「method blank」に関連した英語例文の一覧と使い方(28ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a halftone phase shift mask blank having a halftone phase shift film which can control the retardation and transmittance as a phase shift mask for exposure light and the transmittance at an inspection wavelength, which has excellent chemical resistance and excellent patterning property by etching, and to provide a phase shift mask and a method for transferring a pattern.例文帳に追加

露光光での位相シフトマスクとしての位相差，透過率や検査波長での透過率を制御でき、耐薬品性に優れ、さらにエッチングによるパターニング性に優れたハーフトーン型位相シフト膜を有するハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an annular mechanical part having the rolling part excellent in rolling fatigue life on the inside diameter by improving the interface state between nonmetallic inclusions contained in a steel material which is the base material of an annular blank to be worked, which is used for cold forging and the steel material which is a parent phase by plastic working.例文帳に追加

冷間鍛造に供するリング状加工母材の素材である鋼材中に含有の非金属介在物と母相である鋼材との界面状態を塑性加工によって改善することで、優れた転動疲労寿命の転動部を内径に有するリング状機械部品の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a crack initiation preventive method capable of preventing any large crack initiated at least in a part of bents of a paper container consisting of a laminate in which a polyethylene layer, a paper base material, a polyethylene layer, an aluminum thin film layer, and a polyethylene layer are successively piled up, and formed by bending a blank having a plurality of bents.例文帳に追加

ポリエチレン層と、紙基材と、ポリエチレン層と、アルミニウム薄膜層と、ポリエチレン層とを順次積層させた積層体からなり、複数の折り曲げ部を有するブランクを折り曲げて形成された紙容器の上記折り曲げ部の少なくとも一部に発生する大きなクラックを防止するクラック発生防止方法を提供する。 - 特許庁

To provide an information presenting method and device and a program for maintaining the overall tendency of objective information and the visibility of each information, and for displaying the whole objective information in a predetermined display area with high space using efficiency suitably for the objective information by reducing a blank display area.例文帳に追加

対象情報の全体的傾向および各情報の視認性を維持しつつ全対象情報を所定の表示領域に表示するために空白な表示領域を減少して対象情報に合わせて空間利用率の良い表示を行う情報提示方法、装置およびプログラムを提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing a reflective mask 20 is carried out by the use of a reflective mask blank 10 which has a substrate 1 and a multilayer reflective film 2 formed on the substrate to reflect exposure light, a protective film 6 formed on the multilayer reflective film 2, a buffer film 3, and an absorber film 4 to absorb the exposure light that are formed in sequence on the substrate.例文帳に追加

反射型マスク２０の製造方法は、基板１と、該基板上に順次形成された、露光光を反射する多層反射膜２と、多層反射膜２上の保護膜６と、バッファ膜３と、露光光を吸収する吸収体膜４とを有する反射型マスクブランク１０を使用する。 - 特許庁

The inspection method is constituted such that by an inspecting apparatus, under a control by a controlling apparatus, using an earlier needle trace formed in an electrode pad of a semiconductor wafer, accessible regions of a plurality of probes are obtained by the high temperature inspection of this time and the probes are contacted with a blank region having no needle trace within the accessible region.例文帳に追加

検査方法は、検査装置において制御装置の制御下で、半導体ウエハの電極パッドに形成された旧針跡を用いて、今回の高温検査で複数のプローブの接触可能領域を求め、接触可能領域内で且つ針跡のない空白領域にプローブが接触するように構成されている。 - 特許庁

To provide manufacturing methods for a glass substrate for an electronic device and a mask blank with which no fine uneven surface defect occurs on a substrate surface or a failure rate is low, and a manufacturing method for a transfer mask free from a phase defect or a pattern defect caused by the fine uneven surface defect on the substrate surface.例文帳に追加

