形成させる。 - 特許庁

It is possible thereby that printing from a thermal transfer ribbon is not fixed on the pattern layer containing the silicone component within the definite range, and the ribbon printing is fixed on the protective layer with no pattern layer, and as a result, the ribbon printing is fixed with a shape of a negative pattern of the pattern layer.例文帳に追加

これにより、上記の一定範囲でシリコーン系成分を含有するパターン層の上には、熱転写リボンからの印字が定着せず、パターン層のない保護層上に、リボン印字が定着し、結果として、パターン層のネガパターンの形状でリボン印字部が定着される。 - 特許庁

The game machine is also constituted so that, when a judgement result of a jackpot judgement is negative, the generalization control board can decide the same notice pattern more easily than deciding a notice pattern different from a notice pattern of a jackpot notice pattern executed in the last symbol combination game.例文帳に追加

また、大当り判定の判定結果が否定の場合、統括制御基板が前回の図柄組み合わせゲームにおいて実行された大当り予告の予告パターンと異なる予告パターンを決定するよりも、同じ予告パターンを決定しやすくなるように遊技機を構成した。 - 特許庁

The entire surface of the substrate, after the base film has been peeled, is exposed to cure the unexposed negative resist layer left on the substrate so as to form the resist pattern reflecting the exposure mask in the negative resist layer.例文帳に追加

ベースフィルムを剥離した基板の全面を露光して基板に残された未露光のネガ型レジスト層を硬化させることにより、ネガ型レジスト層に、露光マスクを反映したレジストパターンを形成する。 - 特許庁

To provide a negative image forming method, using a negative type developer, which greatly reduces defects due to residue during formation of a negative image so as to stably form a high-precision fine pattern in order to manufacture an electronic device of high integration and high precision.例文帳に追加

高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ネガ画像の形成において、残渣系の欠陥を著しく低減できる、ネガ型現像液を用いたネガ画像形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition, forming a pattern having an excellent lithography performance and forward tapered sectional form.例文帳に追加

優れたリソ性能を有し、かつ順テーパー型断面形状を有するパターンを形成可能なネガ型感光性樹脂組成物の提供。 - 特許庁

The processing target film is etched using the uneven pattern transferred to the negative resist 3 and the photocurable resist 4 as a mask.例文帳に追加

前記ネガ型レジスト３及び前記光硬化性レジスト４に転写された凹凸パターンをマスクとして、前記被加工膜がエッチングされる。 - 特許庁

Thereafter, the chemical amplification negative-type colored photosensitive resin 32a is developed and, thereby, a color filter pattern 32 of and after the second color is formed.例文帳に追加

その後、化学増幅系ネガ型着色感光性樹脂３２ａを現像して、２色目以降のカラーフィルタパターン３２を形成する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method and a chemically amplified negative resist composition exhibiting a large depth of focus (DOF) and small line width roughness (LWR) and being capable of forming a pattern having a superior pattern shape and reduced bridge defects.例文帳に追加

フォーカス余裕度（ＤＯＦ）が広く、線幅バラツキ（ＬＷＲ）が小さく、パターン形状に優れ、更にはブリッジ欠陥が低減されたパターンを形成できるパターン形成方法及び化学増幅型ネガ型レジスト組成物を提供することを課題としている。 - 特許庁

To provide a positive type radiation-sensitive resin composition capable of forming a pattern with less residue on the bottom part of the pattern, as compared with the conventional pigment-containing negative curable resin, with respect to a colored cured resin pattern, and to provide its production method.例文帳に追加

着色硬化樹脂パターンおよび製造方法において、従来の顔料を含有するネガ型硬化性樹脂と比較して、パターンの裾部分に、残渣が少ないパターンを形成し得るポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition suitable for use as a chemical amplification type negative type resist developable with an alkali developing solution having the conventional concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern in an ordinary line-and- space pattern (1L1S) and excellent also in focus latitude.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、通常のライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）において、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、かつフォーカス余裕度にも優れた化学増幅型ネガ型レジストとして好適なネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist material, which has an extremely high curing rate, is appropriately applicable to clear pattern exposure or direct drawing with the use of an energy ray, and has extremely good adhesiveness with a base material and to provide an image pattern forming method using the negative resist.例文帳に追加

