「Negative pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(6ページ目) - Weblio英語例文検索

(b) Or a negative electrode 4 and a pattern of an electron injection blocking layer 10 are formed on a substrate 1 in a stripe form in a rectangular shape of cross section.例文帳に追加

或いは基体１上には、陰極４および電子注入阻止層１０のパターンがストライプ状に断面矩形状に形成されている。 - 特許庁

In the method for patterning a semiconductor element, a fine pattern is formed according to a BLR (bi-layer resist) process using the negative resist composition.例文帳に追加

本発明の半導体素子のパターン形成方法では、ネガティブ型レジスト組成物を使用してＢＬＲ工程によって微細パターンを形成する。 - 特許庁

To realize a machine translating system which easily prepares a pattern of negative expression and can correctly perform translation, without considering matchings with other patterns.例文帳に追加

否定表現のパターンが作成し易く、他のパターンで整合を考慮する必要がなく、正しく翻訳できる機械翻訳装置を実現する。 - 特許庁

Further, the back ground area is used to display a decoration pattern 511 overlapping the film frame 503, the negative portion 504 and/or the peripheral portion 505.例文帳に追加

更に、背景用の領域には、フィルム枠５０３、ネガ部５０４及び／又は周辺部５０５と重なる装飾図柄５１１が表示される。 - 特許庁

[2] The method for forming a resist pattern includes a step for obtaining a resist film by applying the negative type photosensitive composition defined by [1] on a base material, a step for pattern-exposing the obtained resist film, and a step for forming a resist pattern by developing the resist film after the pattern-exposure and by dissolving and removing the unexposed resist film.例文帳に追加

［２］［１］記載のネガ型感光性組成物を基材上に塗布してレジスト膜を得る工程と、得られたレジスト膜をパターン露光する工程と、パターン露光後のレジスト膜を現像して未露光部のレジスト膜を溶解除去してレジストパターンを形成する工程とを有することを特徴とするレジストパターンの形成方法。 - 特許庁

The sum total of the intensity of the magnetization of a burst type of the servo pattern is made 0 by forming a DC signal part involved in the burst part of the servo pattern with a combination of positive and negative DC signal components and low-density dummy bits or a pattern shifted in its phase.例文帳に追加

サーボパターンのバースト部分に含まれる直流信号部分を、正と負の直流信号要素の組み合わせ、低密度のダミービット、もしくは位相をずらしたパターンで構成することにより、サーボパターンのバースト部分の磁化量の総和を０とする。 - 特許庁

After forming on an Al film 5 a resist pattern 6 by using a negative type photoresist, the Al film 5 is isotropically etched by using a mixed acid that there are formed in the Al film 5 undercut-form triggering portions 5a penetrating respectively the film 5 from the end portions of the resist pattern 6 in the interfacial direction between the film 5 and the pattern 6.例文帳に追加

Ａｌ膜５上にネガ型のフォトレジストを用いてレジストパターン６を形成した後、混酸を用いて等方性エッチングし、Ａｌ膜５にレジストパターン６の端部から界面方向へ入り込んだアンダーカット状のトリガ部５ａを形成する。 - 特許庁

The pattern forming apparatus includes: a nozzle for discharging the pattern forming material; a sub-tank 551 for storing the pattern forming material; compressed-air piping 56 and vacuum piping 57 which are connected to the sub-tank 551; and a negative-pressure tank 572 installed on the piping 57.例文帳に追加

パターン形成装置は、パターン形成材料を吐出するノズル、パターン形成材料を貯溜するサブタンク５５１、サブタンク５５１に接続される圧縮空気用の配管５６および真空用の配管５７、並びに、配管５７上に設けられた負圧タンク５７２を備える。 - 特許庁

To provide a negative radiation-sensitive resin composition which can form a rectangular pattern with high resolution and has superior sensitivity, developing property, size faithfulness, etc.例文帳に追加

高解像度で矩形のパターンを形成でき、しかも感度、現像性、寸法忠実度等に優れたネガ型感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified negative resist composition less liable to cause bridges and having small substrate dependency of a pattern thereof, and to provide a patterning process using the same.例文帳に追加

ブリッジが発生しにくく、また、パターンの基板依存性の小さな化学増幅ネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In a thin film transistor, when the width of effective region of a pixel is A and the width of negative pattern of effective region of a pixel is B, the width B is larger than the width A.例文帳に追加