基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が発生しないか又は発生率の低い電子デバイス用ガラス基板及びマスクブランクスの製造方法、並びに基板表面に微小な凸状、凹状の表面欠陥が起因する位相欠陥やパターン欠陥のない転写マスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a chemically amplified positive resist composition for forming a pattern satisfying demands for high sensitivity, high resolution (for example, high resolving power, an excellent pattern profile and small line edge roughness (LER)) and good dry etching durability, and to provide a resist film, a resist-coated mask blank, a resist pattern forming method and a photomask using the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性（例えば、高い解像力、優れたパターン形状、小さいラインエッジラフネス（ＬＥＲ））、及び、良好なドライエッチング耐性を同時に満足したパターンを形成できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物、並びに、それを用いたレジスト膜、レジスト塗布マスクブランクス、レジストパターン形成方法、及びフォトマスクを提供する。 - 特許庁

To provide an automatic analyzing apparatus and an automatic analyzing method with which an operator can perform calibration without setting physiologic saline on a rack or a disk to reduce a load on the operator, or with which the startup of the apparatus to the reagent blank can be automatically performed and the measurement can be immediately performed.例文帳に追加

本発明は、オペレータが生理食塩水をラックまたはディスクにセットすることなくキャリブレーションを実施できオペレータの負担を軽減できる、または装置立上げから試薬ブランクまでを自動的に実施することができ、直ちに測定を開始できる自動分析装置及び自動分析方法を提供することである。 - 特許庁

The method for manufacturing a photomask blank having a thin film for forming at least a pattern on a transparent substrate is characterized in that the thin film is formed by sputtering a target facing the position to which the center axis of the substrate shifts while the substrate is rotated.例文帳に追加

透明基板上に少なくともパターンを形成するための薄膜を有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記薄膜を、前記基板を回転させながら、前記基板の中心軸からその中心軸がずれた位置に対向するターゲットをスパッタリングすることによって成膜することを特徴とするフォトマスクブランクの製造方法。 - 特許庁

To obtain a metallic mold for casting a light alloy wheel with low pressure and a method for producing the light alloy wheel with which the necessary strength can be secured as the wheel without remaining shrinkage hole at the crossing part of a design part and a rim part after processing the wheel blank and the lightening can be obtained by thinning the thickness of the crossing part.例文帳に追加

ホイール素材を加工後に、デザイン部とリム部の交差部に引け巣が残ることを無くして、ホイールとして必要な強度を確保でき、しかも、デザイン部とリム部の交差部を薄肉にして軽量化が図れる、軽合金ホイール低圧鋳造用金型および軽合金ホイールの製造方法を得る。 - 特許庁

Provided is the method for manufacturing the substrate for the mask blank in which a low thermal expansion glass substrate containing titanium (Ti) oxide is polished using a polishing agent, then treated using an aqueous solution containing hydrofluoric acid, then cleaned using an acidic solution with a pH of 4 or less, and then further cleaned using an alkaline solution.例文帳に追加

チタン（Ｔｉ）の酸化物を含有する低熱膨張ガラス基板を研磨剤により研磨した後、フッ酸を含む水溶液を用いて処理し、次いでｐＨが４以下の酸性溶液を用いて洗浄処理し、更にアルカリ性溶液を用いて洗浄処理することによるマスクブランク用基板の製造方法である。 - 特許庁

To provide a press machine and a pressing method with which even in the case of a blank whose surface shape is formed in a projected and recessed shape, pressing can be applied by suitably preventing occurrence of a fractured area and burr and as this result, a product having the projected and recessed surface shape can be manufactured at a low cost.例文帳に追加

表面形状が凹凸状に形成された素材であっても、破断面及びカエリの発生を好適に防止してプレスを施すことができ、延いては凹凸状の表面形状を有する製品を安価に製造することのできるプレス機及びプレス方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

In the method for determining the flatness of a transparent substrate for an electronic device, the flatness of a transparent substrate for an electronic device is determined so that the flatness of a mask blank becomes the desired value in consideration of a variation in flatness due to the film stress of a thin film formed on the principal surface of the transparent substrate.例文帳に追加

