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method blankの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1424件
GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクブランク用ガラス基板、マスクブランク用ガラス基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法 - 特許庁
GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, MASK BLANK, METHOD FOR PRODUCING GLASS SUBSTRATE FOR MASK BLANK, AND POLISHING DEVICE例文帳に追加
マスクブランク用のガラス基板、マスクブランク、マスクブランク用のガラス基板の製造方法、及び研磨装置。 - 特許庁
STORAGE CONTAINER OF MASK BLANK OR THE LIKE, METHOD FOR HOUSING MASK BLANK, AND MASK BLANK HOUSED BODY例文帳に追加
マスクブランクス等の収納容器及びマスクブランクスの収納方法並びにマスクブランクス収納体 - 特許庁
MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK, EXPOSURE MASK, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK SUBSTRATE例文帳に追加
マスクブランク用基板、マスクブランク、露光用マスク、半導体デバイスの製造方法、及びマスクブランク用基板の製造方法 - 特許庁
LAMINATED PANEL BLANK AND ITS MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
積層パネル・ブランク及びその製造方法 - 特許庁
TAILORED BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
テーラードブランク材及びその製造方法 - 特許庁
PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
フォトマスクブランクスおよびその製造方法 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING SiO2 BLANK例文帳に追加
SiO2ブランク製造方法とその装置 - 特許庁
METHOD AND APPARATUS FOR LAMINATING BLANK SHEET例文帳に追加
ブランクシート貼合わせ方法及びその装置 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING DISK BLANK FOR BRAKE DISK例文帳に追加
ブレーキディスク用ディスクブランクの製造方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING BLANK MATERIAL FOR MAGNETIC DISK, AND BLANK MATERIAL FOR MAGNETIC DISK例文帳に追加
磁気ディスク用ブランク材の製造方法及び磁気ディスク用ブランク材 - 特許庁
PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK, METHOD AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK例文帳に追加
フォトマスク・ブランク、フォトマスク、フォトマスク・ブランクを製造するための方法と装置 - 特許庁
PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR REDUCING GENERATION OF PARTICLE IN PHOTOMASK BLANK例文帳に追加
フォトマスクブランク及びフォトマスクブランクにおけるパーティクルの発生低減方法 - 特許庁
MASK BLANK MANUFACTURING METHOD AND MASK MANUFACTURING METHOD例文帳に追加
マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法 - 特許庁
PHOTOMASK BLANK, METHOD FOR PROCESSING THE SAME, AND ETCHING METHOD例文帳に追加
フォトマスクブランク、その加工方法、及びエッチング方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK SUBSTRATE, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING EXPOSURE MASK例文帳に追加
マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法 - 特許庁
IMAGE FORMING APPARATUS HAVING BLANK PAPER DISCHARGE PREVENTION FUNCTION, BLANK PAPER DISCHARGE PREVENTION METHOD, AND BLANK PAPER DISCHARGE PREVENTION PROGRAM例文帳に追加
白紙排紙抑制機能を有する画像形成装置、白紙排紙抑制方法、白紙排紙抑制プログラム - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクブランクの製造方法、及びマスクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法 - 特許庁
MASK BLANK INSPECTION METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF MASK例文帳に追加
マスクブランクの検査方法およびマスクの製造方法 - 特許庁
LITHOGRAPHY MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
リソグラフィーマスクブランク及びその製造方法 - 特許庁
MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING TRANSFER MASK例文帳に追加
マスクブランク及び転写マスクの製造方法 - 特許庁
OPTICAL GLASS BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
光学ガラスブランク及びその製造方法 - 特許庁
MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
マスクブランクおよびマスクブランクの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PHOTOMASK BLANK例文帳に追加
フォトマスクの製造方法及びフォトマスクブランク - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK BLANK, PHOTOMASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK, AND PHOTOMASK例文帳に追加
フォトマスク用ブランクの製造方法とフォトマスク用ブランクおよびフォトマスクの製造方法とフォトマスク - 特許庁
PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHOTOMASK例文帳に追加
フォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法 - 特許庁
BLANK MASK, PHOTOMASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME例文帳に追加
ブランクマスク、フォトマスク及びその製造方法 - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND COATING APPARATUS例文帳に追加
マスクブランクの製造方法及び塗布装置 - 特許庁
METHOD FOR PROCESSING HOUSING MEMBER OF MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING HOUSING MEMBER OF MASK BLANK, AND MASK BLANK HOUSED BODY例文帳に追加
マスクブランクス収納用部材の処理方法、マスクブランクス収納用部材の製造方法及びマスクブランクス収納体 - 特許庁
MASK BLANK PROVIDING SYSTEM AND METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING TRANSPARENT SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING MASK例文帳に追加
マスクブランク提供システム、マスクブランク提供方法、マスクブランク用透明基板の製造方法、マスクブランクの製造方法及びマスクの製造方法 - 特許庁
MASK BLANK, PROTECTIVE FILM USED THEREFOR, AND PATTERN FORMING METHOD FOR MASK BLANK例文帳に追加
マスクブランク、並びにこれに用いる保護膜とマスクブランクのパターン形成方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスクおよび位相シフトマスクブランクの製造方法 - 特許庁
PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランクの製造方法 - 特許庁
SUBSTRATE FOR PHOTOMASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SUBSTRATE, PHOTOMASK BLANK AND PHOTOMASK例文帳に追加
フォトマスクブランク用基板及びその製造方法、フォトマスクブランク、並びにフォトマスク - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK例文帳に追加
位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造装置 - 特許庁
RETURNABLE BOX FOR CARTON BLANK AND METHOD OF DELIVERING THE CARTON BLANK USING THE SAME例文帳に追加
カートンブランク用通い箱及びこれを用いたカートンブランクの搬出方法 - 特許庁
MANUFACTURING METHOD OF CRYSTAL BLANK, AND CRYSTAL DEVICE USING THIS CRYSTAL BLANK例文帳に追加
水晶片の製造方法及びこの水晶片を用いた水晶デバイス - 特許庁
METHOD FOR MANUFACTURING SUBSTRATE FOR MASK BLANK, MASK BLANK, PHOTOMASK, AND SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクブランク用基板、マスクブランク、フォトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
MASK BLANK SUBSTRATE, MASK BLANK, PHOTO MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加
マスクブランク用基板、マスクブランク、フォトマスク及び半導体デバイスの製造方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE FOR MASK BLANK, METHOD FOR PRODUCING MASK BLANK AND METHOD FOR PRODUCING MASK FOR EXPOSURE, AND MASK BLANK AND MASK FOR EXPOSURE例文帳に追加
マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランクの製造方法、及び露光用マスクの製造方法、並びに、マスクブランク、及び露光用マスク - 特許庁
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