画素の有効領域の幅をＡ、画素の有効領域のネガパターンの幅をＢとしたとき、幅Ｂが幅Ａよりも大きな薄膜トランジスタとする。 - 特許庁

A 2nd compositing means 112 composites the image If and a negative positive inversion gray pattern image Id to obtain a 2nd synthetic texture image Ig.例文帳に追加

この拡大原テクスチャ画像Ｉｆとネガポジ反転グレイパターン画像Ｉｄとを第２の合成手段１１２により合成して第２合成テクスチャ画像Ｉｇを得る。 - 特許庁

To provide a negative electrode, with little pulverization in changing and discharging, allowing high rate discharging, without the drop in battery performance in a irregular discharging pattern.例文帳に追加

充・放電サイクルにあっても微粉化が少なく、高率放電ができ、不規則な放電パターンにおいても電池性能の低下がない負極を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type curable composition containing a dye which is highly sensitive, enables a fine pattern with rectangular cross sections to be formed, and at the same time, and achieves improvement in in-film uniformity of applied and formed coating.例文帳に追加

高感度で、断面矩形の微細パターンの形成が可能であると共に、塗布形成された塗膜の膜内均一性を向上させる。 - 特許庁

To provide a negative resist composition hardly causing a bridge in forming a pattern and providing a high resolution and a patterning method using the same.例文帳に追加

パターン形成時にブリッジが発生しにくく、高い解像性を与えることができるネガ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

The surroundings of the negative electrode 4 and the pattern of the electron injection blocking layer 10 are enclosed by a luminous material layer 2, and its outside is surrounded by a positive electrode 6.例文帳に追加

陰極４および電子注入阻止層１０のパターンの周囲は、発光材料層２により囲まれ、その外側は陽極６により囲まれている（b）。 - 特許庁

To provide a negative resist composition for a thick film, which forms a high-resolution pattern having a high aspect ratio, and has high sensitivity and high storage stability.例文帳に追加

高解像性、高アスペクト比のパターンを形成でき、かつ高感度で高い保存安定性を有する厚膜用ネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

A negative electrode film 13 formed with a pattern for radiating the primary electron is formed on an insulating film 12 formed on a surface of an insulator 11.例文帳に追加

絶縁体１１の表面上に形成された絶縁体膜１２上に、一次電子を放射するパターニングされた陰極膜１３が形成されている。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition for electron beams or X-rays excellent in sensitivity and resolving power even under the condition of a high accelerating voltage and excellent in beam shape reproducibility of a pattern.例文帳に追加

高加速電圧の条件においても、感度、解像力に優れ、且つパターンのビーム形状再現性に優れたネガ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

Lugs 18 of a positive electrode plate 1 and a negative electrode plate 2 are put between the comb-shaped teeth of the mold, after which additional lead forming a pattern of an electrode pole 9 and a strap 6 is placed.例文帳に追加

そして、前記金型のくし歯の部分に、正極板1や負極板2の耳部18を挟んだ後、極柱9とストラップ6の原型となる足し鉛を置く。 - 特許庁

To provide positive and negative chemically amplified resist compositions, having high resolution and high sensitivity and giving a resist pattern of superior shape.例文帳に追加

高解像性及び高感度を有し、かつ優れた形状のレジストパターンを与えるポジ型及びネガ型の化学増幅型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative colored photosensitive composition excellent in pattern adhesion and suitable for use in production of a color filter with less residue and good development margin.例文帳に追加

パターン密着性に優れ、かつ残渣、現像マージンが良好なカラーフィルターの製造に供されるネガ型着色感光性組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a negative resist composition capable of forming a resist film of which surface hydrophobicity is high and having good lithography characteristics, and a resist pattern forming method.例文帳に追加

膜表面の疎水性が高いレジスト膜を形成でき、かつ、リソグラフィー特性も良好なネガ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁

To easily obtain an article having a negative pattern, usable as a permeation film, and changing continuously a volume fraction of a hole along a thickness direction.例文帳に追加

透過膜として使用可能で、厚さ方向に孔の体積分率を連続的に変化させることが可能なネガパターンを有する物品を簡便に得る。 - 特許庁

To provide a polyimide precursor developable with an aqueous alkali solution and having negative type pattern forming ability, and a method of stably producing the polyimide precursor.例文帳に追加

アルカリ水溶液にて現像が可能なネガ型パターン形成能を有するポリイミド前駆体とこのポリイミド前駆体を安定して製造する方法を提供する。 - 特許庁

A metal mask is placed on the surface of a substrate 11 and a fluorine coating agent is vapor-deposited on the metal mask to form a liquid repellant layer 16 with a prescribed negative pattern.例文帳に追加

