「isolating」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

The coating film is irradiated with a light of at least 350 to 400 nm wavelength, to cause the photopolymerisable liquid crystal compound to polymerize; and thus the resin layer, which has the selective reflection band region of ≥150 nm width of one layer and has cholesteric regularity, is formed and the circularly polarized light isolating sheet is obtained.例文帳に追加

波長３５０〜４００ｎｍにおける平均モル吸光係数が２０００Ｍ^−１ｃｍ^−１以上の光重合開始剤と波長３５０〜４００ｎｍにおける平均モル吸光係数が１５００Ｍ^−１ｃｍ^−１以下の光重合性液晶化合物とを含有する光重合性組成物を基材上に塗布して塗膜を得、該塗膜に少なくとも波長３５０〜４００ｎｍの光を照射して、光重合性液晶化合物を重合させて、１層で選択反射帯域の幅が１５０ｎｍ以上のコレステリック規則性を持った樹脂層を形成し、円偏光分離シートを得る。 - 特許庁

This manufacturing method is provided with an anisotropic etching process for performing anisotropic etching of the active layer and exposing a sacrificial layer, and an isotropic etching process for performing isotropic etching of the sacrificial layer from the exposed range and isolating the active layer for forming beams and the weight section from the base layer.例文帳に追加

活性層を異方性エッチングして犠牲層を露出させる異方性エッチング工程と、露出した範囲から犠牲層を等方性エッチングして梁と錘部を形成する活性層をベース層から遊離させる等方性エッチング工程を備えており、異方性エッチング工程でエッチングする個々の孤立範囲の最小径をｘ（μｍ）とし、周囲を孤立範囲で取り囲まれている領域の中心点から孤立範囲までの最短距離をＧ（μｍ）とし、犠牲層の厚さをｈ（μｍ）としたときに、下記式（１）と（２）を同時に満足する関係で孤立範囲群を分散して形成する。 - 特許庁