電子デバイス用透明基板の主表面上に形成する薄膜の膜応力に起因した平坦度変化量を見込んで、マスクブランクの平坦度が所望の平坦度となるように、前記透明基板の平坦度を決定することを特徴とする電子デバイス用透明基板の平坦度決定方法。 - 特許庁

The cleaning method for a photomask-related substrate includes a deaerating step of preliminarily subjecting pure water to be used for the cleaning to a deaeration to remove dissolved gas, when a photomask-related substrate contaminated by a sulfate ion is cleaned with pure water, the photomask-related substrate being selected from a substrate for a photomask, a photomask blank, a photomask and a production intermediate thereof.例文帳に追加

硫酸イオンにより汚染された、フォトマスク用基板、フォトマスクブランク、フォトマスクおよびそれらの製造中間体から選ばれるフォトマスク関連基板を純水により洗浄するとき、該洗浄に用いる純水に、予め、溶存気体を脱気する脱気工程を行うフォトマスク関連基板の洗浄方法。 - 特許庁

This blank is produced by adopting a spray forming method consisting substantially of a process for vacuum-melting an Fe-Ni base base material at a temp, exceeding a liquids line temp., a process for gas-atomizing the resultant molten metal with gaseous N2 and a process for depositing the atomized molten drop in a half-solidified state.例文帳に追加

実質的に、Ｆｅ−Ｎｉ基母材を液相線温度を越える温度に真空溶解する工程と、その溶解した溶湯をＮ_２ガスによりガスアトマイズする工程と、そのアトマイズされた溶滴を半凝固状態で堆積させる工程からなる、スプレーフォーミング法を適用するＦｅ−Ｎｉ基シャドウマスク用素材の製造方法である。 - 特許庁

The manufacturing method comprises steps of rolling a resistor blank 10 for forming the resistor 1 sandwiched between pair of electrode blanks 20 for forming the electrode pieces 2 with a pressure exerted on the plane of product enough to diffusion bond both, cutting the bonded body into a chip of a specified size, and rolling it in the thickness direction of the product.例文帳に追加

製造方法は、チップ状抵抗体１を形成する抵抗体母材１０を、電極片２を形成する一対の電極母材２０で挟んで製品の面方向に圧力をかけて圧延して両者を拡散接合した後、所定の大きさに切断し、その後、製品の厚さ方向に圧延する動作を含む。 - 特許庁

To obtain an assaying reagent capable of effectively reducing a blank reaction of the reagent when determining a material to be assayed, present in a sample by utilizing a reaction system associated with an enzyme and a coupling enzyme, and, as a result, capable of heightening the accuracy and the reliability of an assayed value, and further to provide an assaying method by using the reagent.例文帳に追加

酵素および共役酵素の関与する反応系を利用して試料中に存在する測定物質を定量するとき、試薬のブランク反応を有効に軽減することができ、従って、測定値の正確さ・信頼性をより高めることができる測定試薬、並びに、この試薬を用いた測定方法を提供する。 - 特許庁

In the method of forming the ring piece, a ring 7 is constituted of plural ring pieces 71, which are formed into ≥3 members, the ring pieces 71 are formed by cutting a member 100 and blank layout is performed in the member 100 in a state that projecting parts 7 of plural ring pieces 71 face the same direction to be piled up with a certain interval.例文帳に追加

リング片の形成方法は、リング７は３部材以上に形成された複数のリング片71からなり、リング片71は部材100 より切断されるものであり、複数のリング片71の凸部Ｔが間隔を設けて積み重なるように同方向に向いた状態で部材100 より材料取りがされている。 - 特許庁

To provide a method for producing a copper pipe by which a small diameter copper pipe having an outer diameter of ≤ 10 mmϕ produced by applying a cold-working of a large reducing area ratio of ≥ 99% to an extruded blank pipe hardly causes crack when the pipe is further subjected to pipe-expanding work or pipe-shrinking work having a large expanding ratio or shrinking ratio.例文帳に追加

