| 例文 |
johnson effectの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 7件
To provide an electrostatic chuck, capable of suppressing a Johnson-Rahbek effect to a minimum and further increasing the throughput of a substrate.例文帳に追加
ジョンソン−ラーベック効果を最小限に抑えることができ、基板のスループットをより大きくすることを可能にする静電チャックを提供する。 - 特許庁
Clamps (20, 22, 24) provided on the support frame (18) may be a Johnson-Raybeck effect type clamp, which requires the severe position accuracy, and can perform a cleaning treatment in a projection apparatus by only one substrate.例文帳に追加
それで、この支持フレーム（１８）が備えるクランプ（２０、２２、２４）が厳しい位置精度を要求するジョンソン・レイベック効果型クランプでもよく、この投影装置内の清掃をたった１枚の基板で行うこともできる。 - 特許庁
Clamps (20, 22, 24) that the supporting frame (18) comprises may be a Johnson-Raybeck effect type clamp that requires a stringent positional precision, and the cleaning of the inside of the projection apparatus is carried out by using only one substrate.例文帳に追加
それで、この支持フレーム（１８）が備えるクランプ（２０、２２、２４）が厳しい位置精度を要求するジョンソン・レイベック効果型クランプでもよく、この投影装置内の清掃をたった１枚の基板で行うこともできる。 - 特許庁
To provide an electrostatic chuck which can exert a strong attracting force by utilizing a Johnson-Rahbeck effect, in a state where the insulating property of a ceramic section existing below an electrode for electrostatic attraction is maintained at a high temperature of 250-450°C.例文帳に追加
２５０〜４５０℃の高温下で静電吸着用の電極より下側に存在するセラミック部の絶縁性を維持した状態で、ジョンソン・ラーベック効果による大きく吸着力を発現できる静電チャックを提供する。 - 特許庁
This apparatus has a Johnson-Rahbeck effect electrostatic chuck 300 having a chuck body, at least one electrode disposed within the chuck body 302, and a barrier 312 formed at least around the one electrode.例文帳に追加
チャック本体、そのチャック３０２本体内に配置された少なくとも１つの電極３０８、及びその少なくとも１つの電極の周りに形成されたバリヤ３１２を有するジョンソン−ラーベック効果の静電チャック３００を有する。 - 特許庁
To provide an electrostatic chuck where high electrostatic attraction utilizing Johnson-Rahbeck effect is produced over a wide temperature range such as 150-500°C and the production of particles is very small, even if attachment and detachment of a wafer are repeated.例文帳に追加
１５０〜５００℃という広い温度範囲において、ジョンソン・ラーベック効果を利用した高い静電吸着力を発現させることができるとともに、ウエハの脱着を繰り返したとしてもパーティクルの発生が極めて少ない静電チャックを提供する。 - 特許庁
To obtain an electrostatic chuck that can increase the plasma- resistance property of an electrostatic chuck base, without damaging attraction force by the Johnson-Rahbek effect, can suppress generation of impurity elements that become the contamination source for a body to be attracted and generation leakage current accompanying reduction of resistivity, and can be used over a wide temperature range.例文帳に追加
ジョンソンラーベック力による吸着力を損なうことなく、静電チャック基材の耐プラズマ性を高め、被吸着体に対して汚染源となる不純物元素の発生、及び、抵抗率の低下に伴うリーク電流の発生を抑制でき、幅広い温度範囲で使用できる静電チャックを提供する。 - 特許庁
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