「method blank」に関連した英語例文の一覧と使い方(29ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for producing a photomask blank having at least a film for forming a mask pattern on a transparent substrate has a film deposition step in which the film for forming a mask pattern is deposited by sputtering in a sputtering atmosphere in which at least gaseous helium is contained and a step for heating the transparent substrate during or after the film deposition step.例文帳に追加

透明基板上にマスクパターンを形成するための膜を少なくとも有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記マスクパターンを形成するための膜を、スパッタリング雰囲気中に少なくともヘリウムガスを含有させてスパッタ成膜を行う成膜工程と、前記成膜工程の間又は後に前記透明基板を加熱する工程をと有することを特徴とする。 - 特許庁

The format processing method by using a head for emitting a laser beam to form a management data recording area and a user recording area to a loaded recording medium, discriminates whether or not a recording medium is a rewritable recording medium and discriminates whether or not the rewritable recording medium is a blank medium when the recording medium is the rewritable recording medium.例文帳に追加

レーザ光を照射するヘッドを用いて、装填された記録媒体に対して管理データ記録エリアとユーザ記録エリアとを形成するフォーマット処理方法において、記録媒体が書き換え可能な記録媒体か否かを判別し、書き換え可能な記録媒体であると判別された場合、この書き換え可能な記録媒体がブランク状態であるか否か判断する。 - 特許庁

The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank 20 storing a liquid resist agent 21 to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加

転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤２１を収容した液槽２０からノズル２２を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

The method of manufacturing the mask blank comprises the steps of causing a resist agent coming from a liquid tank storing a liquid resist agent to the opening at the end of a nozzle 22 through the nozzle 22 to touch the coated surface of a substrate having a thin film on which a transfer pattern is formed, moving the substrate and the nozzle relatively, and thus forming a resist film on the coated surface.例文帳に追加

転写パターンを形成するための薄膜を有する基板の被塗布面に、液状のレジスト剤を収容した液槽からノズル２２を通過してノズル先端開口部に到達したレジスト剤を接液させ、基板とノズルとを相対的に移動させることによって、被塗布面にレジスト剤を塗布してレジスト膜を形成する工程を含むマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

To solve the technical problem in microfabrication of a photomask and semiconductor element, especially providing a chemically amplified positive resist composition which satisfies high sensitivity, high resolution (for instance, high resolution power), excellent exposure latitude (EL) and excellent line edge roughness (LER) simultaneously, and a resist film, a resist-coated mask blank and a resist pattern forming method using the same.例文帳に追加

フォトマスク・半導体素子の微細加工における技術課題を解決することであり、特に高い感度、高い解像性（例えば、高い解像力）、良好な露光ラチチュード（ＥＬ）及び良好なラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を同時に満足する化学増幅ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、及び、レジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the floating gate forming method of a flash memory element, by removing an oxynitride film for hard mask through multi-strip, seams are prevented from occurring in poly deposition for the floating gate, and by blank-etching of poly for the foating gate and making the upper end of the poly for the floating gate round, a void is prevented from occurring in poly deposition for a control gate.例文帳に追加

フラッシュメモリ素子のフローティングゲート形成方法において、ハードマスク用窒化膜をマルチストリップを通じて除去することにより、フローティングゲート用ポリ蒸着時にシームが発生することを防止し、フローティングゲート用ポリをブランクエッチングしてフローティングゲート用ポリの上端の角部を丸くすることにより、コントロールゲート用ポリ蒸着時にボイドが発生することを防止する。 - 特許庁

This method is characterized in that when the rewritable recording medium is discriminated to be a blank recording medium, a head 14 is moved to a top of the user recording area to automatically start a first format processing wherein the areas are formatted from the top address, and a second format processing wherein the areas are formatted from a start part of the management data recording area after the completion of the first format processing.例文帳に追加

そして、書き換え可能な記録媒体がブランク状態であると判別された場合、ヘッド１４をユーザ記録エリアの先頭部分に移動させて、先頭部分からフォーマットする第１のフォーマット処理を自動的に開始して、この第１のフォーマット処理が終了した後に管理データ記録エリアの開始部分からフォーマットする第２のフォーマット処理を行うことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an ultra high pressure sintered compact chip, an ultra high pressure sintered compact tool using this chip, and a manufacturing method of the ultra high pressure sintered compact tool capable of reducing cost largely by effectively using a blank of the ultra high pressure sintered compact, and providing improved position accuracy and joint strength when jointing the ultra high pressure sintered compact chip to a chip base.例文帳に追加