基板１１の表面にメタルマスクをのせて、フッ素系コーティング剤を蒸着することで、所定のネガパターンの撥液性層１６を形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a polyimide pattern containing no photosensitive agent by using a negative resist without using a nonaqueous soluble organic solvent.例文帳に追加

ネガ型レジストを用いながら、非水溶性の有機溶媒を用いることなく、感光剤を含まないポリイミドのパターンを形成することができる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a new negative type photosensitive resin composition developable with a dilute alkali solution and capable of supplying a high sensitivity and high resolution resist pattern.例文帳に追加

希アルカリ溶液にて現像可能な、高感度、高解像度のレジストパターンを供給することができる新規なネガ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

NEGATIVE RESIST COMPOSITION CONSISTING OF EPOXY RING-CONTAINING BASE POLYMER AND SILICON-CONTAINING CROSSLINKING AGENT AND PATTERN FORMING METHOD OF SEMICONDUCTOR ELEMENT UTILIZING THE SAME例文帳に追加

エポキシリングを含むベースポリマーとシリコン含有架橋剤とよりなるネガティブ型レジスト組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁

For example, when a dry film resist 60 is negative, the pattern of the light transmissive region 201a of the mask 201 corresponds to only part of a (designed) prescribed pattern of the dry film resist 60 to be left after exposure and development.例文帳に追加

例えば、ドライフィルムレジスト６０がネガ型の場合、マスク２０１の透光部２０１ａのパターンは、露光現像後に残存させるべき（設計上の）ドライフィルムレジスト６０の所定パターンの一部のみに対応する。 - 特許庁

To provide a negative type photosensitive paste with which thickening and meandering of the pattern and lowering of sensitivity of the photosensitive paste do not occur, and an exposure margin is surely improved, for the purpose of forming a high-precision and high aspect ratio pattern.例文帳に追加

高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成するために、パターンの太りやパターンの蛇行、感光性ペーストの感度低下がなく、露光量マージンを確実に向上できるネガ型感光性ペーストを提供する。 - 特許庁

A multiplier determining section 12 determines a multiplier of a positive or negative value in response to a value of each bit included in a binary bit sequence for configuring a scramble pattern generated by a pattern generating section 11.例文帳に追加

パターン生成部１１にて生成されたスクランブルパターンを構成する２進数ビット列に含まれる各ビットのビット値に対応して、正値あるいは負値の乗算値を乗算値決定部１２によって決定する。 - 特許庁

After pasting a weak rice glue on the printing block, it is placed on the paper, pressure is applied, and the printing block is then removed, a thin layer of the dye from the pattern of the printing block is peeled off and a negative-like refined pattern with fine shading appears. 例文帳に追加

次に版木に薄い米糊を塗って、紙の上に載せて押しつけてから、版木を取ると版木の紋様の部分の染料が薄くはがし取られ、微妙な濃淡のあるネガ状の風雅な紋様が現れる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

If a group number is negative or larger than the number of groups defined in the pattern, an IndexError exception is raised.If a group is contained in a part of the pattern that did not match,the corresponding result is None.例文帳に追加

もしグループ番号が負であるか、あるいはパターンで定義されたグループの数より大きければ、IndexError 例外が発生します。 もしグループがマッチしなかったパターンの一部に含まれていれば、対応する結果は None です。 - Python

Corresponding to a bit value of each bit included in a binary bit sequence configuring a scramble pattern generated by a pattern generation unit 11, a multiplication value having a positive or negative value is determined by a multiplication value decision unit 12.例文帳に追加

パターン生成部１１にて生成されたスクランブルパターンを構成する２進数ビット列に含まれる各ビットのビット値に対応して、正値あるいは負値の乗算値を乗算値決定部１２によって決定する。 - 特許庁

When a base material 2, a colored layer 3 and a pattern layer 4 are successively laminated and a surface protective layer 7 is formed on the pattern layer by using an ionizing radiation curable resin compsn., a cured uniform coating film layer 5 and a negative pattern 6 lower in permeability or a liquid repelling positive pattern having a property repelling paint are interposed between the pattern layer and the surface protective layer.例文帳に追加

基材２、着色層３、および模様層４を順に積層した上に、電離放射線硬化性樹脂組成物を用いて表面保護層７を形成する際に、間に、硬化した一様均一な塗膜層５と、その上に、浸透性がより低いネガパターン６または塗料をはじく性質のある撥液性ポジパターンを介在させることにより、課題を解決することができた。 - 特許庁