硬化速度が極めて速く、かつエネルギー線により、鮮明なパターン露光あるいは直接描画に好適に用いることが可能で、かつ基板との密着性に非常に優れた、ネガ型レジスト材料および該ネガ型レジストを用いた画像パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist material which can make the gradient of dissolution of a positive or negative resist smaller than that of a resist for a repetitive pattern so as to ensure wide margins for focusing and exposure for an isolated left pattern with the positive or negative resist and does not cause the lowering of a margin for PEB temperature as a conventional defect.例文帳に追加

孤立残しパターンをポジあるいはネガレジストを用いて、広いフォーカスや露光のマージンを確保するために、レジストの溶解の傾きを繰り返しパターン用レジストより小さくすることができるとともに、従来の欠点であるPEB温度マージンの低下を生じないジスト材料を提供する。 - 特許庁

The driving pattern is a pattern of a detection signal applying a negative voltage to only one pixel electrode row of adjacent pixel electrode rows, and the defectively short-circuited pixel electrode in the other pixel electrode row of the adjacent pixel electrode rows is forcibly offset on a negative voltage side.例文帳に追加

駆動パターンは、隣接する画素電極列の一方の画素電極列のみに負電圧を印加する検査信号のパターンであり、隣接する画素電極列の他方の画素電極列において短絡欠陥する画素電極を負電位側に強制的にオフセットさせる。 - 特許庁

To provide a negative type radiation sensitive resin composition for a chemical amplification type negative type resist applicable to an alkali developing solution of ordinary concentration, capable of forming a high resolution rectangular resist pattern with respect to an ordinary line-and-space pattern, free of resist pattern defects (bridging and chipping) after development and excellent also in sensitivity, developability, dimensional faithfulness, etc.例文帳に追加

通常濃度のアルカリ現像液に適用でき、かつ通常のライン・アンド・スペースパターンにおいて、高解像度で矩形のレジストパターンを形成することができ、現像後にレジストパターン欠陥(橋架け(ブリッジング)、欠け）がなく、感度、現像性、寸法忠実度等にも優れる化学増幅型ネガ型レジストのためのネガ型感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The photomask has a light transmitting part 12 which transmits light and a light blocking part 11 which blocks light and is used to form a negative resist pattern corresponding to the pattern of the light transmitting part 12.例文帳に追加

本発明にかかるフォトマスクは、光を透過する光透過部１２と、光を遮光する遮光部１１とを有し、光透過部１２の形状に対応したネガレジストパターンを形成するためのフォトマスクである。 - 特許庁

The positive winding foils are folded in a same direction to overlap each other in a first pattern of recesses and the negative winding foils are folded in a same direction to overlap each other in a second pattern of recesses.例文帳に追加

正の巻付フォイルは、凹部第１パターン内で相互に重なるよう同じ方向に折り畳まれるとともに、負の巻付フォイルは、凹部第２パターン内で相互に重なるよう同じ方向に折り畳まれる。 - 特許庁

To form a high aspect etching pattern without being accompanied with positive-negative reverse or increasing the number of etching steps, to improve etching durability of a photoresist pattern and to prevent line thinning by electron beam irradiation.例文帳に追加

ポジネガ反転を伴うことなく、エッチング回数増なく、高アスペクトエッチングパターンを形成でき、また、フォトレジストパターンのエッチング耐性を向上させ、電子ビーム照射によるライン細りを防止できる。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition used in a functional element in which two bases placed opposite to each other are bonded together by way of a structure obtained from the negative photosensitive resin composition, the negative photosensitive resin composition being excellent in pattern resolution and in adhesiveness of the structure to the bases.例文帳に追加

対向配置される２つの基盤をネガ型感光性樹脂組成物から得られた構造体を介して接着させた機能素子において、優れたパターン解像性を有し、且つ構造体と基盤との接着性にも優れたネガ型感光性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a negative resist material, in particular, a chemically amplified negative resist material that can exhibit higher resolution than conventional hydroxy styrene or novolac negative resist materials, that provides excellent pattern profiles after being exposed and that exhibits excellent etching resistance; and a patterning process that uses the resist material.例文帳に追加

従来のヒドロキシスチレン系、ノボラック系のネガ型レジスト材料を上回る高解像度を有し、露光後のパターン形状が良好であり、更に優れたエッチング耐性を示すネガ型レジスト材料、特に化学増幅ネガ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