押出素管に対し99% 以上の大きな減面率の冷間加工を施した、外径がΦ10mm以下の小径銅管であって、拡管率や縮管率が大きい拡管加工あるいは縮管加工の際においても割れが生じにくい、銅管の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for selecting threshold of binarization of a digital image by which the optimum threshold for the process of binarization for cutting down a background corresponding to a blank area of a document and a background corresponding to colors of a device itself from the digital image, and to provide a recording medium on which a program for selection of threshold of binarization is recorded.例文帳に追加

原稿の余白領域に対応する背景と、デバイス自体の色彩に対応する背景とをデジタル画像から切り出す二値化処理に最適なしきい値を選択するデジタル画像の二値化しきい値選択方法及び二値化しきい値選択プログラムを記録した記録媒体を提供する。 - 特許庁

In a correction method when analyzing the plurality types of analysis items from a single type of specimen, the plurality of analysis items having similar reaction conditions in the analysis out of the plurality types of analysis items are corrected based on the same blank measurement result.例文帳に追加

１種類の試料から複数種類の分析項目について分析を行う場合に、各分析項目を分析する際に補正を施す方法において、複数種類の分析項目のうち、分析時における反応条件が類似する複数の分析項目については、同一のブランク測定の結果に基づいて補正を施す。 - 特許庁

The method is characterized in that the blank section (or the peripheral part of the bursts) is erased by the high frequency AC current generated by the high frequency AC current generation section 712 independent from the recording channel circuit 702.例文帳に追加

これにより、記録チャンネル回路７０２とは独立した高周波交流電流発生部７１２で発生した高周波交流電流によって、ブランク区間（あるいはバーストの周辺部）を消去させることによって、バーストの非対称性及び歪曲発生を改善させて、サーボ制御性能を向上させることができる。 - 特許庁

The method to manufacture the tailored blank material by the plasma arc welding of the steel plates with different thickness is characterized in that the thicker side of the plate is welded by the plasma arc welding by using a steel material containing 0.1% C or more and/or 0.8% Si or more at a welding speed of 0.8 m/min or more.例文帳に追加

板厚の異なる鋼板をプラズマ溶接してテーラードブランク材を製造する方法において、板厚の厚い側を０．１％以上のＣおよび／または０．８％以上のＳｉを含有する鋼材を用いて溶接速度０．８ｍ／ｍｉｎ以上でプラズマ溶接することを特徴とするテーラードブランク材の製造方法。 - 特許庁

The method for press forming The optical elements having fine patterns of ≤10 μm in groove depth on their optical function surfaces by means of forming dies including a pair of upper and lower die members is characterized in that phosphoric acid-base glass having a content of phosphoric acid (P2O5) of ≥20% in molar ratio is used as a glass blank for forming.例文帳に追加

上下一対の型部材を具備する成形型により、その光学機能面に１０μｍ以下の溝深さである微細パターンを有する光学素子を、プレス成形する方法において、隣酸（Ｐ_2 Ｏ_5 ）の含有率がモル比で２０％以上である隣酸系ガラスを、成形用ガラス素材として用いることを特徴とする。 - 特許庁

In the method of manufacturing this rolled H-shaped steel in which breakdown rolling, intermediate rolling to use a rough universal mill and an edger mill, and finish rolling to use a finishing universal mill are sequentially changed on an H-shaped beam blank, the roll position is continuously changed at the rough universal mill or the finishing universal mill.例文帳に追加

この圧延Ｈ形鋼は、Ｈ形粗形鋼片に、ブレークダウン圧延、粗ユニバーサルミルとエッジャーミルを用いる中間圧延、仕上ユニバーサルミルを用いる仕上圧延を順次施すＨ形鋼の製造方法において、粗ユニバーサルミルあるいはさらに仕上ユニバーサルミルでロール位置を連続的に変化させることにより製造する。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a glass gob by which the glass gob having a complicated shape such as doughnut shape can be obtained by dividing molten glass while keeping the shape of the glass gob flowed out of a nozzle and the glass gob free from cut marks can be obtained, and to provide an apparatus for manufacturing a glass blank, and a method for dividing the molten glass.例文帳に追加

