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inter-scribeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 4件
The second evaluation elements and the scribe TEG are electrically connected through the inter-scribe line wiring.例文帳に追加
第2の評価素子とスクライブTEGとは、スクライブ間配線を介して電気的に接続されている。 - 特許庁
An element structure 4 to be measured having the same pattern as that of a structure 2 being the object of the management, of the film thickness of the residual film of an inter-layer insulating film in a chip 1 and optical film thickness measuring patterns 5 and 6 are arranged in a scribe line 3 outside the chip 1 as a pair.例文帳に追加
チップ1内の層間絶縁膜の残膜の膜厚を管理する対象となる構造2と同じパターンの被測定対象素子構造4と、光学式膜厚測定パターン5,6とを1組にして、チップ1外のスクライブライン3に設ける。 - 特許庁
Then the inter-layer film 6 is polished, while the polished thickness is controlled by measuring the thickness of the part of the interlayer film 6 which is left on the scribe line 4s with the largest thickness, and the interlayer film 6 on the protruding patterns 4 is removed.例文帳に追加
次いで、スクライブライ4s上において層間膜6の膜厚が最も厚く残る部分における層間膜6の膜厚を測定することで研磨膜厚を管理しながら層間膜6を研磨し、チップ領域1a内の凸パターン4上の層間膜6を除去する。 - 特許庁
Further, the small-area dummy pattern of a lower layer and the small area dummy pattern Ds2 of an upper layer are arranged to a region with a wide inter-pattern space in patterns (active regions L1, L2, L3, and a gate electrode 17 or the like) that act as elements in a product region PR and the scribe region SR.例文帳に追加
また、製品領域PRおよびスクライブ領域SRの素子として機能するパターン(活性領域L1,L2,L3、ゲート電極17等)のパターン間スペースが広い領域に下層の小面積ダミーパターンと上層の小面積ダミーパターンDs2を配置する。 - 特許庁
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