超高圧焼結体のブランクスを有効利用することにより大幅なコスト削減を可能にし、さらに、チップ基台に対する超高圧焼結体チップの接合時の位置精度および接合強度を高めた、超高圧焼結体チップおよびこれを用いた超高圧焼結体工具ならびに該超高圧焼結体工具の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective mask for EUV lithography (EUVL) using a reflective mask blank for EUVL configured by forming a reflective layer which reflects EUV light, an absorber layer which absorbs the EUV light at least in this order on a substrate, and which prevents formation of a diffusion layer on a reflective layer interface and decline of EUV light reflectivity by the formation of the diffusion layer.例文帳に追加

基板上に、ＥＵＶ光を反射する反射層、および、ＥＵＶ光を吸収する吸収体層が少なくともこの順に形成されたＥＵＶリソグラフィ（ＥＵＶＬ）用反射型マスクブランクを用いてＥＵＶＬ用反射型マスクを製造する方法であって、反射層界面での拡散層形成、およびそれによるＥＵＶ光線反射率の低下を防止する製造方法を提供する。 - 特許庁

A method of smoothing the surface of a substrate for a reflective type mask blank for EUV lithography is characterized by smoothing the surface of a substrate having concave defects by applying a solution containing a polysilazane compound on the surface of the substrate having the concave defects and heating/curing it to form a silica coating (or a coating containing SiO_2 as a main skeleton).例文帳に追加

ＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランク用の基板表面を平滑化する方法であって、凹欠点を有する基板表面に、ポリシラザン化合物を含む溶液を塗布し、加熱・硬化してシリカ被膜（またはＳｉＯ_2を主骨格とする被膜）を形成することにより、前記凹欠点を有する基板表面を平滑化することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランク用の基板表面を平滑化する方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a mask blank substrate comprising a substrate having two main surfaces opposing to each other includes: a step of polishing the two main surfaces of the substrate; and a step of correcting a surface defect present on the main surface of the substrate by bringing flame at a burning temperature equal to or higher than the softening point of the substrate into contact with the surface defect.例文帳に追加

対向する２つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、前記基板の２つの主表面を研磨する工程と、前記基板の主表面に存在する表面欠陥に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させて前記表面欠陥を修正する工程とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法である。 - 特許庁

This is a manufacturing method for a blank of a double-sided masks which manufactures a bank of a double-sided mask of a structure having a pattern made of a light shielding metal film on both sides of a transparent base plate, and characterized in forming a light shielding metal film layer on a rear glass plate of a mask having a pattern already formed on its one side.例文帳に追加

透明基板の両面に遮光用金属膜により形成されたパターンをもつ構造の両面マスクのブランクを製造する両面マスク用ブランクの製造方法において、一方の面にパターンがすでに形成されたマスクの裏面のガラス上に遮光用金属膜の層を形成して、両面マスク用ブランクを製造することを特徴とする両面マスク用ブランク及び両面マスクの製造方法。 - 特許庁

To provide an ink jet recording method and a print which suppress fading caused by harmful gases such as ozone gas or the like, particularly in a low-concentration region, in a portion near a pure color having a little color mixture or at a position adjacent to a blank part, suppresses the deterioration of image quality resulting from the occurrence of beading or the like, and obtains a print having high glossiness.例文帳に追加

第１の課題はオゾンガス等の有害ガスによる褪色を抑制すること、特に、低濃度領域や色の混ざりの少ない純色に近い部分や白地に隣接した部位でも十分なオゾンガス等の有害ガスによる褪色を抑制すること、第２の課題はビーディング発生等による画質劣化を抑制すること、第３の課題は光沢の高いプリントを得るインクジェット記録方法及びプリントを提供すること。 - 特許庁

The ink discharge state judging system, the printing apparatus and the ink discharge state judgment method use the printing block pattern for ink discharge state judgment which is equipped with a region adjacent to the periphery of any of printing block patterns of each ink color, or a reference blank region formed by exposing a printing medium surface of a partial region inside the printing block pattern of each ink color.例文帳に追加

本発明に係るインク吐出状態判定システム、印刷装置及びインク吐出状態判定方法は、各インク色の前記印刷ブロックパターンのいずれかの周囲にそれぞれ隣接する領域又は各インク色の前記印刷ブロックパターン内部の一部領域の前記印刷媒体表面を露出させて形成された参照空白領域を備えた本発明に係るインク吐出状態判定用印刷ブロックパターンを使用するものである。 - 特許庁