ノズルから流出したガラスゴブの形状を崩すことなく熔融ガラスを分断して、ドーナツ形状等の複雑形状のガラスゴブを得るとともに、得られたガラスゴブに切断した痕跡が残らないという、ガラスゴブ製造装置、ガラスブランクス製造装置及び熔融ガラスの分断方法を提供する。 - 特許庁

To provide a print controller, a registration print data registeration method for the print controller, a program and a printer capable of registering a registration print data without requiring work for a user to prepare an image added with a blank data, as to the registration print data added to a terminal end of a receipt to be printed.例文帳に追加

本発明は、レシートの末尾に付加して印刷する登録印刷データに対して、ユーザが予め余白データを付加した画像を作成する作業を必要とせずに登録印刷データを登録することができる印刷制御装置、印刷制御装置の登録印刷データ登録方法、プログラムおよび印刷装置を提供することをその課題とする。 - 特許庁

To provide a reflection type photomask blank including a reflection prevention film having a reflection preventing function for the whole inspection light of a wavelength range of 190-260 nm and enabling the reflection prevention film applied to a pattern non-open portion of a reflection type photomask to be easily manufactured, and to provide the reflection type photomask and a method for manufacturing the reflection type photomask.例文帳に追加

反射型フォトマスクのパターン非開口部にかかる反射防止膜の製造を容易に行うことができ、且つ、波長範囲１９０ｎｍ〜２６０ｎｍの検査光全てに対して反射防止機能を有する反射防止膜を具備する反射型フォトマスクブランク及び反射型フォトマスク、並びに反射型フォトマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective mask with a light blocking region capable of minimizing overexposure in the exposure field boundary on a wafer by enhancing the light blocking properties of the light blocking region on a reflective mask while eliminating the risk of damaging a transfer pattern, and to provide a reflective mask blank and a method of manufacturing a reflective mask.例文帳に追加

本発明は、転写パターンに損傷を及ぼす危険性を解消しつつ、反射型マスク上の遮光領域の遮光性を高めてウェハ上の露光フィールド境界部のオーバー露光を抑制できる遮光領域を有する反射型マスク、反射型マスクブランクス、および反射型マスクの製造方法を提供することを目的とするものである。 - 特許庁

To provide a printed matter inspecting apparatus which can accurately detect original printing defects such as duplicative printing, missing pages, blank characters or printing smudges not to be permitted as a printed matter by preventing printing position deviation of a degree permissible as the printed matter from being detected as the printing defect, and to provide a printed matter inspecting method.例文帳に追加

印刷物として許容される程度の印刷位置ズレを印刷不良として検出することを防止し、印刷物として許容されるべきでない印刷の重複、落丁、文字欠け、印刷汚れ等の本来の印刷不良を精度よく検出することができる印刷物検査装置、及び印刷物検査方法を提供する。 - 特許庁

According to the method of the invention for recording information on a write once-read many optical recording medium, the pulse pattern of a laser beam for forming a first recording mark is set based on at least one of the length of a blank area disposed after the first recording mark and the length of a second recording mark formed after the first recording mark.例文帳に追加

本発明による追記型光記録媒体への情報記録方法は、第１の記録マークを形成するためのレーザビームのパルスパターンを、前記第１の記録マークの後に設けられるブランク領域の長さ及び前記第１の記録マークの次に形成される第２の記録マークの長さの少なくとも一方に基づいて設定する。 - 特許庁

In this image forming method printing a character data file of a variable-length page, when the integration print mode for printing N pieces of documents on one piece of recording paper is selected, a document format is adjusted so as to have minimum blank of printed matter one which the character data file is printed, and to format the character data file.例文帳に追加

可変長ページの文字データファイルを印刷する画像形成方法において、１枚の記録紙にＮ枚の原稿を配置して印刷する集約印刷モードが選択されると、前記文字データファイルを印刷した印刷物の空白が最も小さくなるように、原稿書式を調整して前記文字データファイルを書式化するようにした。 - 特許庁

