例文 (173件) |
magnetron sputtering methodの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 173件
MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置およびマグネトロンスパッタリング方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置及びそのスパッタリング方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND MAGNETRON SPUTTERING DEVICE例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング方法とマグネトロンスパッタリング装置 - 特許庁
FILM-FORMING METHOD BY SPUTTERING AND MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS例文帳に追加
スパッタ成膜方法及びマグネトロンスパッタ装置 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING CATHODE, MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING MAGNETIC DEVICE例文帳に追加
マグネトロンスパッタカソード、マグネトロンスパッタ装置及び磁性デバイスの製造方法 - 特許庁
TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING, AND MAGNETRON SPUTTERING METHOD例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング用ターゲット及びマグネトロンスパッタリング方法 - 特許庁
PLANER MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND PLANER MAGNETRON SPUTTERING FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
プレーナマグネトロンスパッタ装置およびプレーナマグネトロンスパッタ成膜方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD OF THIN FILM DEPOSITION BY MAGNETRON SPUTTERING例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置およびマグネトロンスパッタリングによる薄膜形成方法 - 特許庁
To provide a magnetron sputtering system, and to provide a magnetron sputtering method.例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置及びそのマグネトロンスパッタリング方法を提供する。 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING DEPOSITION DEVICE AND METHOD例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング成膜装置及び方法 - 特許庁
UNBALANCED MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND METHOD例文帳に追加
アンバランスドマグネトロンスパッタリング装置及び方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND THIN FILM PRODUCTION METHOD例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC COMPONENT例文帳に追加
マグネトロンスパッタ装置及び電子部品の製造方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND THIN FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置および薄膜形成方法 - 特許庁
MAGNETRON TYPE SPUTTERING DEVICE, AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
マグネトロン型スパッタ装置および成膜方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD OF MANUFACTURING THIN FILM例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜の製造法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND THIN FILM MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マグネトロンスパッタ装置及び薄膜製造方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS, FILM-FORMING METHOD, AND METHOD FOR MANUFACTURING OPTICAL COMPONENT例文帳に追加
マグネトロンスパッタ装置、成膜方法、及び光学部品の製造方法 - 特許庁
MAGNETRON, METHOD FOR OPERATING MAGNETRON AND METHOD FOR IMPROVING TARGET EROSION OF SPUTTERING MAGNETRON例文帳に追加
マグネトロン、マグネトロンの操作法およびスパッタリングするマグネトロンのターゲット侵食を改良する方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マグネトロン型スパッタリング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PIEZOELECTRIC FILM BY USING ROTATING MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加
回転マグネトロンスパッタシステムを用いて圧電膜を製作する方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND FILM DEPOSITION METHOD USING THE SAME例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置及びそれを用いた成膜方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM AND FILM FORMING METHOD USING THE SYSTEM例文帳に追加
マグネトロンスパッタ装置およびその装置を用いた製膜方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING TRANSPARENT CONDUCTIVE FILM例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置および透明導電膜の製造方法 - 特許庁
MAGNET UNIT FOR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND MAGNET ATTACHING/DETACHING METHOD例文帳に追加
マグネトロンスパッタ装置用磁石ユニット及び磁石着脱方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING METHOD AND PRODUCTION OF MAGNETIC RECORDING MEDIUM例文帳に追加
マグネトロンスパッタ法および磁気記録媒体の製造方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING ELECTRODE, FILM DEPOSITION SYSTEM, AND FILM DEPOSITION METHOD例文帳に追加
マグネトロンスパッタ電極、成膜装置及び成膜方法 - 特許庁
TARGET FOR MAGNETRON SPUTTERING, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING ARTICLE HAVING THIN-FILM FORMED THEREON例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置及び薄膜形成物製造方法 - 特許庁
METHOD FOR SUPPORTING DESIGN OF MAGNETRON SPUTTERING, DEVICE THEREFOR, AND PROGRAM例文帳に追加
マグネトロンスパッタの設計支援方法、装置及びプログラム - 特許庁
FERROMAGNETIC SPUTTERING TARGET, MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, AND METHOD FOR PRODUCING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
強磁性体スパッタリングターゲット、マグネトロンスパッタリング装置、及び半導体装置の製造方法 - 特許庁
To provide a magnetron sputtering apparatus of high use efficiency of a target and a magnetron sputtering method.例文帳に追加
ターゲットの使用効率の高いマグネトロンスパッタ装置及びマグネトロンスパッタ方法を実現する。 - 特許庁
To provide a magnetron sputtering apparatus, and a magnetron sputtering method by which the distribution of film thickness can easily be controlled by using a blocking body.例文帳に追加
遮蔽体を利用して容易に膜厚分布の制御が可能なマグネトロンスパッタ装置及びマグネトロンスパッタ方法を提供する。 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE, AND MANUFACTURING METHOD OF Ti MATERIAL FOR MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM例文帳に追加
半導体素子の製造方法およびマグネトロンスパッタリング装置用Ti材の製造方法 - 特許庁
MAGNETRON SPUTTERING SYSTEM, FILM DEPOSITION METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC ELECTROLUMINESCENCE ELEMENT例文帳に追加
マグネトロンスパッタリング装置、成膜方法及び有機電界発光素子の製造方法 - 特許庁
例文 (173件) |
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