In the method for measuring ADP in a sample, comprising making glucose, ADP-dependent hexokinase, and a metal ion to act on the ADP in the sample, and measuring the produced glucose-6-phosphate or AMP, by making phosphoenol pyruvate and pyruvate kinase to coexist on the action, the blank value becomes small, and the inclination of a calibration curve is decreased, and then the ADP concentrations in a wide range can accurately be measured.例文帳に追加

試料中のＡＤＰに、グルコース、ＡＤＰ依存性ヘキソキナーゼ、および金属イオンを作用させて生成するグルコース−６−リン酸またはＡＭＰを測定することにより、試料中のＡＤＰを測定する方法において、その作用の際に、ホスホエノールピルビン酸とピルビン酸キナーゼとを共存させることにより、ブランク値が小さく、かつ、検量線の傾きも小さくなり、広範囲のＡＤＰの濃度を正確に測定することが可能となる。 - 特許庁

The electrodeposition coating method comprises coating the surface of a metallic blank treated with a titanium-base treating liquid which is an aqueous liquid containing titanium obtained by reacting at least one titanium compound selected from a hydrolyzable titanium compound, the low condensate of the hydrolyzable titanium compound, titanium hydroxide and the low condensate of the titanium hydroxide with hydrogen peroxide water with an acrylic colored electrodeposition coating material or polyester-based colored electrodeposition coating material.例文帳に追加

加水分解性チタン化合物、加水分解性チタン化合物低縮合物、水酸化チタン及び水酸化チタン低縮合物から選ばれる少なくとも１種のチタン化合物と過酸化水素水とを反応させて得られるチタンを含む水性液であるチタン系処理液で処理した金属性素材表面にアクリル系着色電着塗料又はポリエステル系着色電着塗料を塗装することを特徴とする電着塗装方法。 - 特許庁

The method for manufacturing a mask blank substrate comprising a substrate having opposite two main surfaces includes: a step of grinding the main surfaces of the substrate; a step of bringing a flame whose combustion temperature is equal to or higher than the softening point of the substrate into contact with the ground main surfaces of the substrate; and a step of polishing the main surfaces of the substrate after the flame contact step.例文帳に追加

対向する２つの主表面を有する基板からなるマスクブランク用基板の製造方法であって、前記基板の主表面に対して研削を行う工程と、研削が行われた前記基板の主表面に対して、前記基板の軟化点以上の燃焼温度の火炎を接触させる工程と、前記火炎を接触させる工程を行った後に、前記基板の主表面に対して研磨を行う工程とを有することを特徴とするマスクブランク用基板の製造方法である。 - 特許庁

To provide an EUV light exposure mask having no effect on the substantial reflection performance of a multilayer film 2 portion even if it is not stripped and in which the structure and material of a buffer film 4 are specified to have the essential function, i.e., the protective function of the multilayer film 2, and to provide a blank for producing the mask and a patterning method employing that mask.例文帳に追加

基板１上に、露光光を反射する領域となる多層膜２を有し、前記多層膜２上に吸収用となるパターニングされた薄膜３、さらに前記多層膜２と吸収性薄膜の間に緩衝用となる薄膜４を有する極限紫外線露光用マスクにおいて、剥離しなくとも多層膜２部の実質的な反射性能への影響がなく、さらに本来の機能としての多層膜２の保護機能も有するように緩衝膜４の構造、材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク、およびそれを作製するためのブランク並びにそのマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an EUV light exposure mask having no effect on the substantial reflection performance of a multilayer film 2 part even if it is not stripped in which the structure and material of a buffer film 4 are specified to have the essential function, i.e. the protective function of the multilayer film 2, and to provide a blank for producing the mask and a patterning method employing that mask.例文帳に追加

基板１上に、露光光を反射する領域となる多層膜２を有し、前記多層膜２上に吸収用となるパターニングされた薄膜３、さらに前記多層膜２と吸収性薄膜の間に緩衝用となる薄膜４を有する極限紫外線露光用マスクにおいて、剥離しなくとも多層膜２部の実質的な反射性能への影響がなく、さらに本来の機能としての多層膜２の保護機能も有するように緩衝膜４の構造、材料が規定されたＥＵＶ露光用マスク、およびそれを作製するためのブランク並びにそのマスクを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