The method has a positioning stage 120, a primary molding stage 130, a secondary molding stage 140, a tertiary molding stage 150, and a carrying-out stage 160 in order to mold the paper tray 1 by folding the paper blank material 1A which has an adhesive film on one surface and is provided with the prescribed folding ruled line along the ruled line.例文帳に追加

一方面に接着フィルムを備え、所定の折り曲げ罫線が設けられた紙製のブランク材１Ａを、上記折り曲げ罫線に沿って折り曲げることにより、紙製トレイ１を成型するため、位置決めステージ１２０、一次成型ステージ１３０、二次成型ステージ１４０、三次成型ステージ１５０、および、搬出ステージ１６０を備える。 - 特許庁

In the method for manufacturing the hollow body of polygonal section, performing the enlargement of diameter and the formation with the press for forging, A flat plate-shaped upper anvil at the outside of a hollow blank, and a flat-shaped lower anvil at the inside thereof, are used and the hollow body of polygonal section is produced by performing the formations of the side part and the corner part.例文帳に追加

鍛造用プレスにより拡径および成形を行う多角形断面中空体の製造方法であって、中空状の素材の外側に平板状の上金敷を、内側に平板状の下金敷を用いて、辺部の成形と角部の成形を行う多角形断面中空体の製造方法およびそれにより得られる多角形断面中空体。 - 特許庁

In this method for manufacturing a wheel nut, a blank B having a prescribed length dimension is cut out from an ASTM G9 titanium alloy bar subjected to softening, annealing and peeling, and is subjected to cold forging to be formed into a nearly wheel nut shape, thereafter finishing is executed succeeding the execution of thread cutting and outer profile forming.例文帳に追加

ホイールナットを製造するに際して、軟化焼鈍およびピーリングを施したＡＳＴＭ Ｇ９のチタン合金棒から所定長さ寸法のブランク材Ｂを切り出し、ブランク材Ｂに対して冷間鍛造加工を施して略ホイールナット形状に成形した後、ねじ成形加工および外形成形加工を行うのに続いて仕上げ加工を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reflective mask, which can simply form a light shielding region and can achieve highly accurate pattern transfer, without increasing a manufacturing process such as resist coating, drawing, developing and etching, and without needing to prepare a special mask blank; an ion beam device for the reflective mask; and the reflective mask.例文帳に追加

本発明は、レジスト塗布、描画、現像、エッチング等の製造工程を増やすことなく、特殊なマスクブランクを準備する必要もなく、簡便に遮光領域を形成することが可能であり、高精度なパターン転写を実現することが可能な反射型マスクの製造方法、反射型マスク用イオンビーム装置、および反射型マスクを提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a method and device for installing and removing easily a printing plate on a printing machine by a shell type at installing the plate on a plate cylinder and for decreasing the man-hours required for the operations remarkably and for saving the amount of a printing paper by decreasing the blank space of a print due to decreasing the distance between both ends of the mounted printing plate as well.例文帳に追加

ウェブ凹版輪転印刷機において、版胴に版面を取り付ける際に、シェル形式によって、印刷機上で版面の取り付け、取り外しを容易とし、その作業に要する工数を大幅に省くとともに、取り付ける版面両端間の間隙を縮小することにより、印刷物の余白を縮小して印刷用紙の節約を計る。 - 特許庁

A punched plate 21 of 2.9 mm in plate thickness discharged in a process of manufacturing a large-sized tapered roller bearing cage 10 is used as a blank, and the plate thickness is thinned by an ironing-spinning method to manufacture a tapered roller bearing cage 20 of 2.0 mm in wall thickness smaller than the tapered roller bearing cage 10.例文帳に追加

大型の円すいころ軸受用保持器１０の製造工程において排出された板厚が２．９ｍｍの打抜き板２１をブランクとして使用して、しごきスピニング加工法により板厚を薄肉化することにより、円すいころ軸受用保持器１０よりも小型の肉厚２．０ｍｍの円すいころ軸受用保持器２０を製造した。 - 特許庁

