SILICIDEを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 2310件
The silicide film may be formed of cobalt silicide or nickel silicide.例文帳に追加
シリサイド膜はコバルトシリサイドでも、ニッケルシリサイドでもよい。 - 特許庁
The metal silicide is selected from a group consisting of nickel-silicide, cobalt-silicide, titanium-silicide, palladium-silicide, platinum-silicide, erbium-silicide, and the combination thereof.例文帳に追加
金属シリサイドは、ニッケル・シリサイド、コバルト・シリサイド、チタン・シリサイド、パラジウム・シリサイド、プラチナ・シリサイド、エルビウム・シリサイド、およびこれらの組合せからなる群から選択される。 - 特許庁
METHOD FOR PREPARING DIPLOPHASE SILICIDE, AND DIPLOPHASE SILICIDE例文帳に追加
複相シリサイドの作製方法及び複相シリサイド - 特許庁
PRODUCTION OF IRON CARBONYL SILICIDE, AND IRON CARBONYL SILICIDE例文帳に追加
珪化カルボニル鉄の製造方法及び珪化カルボニル鉄 - 特許庁
a chemical compound called silicide 例文帳に追加
珪化物という化合物 - EDR日英対訳辞書
METHOD FOR MANUFACTURING SILICIDE JOINED BODY, AND SILICIDE JOINT例文帳に追加
シリサイド接合体の製造方法およびシリサイド接合体 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING FOR TITANIUM SILICIDE例文帳に追加
チタンシリサイドの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR SYNTHESIZING MAGNESIUM SILICIDE例文帳に追加
マグネシウムシリサイドの合成方法 - 特許庁
SILICIDE TARGET MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
シリサイドターゲット材の製造方法 - 特許庁
The silicide layer 7d is formed integrally with the silicide layer 7a and the silicide layer 7b.例文帳に追加
このシリサイド層７ｄは、シリサイド層７ａ及びシリサイド層７ｂと一体的に形成されている。 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING SILICIDE STRUCTURE例文帳に追加
シリサイド構造体の製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING IRON SILICIDE SPUTTERING TARGET AND IRON SILICIDE SPUTTERING TARGET例文帳に追加
珪化鉄スパッタリングターゲットの製造方法及び珪化鉄スパッタリングターゲット - 特許庁
PRODUCTION OF IRON SILICIDE CRYSTAL例文帳に追加
鉄シリサイド結晶の製造方法。 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING HAFNIUM SILICIDE TARGET例文帳に追加
ハフニウムシリサイドターゲットの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING SILICIDE LAYER AND METAL MEMBER HAVING SILICIDE LAYER例文帳に追加
珪化物層の形成方法、及びその珪化物層を有する金属部材 - 特許庁
METHOD OF SHRINKING GRAIN SIZE OF TUNGSTEN SILICIDE, MULTILAYER STRUCTURE OF TUNGSTEN SILICIDE, AND TWO-LAYER STRUCTURE OF TUNGSTEN-SILICIDE CRYSTALLINE GRAINS例文帳に追加
タングステンシリコンのグレインサイズの縮小方法、タングステンシリコン多層構造及びタングステンシリコン結晶粒二層構造 - 特許庁
BARIUM SILICIDE POLYCRYSTAL, METHOD FOR PRODUCING THE SAME AND BARIUM SILICIDE SPUTTERING TARGET例文帳に追加
珪化バリウム多結晶体、その製造方法ならびに珪化バリウムスパッタリングターゲット - 特許庁
The silicide film and the silicide film 535 have substantially different thicknesses.例文帳に追加
シリサイド膜及びシリサイド膜５３５は、実質的に異なる厚さを有している。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING SEMICONDUCTOR SILICIDE FILM例文帳に追加
半導体シリサイド膜の製造方法 - 特許庁
To surely form a desired silicide film to a silicide forming region by selectively forming a silicide preventing film to a non-silicide forming region.例文帳に追加
非シリサイド形成領域にシリサイド化防止膜を選択的に形成することによって、シリサイド形成領域に所望のシリサイド膜を確実に形成する。 - 特許庁
A ring shaped gate electrode 15 has a double-layer structure wherein a polysilicon layer 15a and a metallic silicide 15b such as W silicide, Ti silicide, Co silicide, Ni silicide, etc. are provided on a gate oxide film 14.例文帳に追加
リング状ゲート電極１５は、ゲート酸化膜１４を介してポリシリコン層１５ａと、Ｗシリサイド、Ｔｉシリサイド、Ｃｏシリサイド、Ｎｉシリサイドなどの金属シリサイド１５ｂの２層構造で形成される。 - 特許庁
METHOD FOR FORMING GERMANIUM SILICIDE AND SEMICONDUCTOR DEVICE HAVING GERMANIUM SILICIDE例文帳に追加
ゲルマニウムシリサイドの形成方法及びゲルマニウムシリサイドが形成された半導体デバイス - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING BETA IRON SILICIDE REGION例文帳に追加
ベータ鉄シリサイド領域の作製方法 - 特許庁
Then, Ni silicide layers 113 are formed on the Hf silicide layers 111.例文帳に追加
その後、Ｈｆシリサイド層１１１上にＮｉシリサイド層１１３を形成する。 - 特許庁
The patterns 6 of the translucent film is made by oxidized molybdenum silicide, oxide nitride molybdenum silicide or nitrided molybdenum silicide.例文帳に追加
また、前記半透光膜のパターン６を酸化モリブデンシリサイド又は酸化窒化モリブデンシリサイド又は窒化モリブデンシリサイドで形成する。 - 特許庁
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