If the slope of fan-out segments of one IC is negative, then, for the adjacent IC to the right, the conductor pattern of the adjacent IC is arranged such that the slope of the leftmost fan-out segment of that adjacent IC should also be negative.例文帳に追加

一つのＩＣのファンアウト区間の傾きがマイナスであれば、右側に隣接するＩＣに対して、前記隣接するＩＣの一番左のファンアウト区間の傾きもマイナスであるように、該隣接するＩＣの導線パターンを配置する。 - 特許庁

To provide a pattern forming method by a positive-negative reversal in which wet etching using an alkaline etching liquid is performed for a step of finally acquiring a negative image by giving a positive pattern a resistance to an organic solvent used for a composition for forming a reverse film to the degree of necessity, and securing solubility into an alkaline etching liquid.例文帳に追加

ポジ型パターンに反転用膜形成用組成物に使用される有機溶剤に対する耐性を必要限度で与え、かつアルカリ性エッチング液への溶解性を確保することによって、最終的にネガ像を得る工程をアルカリ性エッチング液によるウエットエッチングで行うポジネガ反転によるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a negative type radiation-sensitive composition that forms an interlayer insulating film of low relative dielectric constant and forms a good pattern of a few standing waves even on a ground substrate of high reflexibility of a reflectance of 1.0% or higher, and to provide a curing pattern and a forming method of the pattern.例文帳に追加

比誘電率の低い層間絶縁膜の形成が可能であり、反射率１．０％以上の高反射性の下地基板上においても、定在波の少ない良好なパターンを形成することができるネガ型感放射線性組成物、硬化パターン及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method, a gap between the lead and the semiconductor chip is filled up with an insulator, and a pattern mask as a negative pattern is formed for a connecting pattern covering the connected portion of the lead and the connected portion of the semiconductor chip, being continuous between both connected portions.例文帳に追加

外部端子となるリードと半導体チップとを電気的に接続し封止体によって封止する半導体装置において、前記リードの接続部分と半導体チップの接続部分とを覆い両接続部分間で連続する導電性ペーストによってリードと半導体チップとを接続する。 - 特許庁

The method for manufacturing the electronic device includes steps of: forming a resist film of a negative type photoresist composition on the substrate; obtaining the substrate having the resist pattern by exposing the resist film in the pattern and developing it; forming the metal film on the substrate having the resist pattern; and removing the resist pattern from the substrate using the removing agent composition.例文帳に追加

また、基板上にネガ型フォトレジスト組成物をのレジスト膜を形成する工程と、該レジスト膜をパターン状に露光し、現像してレジストパターンを有する基板を得る工程と、レジストパターンを有する基板の上に金属膜を形成する工程と、上記除去剤組成物を用いてレジストパターンを基板から除去する工程とを有する電子デバイスの製造方法。 - 特許庁

To provide a wiring pattern forming method that does not require complex steps as compared with the conventional lift-off method, can be applied to any of positive type and negative type resists and uses a resist pattern having a mushroom-shape cross section.例文帳に追加

通常のリフトオフ法による配線パターン形成方法に比べて工程が複雑にならず、ポジ型やネガ型いずれのレジストにも適用できる、断面がマッシュルーム形状のレジストパターンを用いた配線パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a dye-containing negative curable composition which suppresses heat sagging due to high-temperature bake, after pattern formation and has superior pattern forming properties, to provide a color filter obtained using the composition, and to provide a method for manufacturing the color filter.例文帳に追加

パターン形成後、高温ベーク処理による熱ダレの発生を抑制し、パターン形成性に優れた染料含有ネガ型硬化性組成物、及び該組成物を用いてなるカラーフィルタ、及びカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

The width of the first conductive pattern 21 is at least that of the external electrode 20, being a positive electrode, and the width of the second conductive pattern 31 is equal to or longer than the length of the negative electrode part 18 of the capacitor element 1 in length direction.例文帳に追加

そして、第一の導電パターン２１の幅を、少なくとも陽極の外部電極２０の幅以上とするとともに、第二の導電パターン３１の幅を、コンデンサ素子１の陰極部１８の長手方向の長さ以上とする。 - 特許庁

Roughness is formed on the surface, and a core is provided including: a negative plate containing a reinforcing base material and resin; an electroless conductive layer formed in a prescribed pattern on the surface of the negative plate; and an electrolysis plating layer formed on the electroless conductive layer.例文帳に追加

表面に粗さが形成されており、補強基材と樹脂を含む原板と、前記原板の表面に所定のパターンに形成された無電解導電層と、前記無電解導電層上に形成された電解鍍金層とを含むコアを備える。 - 特許庁