The method for manufacturing a photomask blank having at least a film for forming a mask pattern on a transparent substrate includes a film forming process for sputter-forming the film for forming the mask pattern by causing a sputtering atmosphere to contain at least helium gas and a process for heating the transparent substrate during or after the film forming process.例文帳に追加

透明基板上にマスクパターンを形成するための膜を少なくとも有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記マスクパターンを形成するための膜を、スパッタリング雰囲気中に少なくともヘリウムガスを含有させてスパッタ成膜を行う成膜工程と、前記成膜工程の間又は後に前記透明基板を加熱する工程をと有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing a mask blank includes steps of dropping a resist solution 13 containing a resist material and a solvent onto a square substrate 2, rotating the substrate 2 to spread the dropped resist solution 13 over the substrate 2, and drying the resist solution 13 on the substrate 2 to form a resist coating film comprising the resist material on the substrate 2.例文帳に追加

四角形状の基板２上に、レジスト材料及び溶剤を含むレジスト液１３を滴下し、前記基板２を回転させ、滴下されたレジスト液１３を前記基板２上に広げるとともに、前記基板２上のレジスト液１３を乾燥させて、前記基板２上に前記レジスト材料からなるレジスト塗布膜を形成する工程を有するマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁

The method for manufacturing the photomask blank having at least a film for forming a mask pattern on a transparent substrate comprises a film forming process for sputter-forming the film for forming the mask pattern by containing at least helium gas in sputtering atmosphere and a process for heating the transparent substrate during or after the film forming process.例文帳に追加

透明基板上にマスクパターンを形成するための膜を少なくとも有するフォトマスクブランクの製造方法において、前記マスクパターンを形成するための膜を、スパッタリング雰囲気中に少なくともヘリウムガスを含有させてスパッタ成膜を行う成膜工程と、前記成膜工程の間又は後に前記透明基板を加熱する工程をと有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a mask substrate, in particular mask blank, and a manufacturing method of a mask substrate for lithography that can form a film that absorbs or scatters both the X-ray and the electron beam without deteriorating the crystallinity of the diamond film formed on a supporting substrate.例文帳に追加

支持基板上にダイヤモンド膜を形成したダイヤモンド基板上へのＸ線あるいは電子線等の吸収体膜もしくは散乱体膜の製膜工程において、ダイヤモンド膜の結晶性を劣化させることなく、容易に吸収体膜もしくは散乱体膜の製膜を行うことができるリソグラフィ用マスク基板の製造方法及びマスク基板、特にマスクブランクスを提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer halftone type phase shift mask in which a transmittance suppression effect that develops according to a high transmittance layer having occurred when using a halftone type phase shift mask comprising a conventional two layer or multilayer film in the wavelength range of 140-200 nm including the wavelength 157 nm of an F_2 excimer laser, does not become a problem; and also to provide a manufacturing method of the mask blank.例文帳に追加

Ｆ_2エキシマレーザの波長１５７ｎｍを含む１４０〜２００ｎｍの波長範囲において、従前の２層又は多層膜からなるハーフトーン型位相シフトマスクを使用する上で生じていた、高透過率層に付随して発現してしまう透過率抑制効果が問題とならないような、多層型ハーフトーン型位相シフトマスク及びそのマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁

The method for producing the mask blank includes steps of dropping a resist solution 13 containing a resist material and a solvent onto a square substrate 2, rotating the substrate 2 to spread the dropped resist solution 13 over the substrate 2, and drying the resist solution 13 on the substrate 2 to form a resist coating film composed with the resist material on the substrate 2.例文帳に追加

四角形状の基板２上に、レジスト材料及び溶剤を含むレジスト液１３を滴下し、前記基板２を回転させ、滴下されたレジスト液１３を前記基板２上に広げるとともに、前記基板２上のレジスト液１３を乾燥させて、前記基板２上に前記レジスト材料からなるレジスト塗布膜を形成する工程を有するマスクブランクの製造方法である。 - 特許庁